P. 1
ebook pelapisan tambaga nikel krom

ebook pelapisan tambaga nikel krom

4.84

|Views: 6,749|Likes:
Published by pakde jongko
Diktat ini adalah diktat yang sederhana dan hanya merupakan saduran dari beberapa buku, juklak yang sudah ada. Di dalamnya ada sedikit tentang prinsip lapis listrik (Elektroplating) yang mudah untuk difahami. Beberapa proses pelapisan dari tembaga, seng sampai emas dibahas secara ringkas saja, sehingga memudahkan untuk dicerna dan dimengerti.
Pemahaman menyeluruh terhadap diktat ini tidak langsung menjadikan seseorang yang ahli dalam lapis listrik apalagi menjadi ahli kimia, hanya sekedar mengenal dan memahami prinsip dasar lapis listrik dan proses yang terkait saja.
Pada kenyataannya lapis listrik merupakan sains yang praktis maka pengetahuan know how tidak dapat dianggap enteng karena pengalaman dan eksperimen menentukan keahlian seseorang dalam bidang ini. Walaupun merupakan sains praktis tetapi pengetahuan untuk mengembangkan dan pengetahuan dasar yang disebut know why tidak boleh dilupakan. Keduanya baik praktis maupun teoritis adalah bangunan sains yang dapat digunakan dan dimanfaatkan.
Tentu saja, diktat ini tidak terlepas dari kesalahan dan kekurangan karena rumusan yang beragan dari proses finishing logam. Pembaca budiman dianjurkan membaca diktat lain yang membahas topik yang sama. Saran dan kritik apapun menjadi dorongan dan tantangan penulis dengan senang hati menjadi bahan pertimbangan penulis.
Diktat ini adalah diktat yang sederhana dan hanya merupakan saduran dari beberapa buku, juklak yang sudah ada. Di dalamnya ada sedikit tentang prinsip lapis listrik (Elektroplating) yang mudah untuk difahami. Beberapa proses pelapisan dari tembaga, seng sampai emas dibahas secara ringkas saja, sehingga memudahkan untuk dicerna dan dimengerti.
Pemahaman menyeluruh terhadap diktat ini tidak langsung menjadikan seseorang yang ahli dalam lapis listrik apalagi menjadi ahli kimia, hanya sekedar mengenal dan memahami prinsip dasar lapis listrik dan proses yang terkait saja.
Pada kenyataannya lapis listrik merupakan sains yang praktis maka pengetahuan know how tidak dapat dianggap enteng karena pengalaman dan eksperimen menentukan keahlian seseorang dalam bidang ini. Walaupun merupakan sains praktis tetapi pengetahuan untuk mengembangkan dan pengetahuan dasar yang disebut know why tidak boleh dilupakan. Keduanya baik praktis maupun teoritis adalah bangunan sains yang dapat digunakan dan dimanfaatkan.
Tentu saja, diktat ini tidak terlepas dari kesalahan dan kekurangan karena rumusan yang beragan dari proses finishing logam. Pembaca budiman dianjurkan membaca diktat lain yang membahas topik yang sama. Saran dan kritik apapun menjadi dorongan dan tantangan penulis dengan senang hati menjadi bahan pertimbangan penulis.

More info:

Published by: pakde jongko on Feb 13, 2009
Copyright:Attribution Non-commercial

Availability:

Read on Scribd mobile: iPhone, iPad and Android.
download as DOC or read online from Scribd
See more
See less

04/30/2014

KATA PENGANTAR Diktat ini adalah diktat yang sederhana dan hanya merupakan saduran dari beberapa buku

, juklak yang sudah ada. Di dalamnya ada sedikit tentang prinsip lapis listrik (Elektroplating) yang mudah untuk difahami. Beberapa proses pelapisan dari tembaga, seng sampai emas dibahas secara ringkas saja, sehingga memudahkan untuk dicerna dan dimengerti. Pemahaman menyeluruh terhadap diktat ini tidak langsung menjadikan seseorang yang ahli dalam lapis listrik apalagi menjadi ahli kimia, hanya sekedar mengenal dan memahami prinsip dasar lapis listrik dan proses yang terkait saja. Pada kenyataannya lapis listrik merupakan sains yang praktis maka pengetahuan know how tidak dapat dianggap enteng karena pengalaman dan eksperimen menentukan keahlian seseorang dalam bidang ini. Walaupun merupakan sains praktis tetapi pengetahuan untuk mengembangkan dan pengetahuan dasar yang disebut know why tidak boleh dilupakan. Keduanya baik praktis maupun teoritis adalah bangunan sains yang dapat digunakan dan dimanfaatkan. Tentu saja, diktat ini tidak terlepas dari kesalahan dan kekurangan karena rumusan yang beragan dari proses finishing logam. Pembaca budiman dianjurkan membaca diktat lain yang membahas topik yang sama. Saran dan kritik apapun menjadi dorongan dan tantangan penulis dengan senang hati menjadi bahan pertimbangan penulis. Diktat ini hanya untuk kalangan sendiri

ATW

DAFTAR ISI Kata Pengantar Daftar Isi Bab. I. Pendahuluan a. Pengertian Lapis Listrik b. Istilah dalam Lapis Listrik c. Hukum Faraday Bab.II. Prinsip Kerja dan Kondisi Lapis Listrik. a. Prinsip Kerja b. Kondisi Operasi Lapis Listrik Bab.III.Peralatan Lapis Listrik dan pekerjaan pendahuluan 1. Peralatan a. Rectifier ( Trafo DC ) b. Bak c. Rak dan Barel d. Pendinginan dan Pemanasan e. Penyaringan f. Pengadukan 2. Pekerjaan Pendahuluan a. Pembersihan Mekanis. b. Alkaline Degreasing. c. Acid Pickling. Bab.IV. Pelapisan Listrik ( Elektroplating ) a. Dip Zinc b. Sealing Alumunium c. Tembaga Cyanid d. Nikel e. Khrom

BAB I PENDAHULUAN A. PENGERTIAN DAN FUNGSI PELAPISAN Lapis listrik (electroplating) adalah suatu proses pengendapan logam pada permukaan suatu logam atau non logam (benda kerja), secara elektrolisa. Endapan yang terjadi bersifat adhesif terhadap logam dasar. Dalam teknologi pengerjaan logam, proses lapis listrik termasuk ke dalam proses pengerjaan akhir (metal finishing). Adapun fungsi dari pelapisan logam adalah sebagai berikut : 1. Memperbaiki penampilan (dekoratif) Misalnya : pelapisan emas, perak, kuningan, dan tembaga. 2. Melindungi logam dari korosi, yaitu;  Melindungi logam dasar dengan logam yang lebih mulia, misalnya : pelapisan platina, emas dan baja.  Melindung logam dasar dengan logam yang kurang mulia, misalnya pelapisan seng pada baja 3. Meningkatkan ketahanan produk terhadap gesekan (abrasi), misalnya pelapisan chromium keras. 4. Memperbaiki kehalusan atau bentuk permukaan dan toleransi logam dasar, misalnya : pelapisan nikel, cromium. 5. Elektroforming, yaitu: membentuk benda kerja dengan cara endapan. B. ISTILAH ISTILAH DALAM LAPIS LISTRIK Seperti pada proses – proses metal finishing lainnya, banyak istilah yang perlu difahami sehingga dalam penerapannya akan memberikan masukan yang tepat dan jelas perbedaan antara yang satu dengan yang lainnya. Istilah tersebut antara lain adalah : 1. Elektroda : suatu terminal dalam larutan elektrolit dimana aliran listrik mengalir ke dan dari larutan elektrolit . 2. Anoda : elektroda positif yang padanya terjadi pelepasan ion negatif dan membentuk ion positif (terjadi reaksi oksidasi).

3. Katoda : elektroda negatif yang padanya terjadi pelepasan ion positif dan membentuk ion negatif (terjadi reaksi reduksi). 4. Elektrolit : zat – zat yang molukel – molukelnya dapat larut dalam air dan terurai menjadi zat – zat (atom – atom) yang bermuatan positif atau negatif. 5. Ion : Zat yang terurai, dimana atom atau molukelnya bermuatan listrik positif atau negatif. Zat yang bermuatan negatif disebut anion (ion negatif) dan zat yang bermuatan listrik positif disebut kation (ion positif). 6. Lumpur anoda (anoda slim) : sisa zat yang tidak larut dihasilkan di anoda dan mengotorinya. 7. Lepuh (blister) : pembengkakan pada bagian tertentu dari hasil pelapisan karena daya lekat (adesi) lapisan yang kurang baik. 8. PH : logaritma dari konsentrasi asam dengan tanda negatif. pH ini dipakai untuk menentukan derajat keasaman suatu asam .Dalam elektroplating pH pOH + . 9. Inhibitor : bahan yang dapat mengurangi pemakan atau perusakan oleh asam pada bak . 10. Pickling (cuci asam) : suatu cara menghilangkan karatan pada benda kerja dengan larutan asam . 11. Rapat arus (current density) : jumlah arus yang mengalir perluas unit elektroda . 12. Efisiensi arus (currant efficiency) :perbandingan antara jumlah teoritis arus listrik yang akan terpakai dengan jumlah arus listrik yang sebenarnya terpakai. 13. Hydrogen embritlement (kerapuhan hidrogen) : kegetasan pada benda kerja akibat dari penyerapan gas hidrogen pada proses pickling dan pelapisan. 14. Stop – off material : suatu bahan yang berfungsi menutupi hasil pelapisan. 15. Degreasing (pencucian lemak) : pembersihan permukaan logam dari minyak, lemak atau zat organik lainnya dengan dengan larutan alkalin. 16. Brigtener (bahan pengkilap) : zat tambahan yang bersifat membentuk lapisan agar lebih mengkilap atau yang memperbaiki kecemerlangan di atas endapan / lapisan .
+

berarti juga

C. HUKUM FARADAY Dengan adanya arus listrik yang mengalir ke dalam larutan elektrolit, maka terjadilah pergerakan dan pembebasan ion-ion. Hubungan antara jumlah arus listrik yang mengalir dengan jumlah zat yang dibebaskan di dalam larutan tersebut dinyatakan oleh Michael Faraday dalam hukumnya : 1. Jumlah zat-zat yang terbentuk pada elektroda pada suatu cell sebanding dengan jumlah arus yang mengalir . 2. Jumlah zat-zat yang dihasilkan oleh arus yang sama dadalam cell yang berbeda adalah sebanding dengan berat ekuivalen masing-masing zat itu . B = I. t. e F Dimana : B I = Berat zat yang terbentuk (gram) = Jumlah arus yang mengalir (amper)

T = waktu mengalir (detik) E = Berat ekivalen zat yang dibebaskan (berat atom suatu unsur dibagi valensi unsur tersebut) Hukum faraday sangat erat kaitannya dengan efisiensi arus yang terjadi pada proses pelapisan secara listrik. Jika dihubungkan dengan hukum faraday maka efisiensi arus adalah perbandingan berat endapan yang terjadi dengan berat endapan teoritis. Sehingga efisiensi arus dinyatakan dalam persen. Pada praktek sebenarnya hukum faraday digunakan untuk menghitung biaya pelapisan logam. Dengan hukum faraday yang menjelaskan banyaknya logam yang mengendap besarnya nilai rupiah logam yang mengendap menjadi lebih mudah untuk dihitung.

BAB II PRINSIP KERJA DAN KONDISI LAPIS LISTRIK A. PRINSIP KERJA LAPIS LISTRIK Pelapisan logam dengan cara listrik adalah merupakan rangkaian dari sumber arus listrik, anoda larutan elektrolit dan katoda. Semua gugusan tersebut disusun sedemikian rupa sehingga membentuk suatu sistem lapis listrik dengan rangkaian sebagai berikut: • • • Anoda dihubungkan dengan kutub positif dari sumber arus listrik . Katoda dihubungkan dengan kutub negatif dari sumber arus listrik . Anoda dan katoda direndam dalam larutan elektrolit. Jika arus listrk dialirkan maka pada katoda akan terjadi endapan (pelapisan logam). 1. Sumber arus listrik Sumber arus listrik yang digunakan pada proses pelapisan secara listrik adalah arus searah (DC) dengan tegangan rendah, tegangan yang diperlukan berkisar antara 6-12 volt. Untuk mendapatkan arus listrik tersebut digunakan rectifier dimana arus yang dikeluarkan dari rectifier ini bersifat arus searah, tegangan rendah dan konstan serta arus yang mengalir (amper) besar dan dapat divariasikan . 2. Anoda. Adalah suatu terminal positif dalam larutan elektrolot dan terbagi dalam dua golongan, yaitu : a. Anoda yang larut (soluble anoda), contohnya anoda nikel dan anoda zinc. b. Anoda yang tidak larut (unsoluble anoda) contohnya; anoda Pb pada pelapisan kromium. Anoda yang tidak larut berfungsi sebagai penghantar arus listrik saja, sedangkan anoda yang larut berfungsi selain penghantar arus listrik juga sebagai bahan baku pelapis.

3. Larutan elektrolit Larutan elektrolit dapat dibuat dari asam, basa atau garam. Tiap jenis pelapisan, larutan elektrolitnya berbeda beda tergantung jenis logam pelapisnya maupun sifat–sifat elektrolit yang diinginkan. Sebagai contoh pelapisan tembaga, larutan elektrolit yang digunakan dari garam CuSO4 dan air H2O. Larutan akan terurai seperti berikut ini : CuSO4 H2O 4. Katoda Pada proses lapis listrik , katoda dapat diartikan sebagai benda kerja (garapan) yang akan dilapis. Maka garapan bertindak sebagai katoda atau bersifat penerima ion. Untuk lebih jelasnya rangkaian sistem lapis listrik tersebut diatas dapat dilihat pada gambar dibawah ini ↔ Cu++ + SO4¯ ↔ H+ + OH¯

V

Sumber arus

Anoda Katoda
Gambar 1.Rangkaian Proses Lapis listrik Untuk menjelaskan proses kerja pelapisan, dimisalkan pelat baja yang akan dilapis dengan tembaga Cu . Larutan tembaga yang akan digunakan adalah CuSO4 dan air H2O. Anoda dan katoda (garapan) dimasukkan dalam larutan elektrolit tersebut dan dialiri arus lstrik searah dimana anoda dihubungkan ke kutub positif dan katoda ke kutub negatif, maka akan terjadi perbedaan potensial antara katoda dan anoda. Dari proses tersebut logam tembaga akan terurai kedalam larutan elektrolit yang juga mengandung ion-ion tembaga, kemudian melalui larutan elektrolit ion-ion tembaga

akan terbawa dan mengendap pada permukaan katoda (garapan) dan berubah menjadi atom tembaga. Agar lebih jelasnya dapat dilihat pada gambar 2.

Pelat baja

Tembaga

Gambar. 2. Proses lapis listrik Dengan demikian disini terjadi reaksi reduksi ion tembaga menjadi logam tembaga, menjadi logam tembaga . CuSO4 H2O ↔ Cu++ + SO4¯ ↔ H+ + OH¯

Cu++ + 2e → Cu↓ Kuper Sulfat : Cu SO4 (trusi) Formalin : Cu Sedangkan ion-ion H+ sebagian kecil akan mengendap pada benda kerja dan sebagian besar akan menguap menjadi gas H2. H+ + 2e → H H + H → H2 Hidrogen ( H ) yang mengendap inilah yang perlu diperhatikan karena gas tersebut akan menyebabkan cacat lapisan yang biasa disebut “ Hydrogen embrittlement”.

Gambar.3. Reaksi yang terjadi sewaktu pelapisan

Pada anoda terjadi reaksi : Cu - 2e¯ → Cu++ 4OH - 4e¯ →2H2O + O2 B. KONDISI OPERASI LAPIS LISTRIK Kondisi operasi lapis listrik dalam operasi pelapisan perlu diperhatikan, karena kondisi operasi sangat menentukan berhasil atau tidaknya proses pelapisan, serta mutu pelapisan yang dihasilkan. Kondisi – kondisi yang perlu diperhatikan adalah : 1. Rapat (current density) Rapat arus ada dua jenis / macam yaitu rapat arus katoda (cathode current density) dan rapat arus anoda (anoda current density). Dalam proses lapis listrik, rapat arus yang diperhitungkan ialah rapat arus katoda, yaitu banyaknya arus listrik yang dientukan untuk mendapatkan atom-atom logam pada tiap satuan barang (garapan) yang akan dilapis. Satuan rapat arus ini dinyatakan dalam Amp/dm2 atau Amp/in2 atau Amp/ft2. 2. Tegangan (voltage) Tegangan arus dalam proses lapis listrik dinyatakan dalam kondisi yang konstan yaitu tegangan tidak akan terpengaruhi oleh besar kecilnya amper. V I = -----R Dimana : I = banyaknya arus ( amper ) V = tegangan ( volt ) R = tahanan Sehingga untuk memvariabelkan amper, maka yang divariabelkan hanyalah tahanannya saja, sedangkan voltnya tetap.

3. Suhu Larutan Suhu larutan dapat mempengaruhi mutu lapisan, sebagai contoh pada pelapian chromium (Cr) dekoratif. Bila suhu larutan lebih rendah dari 45 ºC pada rapat arus 20 Amp/dm2, maka akan didapat lapisan chrom yang suram. Untuk itu rapat arus perlu diatur sedemikian rupa , sehingga mendapatkan lapisan sesuai dengan keinginan. 4. pH Larutan pH dipakai untuk menentukan derajat keasaman suatu larutan elektrolit dan dalam operasi lapis listrik pH berarti juga pOH. pH Larutan dapat diatur dengan alat ukur pH meter atau pH colourimete. Tujuan menentukan pH ini untuk melihat atau memeriksa kemampuan larutan dalam menghasilkan lapisan yang lebih baik.

BAB III PERALATAN LAPIS LISTRIK DAN PEKERJAAN PENDAHULUAN (PRE TREATMENT) A. PERALATAN LAPISANLISTRIK Peralatan utama yg diperlukan pada lapis listrik antara lain yaitu: 1. Rectifier Rectifier merupakan peralatan utama dalam proses pelapisan secara eletronik yang berfungsi sebagai sumber arus searah (DC) dan penurun tegangan. Pada saat sekarang ini rectifier sudah cukup efisien karena amper meter dan tahanan variabel berbentuk kesatuan dalam rectifier. Ada dua macam rectifier yang banyak digunakan industri - industri lapis listrik. yaitu: rectiafier selenium dan rectifier slikon 2. B a k Bak diperlukan untuk menampung atau tempat larutan elektrolit, larutan pencuci dan air pembilas. Bahan bak tergantung pada larutan yang ditampungnya dan diutamakan tahan terhadap akan terjadinya pengkaratan serta tahan pada suhu tertentu. Biasanya bahan bak terbuat dari baja yang bagian dalamnya di lapisi plastik, karet, FRT (glasfiber Remforced Polyster resin) atau semua terbuat dari PVC (Polyvinil Chloride Resin). 3. Rak atau Barrel Rak atau barrel berfungsi sebagai tempat barang yang akan dilapisi (katoda). Barrel biasanya digunakan untuk produk ukuran kecil, misalnya: baut, mur dan lainlain. Bentuk dan ukuran barrel ini telah mempunyai standar tertentu sesuai dengan kapasitas barang yang akan dilapis. Adapun rak biasanya digunakan untuk produk-produk berukuran besar dan bentuknya tergantung pada barang yang akan dilapis. Sedangkan bahan untuk rak ini digunakan bahan-bahan seperti tembaga, baja dan titanium.

B. PEKERJAAN PENDAHULUAN (PRE TREATMENT) Secara garis besarnya proses lapis listrikdapat dibagi dalam tiga tahap yaitu: - Tahap I - Tahap II - Tahap III : proses pengerjaan pendahuluan : proses pengerjaan lapis listrik : proses pengerjaan akhir

Dari urutan tersebut jelaslah bahwa sebelum melakukan proses pelapisan dan untuk mendapatkan hasil lapisan yang baik , maka logam dasar (benda kerja yang akan dilapis) harus bersifat bersih dalam arti bebas dari karat, minyak, cat dan pengotor lain sehingga perlu dilakukan pekerjaan pendahuluan / persiapan yaitu sebagai berikut: 1. Pembersih secara mekanis Pekerjaan ini bertujuan untuk menghaluskan permukaan dan mennghilangkan goresan-goresan dan geram-geram yang masih melekat pada benda kerja. Biasanya untuk menghilangkan goresan-goresan dan geram tersebut dilakukan dengan pekerjaan buffing yang prinsipnya seperti mesin gerinda, akan tetapi roda polesnya yang berbeda yaitu terbuat dari bahan katun, kulit, laken dan sebagainya. Proses pengerjaan ini tergantung pada kondisi benda kerja itu sendiri kadang-kadang memerlukan proses lain misalnya : brushing dan sebagainya. 2. Pencucian dengan alkalin (Degreasing) Pekerjaan ini bertujuan untuk membersihkan benda kerja dari lemak atau minyak tersebut sangat mengganggu pada proses pelapisan, karena mengurangi daya hantar listrik atau mengurangi kontak antara lapisan dengan logam dasar. pencucian dengan alkalin digolongkan ke dalam dua macam cara, yaitu dengan cara biasa (alkalin degreasing) dan dengan cara elektro (electrolitic degreasing). Pencucian secara biasa adalah dengan cara merendamkan benda kerja kedalam larutan alkalin dalam keadaan panas dalam 5-10 menit dan lamanya pencelupan harus disesuaikan dengan kondisi permukaan benda kerja. Seandainya lemak atau minyak yang menempel lebih banyak , maka dianjurkan lamanya pencelupan ditambah hingga permukaan bersih dari noda-noda tersebut. Benda kerja

yang dicuci dikatakan bersih, dapat dilihat setelah barang tersebut dibilas dengan air, maka air yang menempel akan terlihat bersatu. Larutan alkalin yang banyak digunakan adalah larutan alkalin yang hanya dibuat dari pencampuran NaOH (caustic soda) dengan air bersih dengan perbandingan 60 gram : 1 liter tetapi kecepatan dan hasil pencucian kurang begitu baik, sehingga kini industri-industri lapis listrik banyak menggunakan larutan jenis ini dengan komposisi seperti pada 1 tabel dibawah ini: Tabel 1 Komposisi Larutan pencuci dengan Alkalin (Alkalindegreasing) untuk Besi/Baja
Bahan kondisi 1 BAHAN - Caustic Soda (NaOH) - Sodium Carbonat (Na2CO3) - Sodium Arthosilicat (Na4SiO4) - Sodium Metasilicat (Na4SiO3) - Sodium phosphat (Na2PO4) KONDISI - Temperatur °C 20-40 0-10 1-3 60-80 20-30 15-20 1-2 60-80 50 50 1-2 30100 25 25 60-80 37.5 27.5 60-80 32.5 25 12.5 2.5 0.75 60-80 62.5 37.5 60-80 37.5 9.5 6.5 1.5 60-80 2 3 4 9/1 5 6 7 8

Pencucian secara elektro bertujuan selain akan didapatkan hasil pencucian yang lebih bersih juga meningkatkan kecepatan pencucian. Prinsip kerjanya dengan menggunakan arus listrik dan katoda maupun anodanya dipakai lempengan carbon. Bila barangnya yang akan kibersihkan ditempatkan pada arus positif (anoda) maka prosesnya disebut anoda cleaning, begitu pula sebaliknya. Adapun komposisi dan kondisi larutan pencuci alkalin untuk pencucian secara elektrolitik diperlihatkan pada tabel berikut ini :

Tabel 2 Komposisi dan kondisi larutan pencuci secara Elektro (Elektrolytic Degreasing) untuk Besi/Baja
9/1 Bahan kondisi BAHAN - Caustic Soda (NaOH) - Sodium Carbonat (Na2CO3) - Sodium Arthosilicat (Na4SiO4) - Sodium Metasilicat (Na4SiO3) - Sodium phosphat (Na2PO4) KONDISI - Temperatur °C - Current Density A/dm² - Waktu pencelupan (menit) Katoda Cleaning 20-30 30-50 10-20 1-2 60-80 10 1-2 Anoda Cleaning 7.5-15 30-45 15-30 1-2 60-80 10 1-2

Setelah proses ini selesai dikerjakan kemudian barang tersebut yang akan dilapis, dibilas dengan air bersih dan setelah dibilas barang sudah dapat melangkah pada proses berikutnya. 3. Pencucian dengan Asam (Pickling)

Pencucian dengan asam adalah bertujuan untuk membersihkan permukaan benda kerja dari oksida atau karat dan sejenisnya secara kimiawi melalui pencelupan. Larutan asam (pickling) ini diperoleh dari pencampuran air bersih dengan asam , antara lain yaitu: a. Asam chlorida (HCL) b. Asam sulfat (H2SO4)_atau c. Campuran H2SO4 dan asam Fluorida (HF) Reaksi pickling sebetulnya adalah elektrokimia dalam sel galvanis antara logam (anoda) dan (oksida). Gas H2 yang timbul dapat mereduksi Ferrioksida menjadi Ferro oktor yang mudah larut. Dalam reaksi ini biasanya diberikan inhibitor agar reaksi tidak terlalu cepat dan menghasilkan pembersihan yang merata. Ada dua jenis bahan inhibitor yang dikenal yaitu: - Bahan organik alam (natural organic) yaitu gelatine, lumpur, minyak, sfhaltum, sulfonate,coal tar, wood tar dan sebagainya. - Bahan organik sintetis (synthetic organic) yaitu: thioaldehyde, pyridine, quinidine, aldehyde dan sebagainya. Untuk logam dasar baja umumnya menggunakan asam chlorida (HCL) dengan kondisi sebagai berikut: - Konsentrasi - Suhu operasi - Lama pencelupan HCL : 3-12% x Volume : 40º C : 5-15 menit

Jika kondisi oksida benda kerja lebih berat, maka konsentrasi asam chlorida dapat dinaikkan menjadi 30% dari berat. Adapun keuntungan menggunakan larutan asam chlorida adalah: Menghasilkan keseragaman permukan pada benda kerja baja Mudah dibilas terjadinya over pickling lebih kecil Operasinya lebih mudah. Seperti diketahui lapisan oksida umunya terdiri dari beberapa ikatan, yaitu bagian luar adalah Fe2O3. Dengan demikian sewaktu pencucian akan terjadi reaksi-reaksi sebagai berikut :

Fe2 O3 + 2 HCL Fe3O4 FeO Fe + 8 HCL + 2 HCL + 2 HCL

2 FeCL2 + 3 H2O 2 FeCL2 + FeCL2 + 4 H2O FeCL2 FeCL2 + H2O + H2

Bila menggunakan larutan asam sulfat (H2SO4) , maka kondisinya untuk pencucian baja adalah: Konsentrasi H2SO4 Suhu operasi Waktu pencelupan :10 – 40% x volume : 60 – 90 °C : 5 -15 menit

Keuntungan menggunakan asam sulfat adalah: - Ongkos lebih murah - Pencemaran bau rendah/kecil Adapun reaksi-reaksi yang terjadi pada saat pencucian adalah sebagai berikut ini: Fe2O3 + 3 H2SO4 Fe3O4 + 4 H2SO4 FeO + H2SO4 Fe + H2SO4 Fe2 (SO4)3 + 3 H2O FeSO4 + Fe2 (SO4)3 + 4 H2O FeSO4 + H2O FeSO4 + H2O

Untuk barang-barang baja/besi cor yang mengandung sisa-sisa pasir dapat digunakan larutan campuran dari asam sulfat dan asam fluoboric, sebab larutan ini dapat berfungsi selain untuk menghilangkan oksida/serpihan juga dapat membersihkan sisa-sisa pasir yang nempel pada benda kerja, sedangkan komposisi dan kondisi operasinya adalah seperti pada tebel 3 dibawah ini . Tabel 3 Komposisi dan Kondisi Operasi Pencucian dengan H2SO4 dan HF

Bahan Asam sulfat (H2SO4) Asam fluoboric (HF) Temperatur Waktu Pencelupan

Komposisi/Kondisi 5 - 7% x volume 3 - 5% x volume 50 - 58°c 4 jam

setelah proses pencucian (pickling), maka benda kerja dibilas dengan air bersih dan selanjutnya melangkah keproses selanjutnya ,yaitu proses pelapisan. Benda kerja yang telah mengalami proses lapis listrik (pelapisan), perlu dibilas, dicuci bersih dan kemudian dikeringkan. kadang-kadang dilakukan proses lanjut seperti dipasifkan (pasiffating) atau diberi lapis pelindung yang transparan.

BAB IV PELAPISAN TEMBAGA, NIKEL DAN CHROMIUM A. PELAPISAN TEMBAGA (COPPER) Pelapisan tembaga banyak digunakan antara lain untuk memperoleh lapisan lapisan logam dengan tujuan: Sebagai lapisan perantara (dasar/strike) Sebagai lapisan dengan hantar panas dan arus listrik yang baik Digunakan dalam proses elektroforming Pelapisan perantara (strike) adalah suatu lapisan tipis dan berfungsi lapisan pendahuluan sebelum dilakukan pelapisan selanjutnya.Tebal lapisan berkisarantar 1 – 3 mikron. Bila logam dasar (benda kerja) terbuat dari baja (paduannya), biasanya pelapisan perantara perlu dilakukan. sedangkan untuk logam dasar tembaga (paduannya) , tidak perlu dilakukan karena unsur temabaga sudah ada. 1. Larutan Elektrolit Jenis larutan elektrolit dalam proses pelapisan tembaga ,dikelompokkan dalam dua jenis yaitu jenis alkali dan asam. Larutan elektrolit yang banyak digunakan dan mudah didapat dipasar di indonesia adalah sebagai berikut: a. Larutan jenis alkali: 1. Larutan sodium cynida: CuCN : 15 – 22,5 gr/l NaCN : 28 – 33,5 gr/l Na2CO3 :15 – 30 gr/l NaOH :disesuaikan dengan pH Kondisi operasi temperatur Rapat arus pH : 55 - 60°C :2,16 4,32A/dm2 : 12 – 12,6

2. Larutan sodium cyanid Rochelle salt: CuCN : 26,5 - 44gr/l NaCN : 34,5 – 55gr/l

Na2CO3 NaO

: 15 - 60gr/l :disesuaikan dengan pH

Anoda : katoda

: 1:1

Larutan ini sering juga digunakan untuk proses elektro forming. 2). Larutan copper sulfat rendah CuSO4 : 35 gr/l

Kondisi operasi temperatur : 70 - 80°C Rapat arus : 4,32 – 5,4 A/dm2 pH : 13 3. Larutan potasium cyanid CuCn : 60 gr/l NaCn : 95 gr/l Na2CO3 : 15 gr/l KOH : 42 gr/l Kondisi operasi Temperatus : 75 -80º C Rapat arus : 3,24 – 6.48 A/dm pH : lebih besar dari 12

NaOH Rochelle Salt Kondisi operasi Temperatur Rapat arus

: 80 gr/l : 150 gr/l

: 25 - 30°C : 1,5 A/dm2

b. Larutan jenis asam : 1. Larutan copper sulfat tinggi CuSO4 H2SO4 : 200 – 250 gr/l : 30 – 65 gr/l

3). Larutan copper fluorida Cu(BF4)2 HBF4 Kondisi operasi Temperatur : 27 - 77ºC : 7,5 – 35 A/dm2 : 0,6 – 1,5 : udara : 225 - 450 gr/l : disesuaikan pH

Kondisi operasi Temperatur Rapat arus Agitasi : 20 - 50ºC : 2 – 10 A/dm2 : udara

Rapat arus pH Agitasi

Kegunaan dari masing-masing larutan diatas cukup luas larutan jenis alkali banyak digunakan pada pelapisan baja (paduannya). Sedangkan jenis asam digunakan untuk mendapatkan lapisan yag tipis dan untuk produk-produk bukan baja. 2. Proses Pelapisan Tembaga Proses pelapisan tembaga pada prinsipnya sama seperti proses-proses pelapisan logam-logam lainnya yaitu mengikuti prinsip yang telah diuraikan dalam bab-bab

sebelumnya. Adapun langkah-langkah proses-proses pelapisan tersebut digambarkan seperti bagian aliran proses berikut ini :
Pekerjaan mekanis Pencucian lemak Pencucian asam

Bilas

PEKERJAAN PENDAHULUAN

Pengeringan

Bilas

Pelapisan tembaga

Bilas

Gambar 4 Bagian Aliran Proses Pelapisan Tembaga Untuk itu sewaktu penempatan anoda harus diperhatikan hal-hal sebai berikut :   Anoda hendaknya berhadapan langsung dengan barang yang akan dilapisi (katoda) Usahakan jarak antara anoda dan katoda 200 – 300 mm Langkah-langkah berikutnya ialah pengaturan suhu larutan sesuai yang ditentukan. Setelah suhu larutan elektrolit memenuhi kondisi yang diinginkan, aturlah rapat arus yaitu 2,16 – 4,32 A/dm2 yang berarti bawa setiap luas permukaan benda kerja sebasar 1 dm2 diperlukan arus 2,16 – 4,32 amper. Lamanya pelapisan tergantung pada ketebalan yang diinginkan biasanya berkisar antara 5 – 30 menit. Barang yang telah dilapis kemudian dibilas dan dilanjutkan dengan proses berikutnya (dikeringkan atau dilanjutkan dengan pelapisan nikel dan lainnya). 3. Pekerjaan Pendahuluan Pekerjaan pendahuluan meliputi, pembersihan secara mekanis,pencucian lemak, pembersihan karat dan pembilasan. Tembaga digunakan sebagai alas untuk melapisi baja terutama pada lapis nikel dan khrom. Semua lapis tembaga di atas baja dikerjakan dengan larutan sianid karena larutan lain cenderung membentuk endapan celup yang tidak melekat kuat beberapa kasus tembaga sianid digunakan sebagai lapis strike Kemudian diikuti dengan lapis tembaga asam atau pyrophospat yang kelebihannya dalam proses cepat juga mendayagunakan proses buffing dan

menghindari limbah ianid benda kerja yang akan dilapisi seng biasanya dilapis tembaga lebih dahulu karena nikel tidak bias diendapkan secara langsung .untuk bahan garapan dari aluminium dan magnesium tembaga sianid dan pyrophospat digunakan sebagai lapis strike pada hasil tersebut tembaga dilapiskan diatas endapan seng celup dan diikti nikel atau lapis logam lain B. PELAPISAN NIKEL Pelapisan nikel sangat luas digunakan industri-industri pelapisan.Umumnya lapisan nikel merupakan lpisan lanjutan dari lapisan tembaga dan di akhiri dengan lapisan seperti chromium emas dan lainya. Belakangan ini banyak produk-produk hanya dilapisi nikel saja tanpa dengan lapisan chromium. Hal ini disesuaikan dengan tujuan dan penggunaan produk dimana fungsinya berbeda. Lapisan seperti ini tebalnya bisa ditingkatkan sampai 20 mikron. Lapisan nikel dapat diklafisikasikan menurut larutan elektrolit yang digunakan. Klasifikasi lapisan nikel tersebut, sifat-sifat serta penggunaannya dapat dilihat pada tabel 4 dibawah ini. Tabel 4 Klasifikasi dan Penggunaan Pelapisan Nikel
LARUTAN PELAPIS (PLATING       SIFAT – SIFAT PENGGUNAAN Seperti watt’s bath atau sulfamate bath Pelapisan konvensional (biasa), kecepatan pelapisan tinggi, barrel plating, larutan standard untuk lapisan bright Kecepatan pelapisan rendah (0.5 A/dm2), lapisan tipis, barrel plating Butir lapisan lebih baik, lapisan lebih ulet (ductile) dibanding lapisan watt’s, mudah dalam pengerjaan buffing Pelapisan dengan anoda tidak larut, sebagai lapis permukaan Butiran lapisan baik, lapisan lebih halus dibanding larutan watt’s, kekuatan

BATH) Larutan pelapis mengkilap Larutan watt’s Nikel suram Larutan asam sulfat chloride Larutan all sulfat Larutan all chloride Larutan striking Larutan nikel hitam Larutan sulfamat Larutan fluoborat Larutan sulfat tinggi Larutan zialit Larutan garam kompleks Larutan komposit

tinggi perpanjangan rendah, tegangan tinggi  Pelapisan pada stainless steel, passivating logam-logam lainnya Pelapisan dekoratif  Kecepatan pelapisan tinggi  Untuk electroforming  Barrel plating
Pelapisan nikel langsung pada zinc alloy

Disebut juga seal nickel plating , Dasar dari microporous pelapisan chromium

1. Larutan Elektrolit

Jenis larutan elektrolit, lazimnya diberi nama berdasarkan unsur atau komposis kimia maupun sifat dari larutan tersebut.Berkaitan dengan itu klasifikasi diatas larutan eleltrolit pelapisan nikel dapat dinyatakan atau dikelompokan sebagai berikut : a. Pelapisan nikel suram atau dop (Dull nikel plating) 1).Dull nikel plating temperatur kamar : NiSo : 150 gr/l NH4Cl : 15 gr/l H3BO3 : 15 gr/l Kondisi operasi Temperatur : 20 - 30°C pH : 5,8 – 6,2 Rapat arus : 0,5 – 0,8 A/l Katoda : anoda : 2 : 1 2).Larutan Watt’s (Watt’s bath ) NiSO : 220 – 380 gr/l NiCl2 : 30 – 60 gr/l H3BO3 : 30 – 45 gr/l Kondisi operasi Temperatur : 45 - 65°C pH : rendah : 2 - 2,5 - sedang : 3,5 - 4 - tinggi : 4,8 – 5,2 Rapat arus : 2,5 – 10 A/dm2 Anoda : katoda : 1 :1 3). Larutan all sulfat ( All sulfat bath ) NiSO4 : 300 gr/l H3BO3 : 40 gr/l Konidisi operasi Temperatur : 54°C pH : 3–5 Rapat arus : 2,1 – 11 A/dm2 4.) Larutan sulfuric acid chlorid ( Sulfuric acid chlorid bath ) NiSO4 : 195 gr/l NiCl2 : 174 gr/l H3BO3 : 40 gr/l Kondisi operasi Remperatur : 45ºC pH : 1,5 Rapat arus : 2,5 – 11 A/dm2 5.) Larutan all chlorid ( All chloride bath ) NiSO4 : 240 gr/l H3BO3 : 30 gr/l Kondisi operasi Temperatur : 55 - 70°C pH : 2 Rapat arus : 2,5 – 11 A/dm2 b. Larutan lapisan nikel mengiklap ( Bright nikel plateing bath) 1.) Larutan dengan pH rendah NiSO4 : 330 gr/l NiCl2 : 45 gr/l H3BO3 : 30 gr/l Brightener I : 2 ml/l Brightener M : 1 – 2 ml/l

Dari bermacam-macam jenis larutan diatas yang sering digunakan adalah jenis atau proses.Watt’sbath. Karena adanya pertimbangan dibawah bahan-bahannya mudah didapat, ekonomis dan aman. 2. Proses Pelapisan Nikel Secara keseluruhan proses pelapisan nikel dapat dilihat pada bagian aliran proses gambar 5 dibawah ini . Langkah-langkah proses tersebut mencakup tahapan-thapan pengerjaan pendahuluan atau pelapisan dan pengerjaan akhir .

Pengerjaan pendahuluan

Bilas

Pelapisan Tembaga

Bilas

Pelapisan Nikel

Pelapisan Chromium Dll

Bilas

Pengeringan Gambar 5 Bagian aliran proses pelapisan nikel Pengerjaan pendahuluan meliputi: pembersihan secara mekanis, pencucian lemak, pembersihan karat dan pembilasan Pekerjaan ini sama seperti pekerjaan pendahuluan pada proses pelapisan tembaga yang sudah diuraikan pada bab sebelumnya . Bilamana logam dasar tersebut terbuat dari paduan tembaga seperti misalnya kuningan, perunggu, dan lainnya, pelapisan nikel setelah pekerjaan pendahuluan bisa langsung dilakukan. a. Operasi pelapisan Setelah logam dasar dilapis tembaga atau logam dasar yang mengandung unsur tembaga telah siap untuk lapisa nikel maka langsung dibilas dengan air. Untuk pelapisan pelapisan nikel sebagai dasar pelapisan chromium dekoratif, biasanya dugunakan lapisannikel yg mengkilap ( bright nikel plating ). Kompisisi larutan dan kondisi oprasi bright nikel plating adalah sebagai berikut NiSO4 NiCl2 H3BO3 Brightener I 80 brightener M 80 : 250 gr/l : 50gr/l : 40 gr/l : 3 ml/l : 2 ml/l Kondisi operasi Temperatur pH Rapat operasi Agitasi : 40 - 80°C : 4,5 - 6 : 3 A/dm2 : udara

Langkah-langkah operasi pelapisan dapat dilihat seperti yang telah diuraikan pada babbab sebelumnya maupun pada proses operasi pelapisan tembaga. Tetapai dalam operasi ini yang perlu diperhatikan yaitu pengecekan pH, karena larutan ini mempunyai kecenderungan

besar untuk menjadi alkalin. Begitu pula terhadap temperatur dan rapat arus perlu diperhatikan, karena akan mempengaruhi sifat-sifat dari lapisan Pada gambar 6, 7 dan 8 dijelaskan pengaruh pH,temeperatur, dan rapat arus terhadap sifat-sifat lapisan dari proses watt’s (Watt’s bath )

% Perpanjangan (inchi)

Kekerasan (Vickers) kekerasan perpanjangan Gambar 6 Pengaruh pH Terhadap Sifat-sifat Lapisan
P H 2 .0

P H 5 .0

% Perpanjangan (inchi)

Kekerasan (Vickers)

O

F

O

F

Kekerasan Perpanjangan

4 A / dm2 (pH 5.0) 5 A / dm2 (pH 2.0)

Gambar 7 Pengaruh Temperatur Terhadap Sifat-sifat Lapisan

Gambar 8 Pengaruh Rapat Arus Terhadap Sifat-sifat Lapisan Kekerasan: Pada temperatur yang lebih tinggi kekerasan hasil pelapisan krom semakin berkurang, khususnya pada temperatur 70 OC,demikian pula efisiensi arus katoda juga semakin turun. Berbeda untuk rapat arus yang makin tinggi akan menambah kekerasan dan efisiensi arus katoda Konsentrasi CrO3 tinggi kekerasan turun Temperatur

Brighness Faktor yang mempengaruhi adalah rapat arus, konsentrasi dan temperatur. C. PELAPISAN CHROMIUM Pelapisan chromium dapat diklasifikasikan dalam dua macam yaitu :  Pelapisan chromium dekoratif Pada pelapisan ini umumnya logam (benda kerja )terlebih dahulu dilapis dengan tembaga kemudian nikel dan akhirnya chromium tebal lapisan chromium kerkisar antara 0.25 – 0,5 mikron.  Pelapis chromium keras ( hard chromium Pelapisan ini sering industrial chromium yaitu pelapisan chromium yang memanfaatkan sifat-sifat chromium untuk mendapatkan sifat-sifat seperti : tahan panas, erosi, korosi dan koefesien rendah. Pada pelapisan chromium keras, chromium diendapkan pada logam dasar secara langsung tanpa melalui pelapisan perantara . lapisan chromium dekoratif. Berbeda dengan larut yaitu lead (Pb ). Komposisi kimia lead yang baik sebagai anoda adalah :  Lead dengan paduan antinomi Komposisi : Lead ( Pb ) Antimony ( Sb ) Tahan karat dan kekuatan tinggi  Lead dengan paduan TIN Komposisi Tahan korosi Logam-logam dasar yang merupakan paduan nikel seperti stainless steel, dapat langsung dilapis chromium. 1. Larutan Elektrolit Sampai saat ini jenis komposisi larutan pelapisan chromium baik pelapisan chromium dekoratif maupun keras adalah sebagai berikut : : Lead (Pb ) Tin ( Sn ) 93 % 7% 92 % 8% Biasanya lapisan ini lebih tebal dari lapisan tembaga dan nikel dimana logam

yang berfungsi sebagai anoda, sehingga dalam lapisan chromium digunakan anoda yg tidak

a. Larutan chromium acid asam sulfat CrO3 H2O3 250 – 400 gr/l 2,5 – 4 gr/l

2.)

CrO3 CH3COOH NiCl2 NaNO3 Kondisi operasi Temperatur Rapat arusan

: 200 gr/l : 6,5 gr/l : 80 gr/l : 5 gr/l

Kondisi operasi Temperatur Rapat arus 50 - 55°C 15 – 40 A/dm2

: 30 - 50°C : 100 A/dm2

b. Larutan chromic fluosolicat CrO3 H2SO4 Na2 SiF : 250 gr/l : 0,8 – 1 gr/l : 2 – 3 gr/l

Kondisi operasi Temperatur Rapat arus : 48 - 50ºC : 20 – 50 A/dm2

c. Larutan chromic CrO3 H2SO3 KF Kondisi operasi Temperatur Rapat arus : 45 – 50°C : 23 – 46 A/dm2 : 150-200 gr/l : 1,3 -0,8 gr/l : 0,6 – 0,8 gr/l

d. Larutan black chromium 1.) CrO3 : 250 – 400 gr/l CH3 COOH : 3 gr/l CO (NH 2)2 : 3 gr/l Kondisi operasi Temperatur Rapat arus : 25ºC : 50 A/dm2

2. Operasi Pelapisan Dalam uraian tentang operasi pelapisan chromium, yang akan dibahas atau diuraiakan disini adalah pelapisan chromium dekoratip. Hal ini berkaitan dengan banyaknya produk-produk dipasaran adalah lapisan chromium dekoratip. Disamping itu adanya hubungan dengan lapisan perantara yang diuraikan sebelumnya . Aliran proses pelapisan chromium dekoratif dapat dilihan pada gmbar 9 bagian aliran proses pelapisan chromium dekoratif. Pekerjaan Pendahuluan Bilas Pelapisan Tembaga Bilas

Bilas Pengeringan

Pelapisan Chromium

Bilas Bilas

Pelapisan Nikel

Gambar . 9 Bagian Aliran Proses Pelapisan Chromium Dekoratip Untuk mendapatkan lapisan chromium yang mengkilap kondisi operasi terutama rapat arus dan suhu larutan merupakan faktor penting untuk diperhatikan. Apabila rpat arus dan suhu dilur ketentuan yang ada, dapat mengakibatkan hasil lapisan suram ,sebab setiap larutan mempunyaiGG karakteristik masing-masing, akibat dari Hubungan antara rapat arus dan suhu larutan serta hasil lapisan yang didapat dari tiap-tiap larutan dapat dilihat pada gambar 10 dibawah ini.

S U H U ºC

Rapat arus,Ampere/dm² Keterangan : : Daerah lapisan mengkilap untuk larutan CrO3 : 250 gr/l (21°Br ) H2SO4 : 2,5 : Daerah lapisan mengkilap untuk larutan CrO3 : 400 gr/l (31°Br ) H2SO4 : 4 : Daerah lapisan mengkilap pada umumnya gambar 10 Hubungan Kondisi Operasi dengan Hasil Lapisan Dari gambar diatas dapat dilihat batas-batas rapat arus dan suhu larutan untuk men – dapatkan lapisan chromium yang mengkilap. Biasanya bila konsentrasiCrO3 = 250 gr/l dengan H2SO4 = 2,5 gr/l maka suhu larutan = 40°c , dan rapat arus berkisar 3,1 – 15,5 A/dm2.Bila suhu larutan mencapai 40°c maka rapat arus perlu waktu dinaikkan 50%. Seperti dijelaskan diatas bahwa untuk merubah larutan chromic acid murni kelarutan pelapisan chromium diperlukan sebuah katalis. Terlalu banyak katalis yang diberikan akan mendapatkan lapisan yang tidah merata berwarna browan oxide serta akan mengakibatkan turunnya throwing power. Untuk itu perbandingan kosentrasi chromic acid dan katalis ( H2SO4 ) harus sering kontrol.

Katalis larutan fluoride dan fluocroslicote mempunyai sifat meningkat currenteffisiency dengan tambahannya konsentrasi chromic acid dengan current density ( rapat arus ). . Sifat-sifat tersebut diperlihatkan pada 11 dengan tanpamelukiskan hubungan temperatur

gambar 11 Sifat-sifat Katalis dari tiap-tiap larutan Pelapisan chromium Derajat keasaman larutan dapat ditentukan dari kadar CrO3 perliter larutan (kosentrasi CrO3 ). Semakin tinggi kosentrasinya CrO3 semakin kecil angka pH, hal ini berarti semakin asam larutan tersebut. Sebaliknya semakin rendah konsentrasinya CrO3 , semakin besar angka pH nya, hal ini berarti semakin kurang kesamaan larutan tersebut. Untuk konsentrasi CrO3 = 247 gr/l maka pH larutan + - 0,3 sedangkan untuk konsentrasi CrO3 = 450 gr/l , pH larutan + - 0,5 pada suhu 25ºc. Pada gambar 12 dibawah ini dapat dilihat hubungan antara konsentrasi CrO3 dengan derajat kesamaannya.

2

1

0,0 - 0,3 - 0,5 - 1,0

100 300 200 Konsentrasi CrO3

400

500

Gambar 12 Hubungan antara Konsentrasi CrO3 dengan pH Dari gambar diatas bahwa pH larutan CrO3 selalu dibawah titik nol. Bak larutan Besarnya voltase berdasar dari besar voltase lebih hidrogen umumnya larutan yang mengandung sianid lebih besar voltase bak larutannya dari pada bak asam atau basa Untuk bak asam menggunakan voltase 6 volt, kecuali krom karena efisiensi yang sangat rendah menggunakan voltase 12 V.sedangkan bak sianid baik tembaga sianid, nikel sianid, seng sianid menggunakan voltase 12 V. Arus yang diperlukan tergantung dari konduktifitas bak larutan, makin konduktif makin kecil arus yang diperlikan sebaliknya makin tidak konduktif makin tinggi arus yang diperlukan.

Daftar pustaka 1. Modern Electroplating by F Loweinheim 2. Handbook of Electroplating by Kenneth Graham 3. Elektroplating oleh Agus tri widodo 4. Dekorative chromium plating by AES ( American Electroplating Society ) 5. Pelapisan Logam oleh A.J Hartomo.

Lampiran 1. PROSES PELAPISAN TEMBAGA SULFAT DAN MENGKILAP Ubac salah satu komponen untuk menghilangkan lapisan tembaga yang mengkilap dalam waktu cepat. Proses ini cocok untuk digunakan dalam pelapisan alat masak dan balok grounding. Komposisi Larutan Bahan Tembaga sulfat Asam sulfat Ion khlorid UBACR21 UBACR22 UBAC23 Pembuatan Larutan Optimun 225 gr / lt 65 gr / lt 80 gr / lt 4 ml / l 0,4 ml / l 4 ml / l Kisaran 185 – 250 gr / lt 60 – 100 gr / lt 60 – 200 gr / lt

1. Isi wadah 2/3 nya dengan air panas ( 80 ºC ) 2. Larutan Tembaga sulfat sambil diaduk 3. Memasukan karbok aktif dengan takaran 2gr/lt,aduk selama 1 jam dan biarkan kuranglebih dari 8 jam 4. Saringlah larutan kedalam bak plating dan biarkan dingin hingga suhu pelapisan 5. Tambahkan asam sulfat dan terus aduk 6. Masukan UBAC R21, UBAC R22 , UBACR 23 7. Masukan HCI jika diperlukan untuk menyesuaikan kondisi klorida Kondisi operasi Arus Katoda Arus Anoda Voltase bak Suhu Pengadukan 10 – 50 A/dm2 6,5 A/dm2 4 – 12 V 38 – 50 C Udara

Bahan Tambahan

UBAC R21 digunakan pada kondisi awal bak dan menggunakan tingkatan arus listrik pada kondisi operasi pelapisan. Dosis yang disarankan adalah sebesar 400 - ml/10.000jam- Amp. Kelebihan akan menyebabkan suram lapisan pada arus lemah, harus dikoreksi dengan penembahan UBAC R22 UBAC R22, memberikan lapisan yang mengkilap untuk semua tingkatan arus. Kelebihan menyebabkan rendahnya throwing power dan arus dikoreksi dengan.UBAR21. Dosis yang digunakan 1.2 liter untuk 10.000 jam Amp.UBAC R23 memberikan throwing power yang baik, dosis yang digunakan sebsar 400 ml per 10.000 jam Amp.

Lampiran 2. LARUTAN NIKEL KILAP

Ada tiga komponen utama penyusun larutan elektrolit untuk pelapisan nikel.Bahanbahan lain yang ditambahkan adalah brithtener untuk menghasilkan lapisan nikel kilap. Adapun komposisi selengkapnya adalah sebagai berikut : Komposisi Larutan Bahan Nikel sulfat Nikel Chloride B oric acid AM additive Brithtener Magnum SS WA 62 – A Optimum 300 g/l 83 g/l 45 g/l 3% g/l Qs 0,2% volume Kisaran 225 – 375 g/l 60 – 135 g/l 41- 50 g/l 2- 4% volume 1- 15% volume 0,1 – 0,5% volume

Kondisi Operasi Parameter pH Suhu Arus listrik Katoda Arus listrik anoda Voltase tangki Optimum 4.3 55 C 4.0 A/dm 2 2.0 A/dm2 9 volt Kisaran 3.9 – 4.6 49 – 63 C 2.2 – 8.0 A/dm2 1.1 – 5.4 A/dm2 6 – 18 volt

Proses Make Up Untuk 100 liter dibutuhkan tambahan larutan dengan komposisi sebagai berikut: Fungsionalitas Bahan Utama 1. Nikel sulfat dan Nikel klorida Bahan ini merupakan sumber nikel dan klorida dalam larutan. Konsentrasi nikel merupakan boleh lebih rendah dari 60 gr/l. Kandungan klorida ini penting bagi korosi anoda, kondoktivitas bak dan arus maksimum katoda. Kelebihan nikel klorida diatas 105 g/l akan mengurangi kemampuan pelapisan.

2. Boric Acid Boric Acid penting untuk menjaga kilap lapisan, adhesi dan kemampuan pelapisan.Boric caid yang sudah rendah akan menyebabkan lubang pada lapisan dan lapisan – oranye pada arus tinggi . Pada kondisi temperatur rendah, asam borak tidak boleh lebihrendah dari 41 g/l .

Lampiran 3. PELAPISAN KROM DEKORATIF CATALYST CHROM WR-1 Keistimewaan

1. Chrom catalyst wr-1 adalah proses baru tambahan dalam plating krom. 2. Keadaan kondisi kerja lebih luas, throwing power baik, daya despersion bisa meningkat 30-60% dan arus listrik (current density) bisa mencapai 22-24% dari catalyst chrom biasa. 3. hardness (kekerasan) HV lebih tinggi 10-30% dan netral salt spray lebih tinggi 1-2 kali dari catalyst chrom biasa. 4. komposisi chromic acid lebih rendah 40% dari catalyst chrom plating biasa, sehingga 5. Operasi proses ini stabil , mudah perawatan , dapat untuk dekorasi chrom maupun hard chrom. Komposisi dan kondisi kerja :
Chromic Acid sulfuricAcid WR-1 (catalyst) Trivalensi Chrom (Cr+3) Temperatur Arus listrik Anode timah hitam campur timah putih 8-15% 140-180 gr/l 0,4-1 gr/l 1-2 gr/l < 4 gr/l 25-70 derajad celcius 5-60 A/dm2

Cara pembuatan larutan chrom baru : 1. Larutan baru Menurut komposisi kimia diaduk dalam air bersih (Aquades) hingga larut baru ditambah Catalyst WR-1 aduk sampai mencair semuanya. Umumnya jika volume larutan chrom tidak besar tidak perlu di dummy kecuali volume besar lebih baik di dummy 1-2 jam. Oleh karena chromic acid terkadang telah mengandung H2SO4 maka waktu penambahan H2SO4 harus diperhatikabn supaya jangan ada kelebihan sulfat dalam larutan chrom. 2. Larutan Chrom yang hendak ditukar memakai WR-1 Yang sedang dipakai larutan chrom diambil contoh untuk dianalisis, konsentrasi chromic acid dan H2SO4 supaya bisa diatur komposisinyamenurut ketentuan WR-1.

Jika larutan chrom lama yang tidak pernah difilter (saring) endapannya pasti banyak. Harus ditambah barium carbonat diaduk rata, lalu didiamkan 12 jam keatas. Ambil larutan chrom atas yang bersih dianalisis dan atur komposisi chromic acid dan H2SO4, lalu tambah WR-1. 3. Perawatan (penambahan) WR-1 Catalist WR-1 agak susah larut didalam larutan chrom, waktu kerja plating WR-1 dengan sendiriya menesuaikan konsentrasinya. Katalis ini tidak plating out, maka umumnya konsumsi sangat sedikit. Yang bisa jadi kurang dikarenakan terbawa keluar larutan chrom bersama benda kerja setelah selesai pengerjaan (drag out). Biasanya larutan chrom 1000 liter kerja 2sift sehari, setiap bulan cukup ditambahkan WR-1 0,2-0,3 kg.

Lampiran 4. HUBUNGAN KONSENTRASI KHROM DENGAN BERAT JENIS PADA TEMPERATUR 20 C Derajat Baume Berat Jenis Konsentrasi khrom (gr/lt)

14.00 14.50 15.00 15.50 16. 00 16.50 17.00 17.50 18.00 18.50 19.00 19.50 20.00 20.50 21.00 21.50 22.00 22.50 23.00 23.50 24.00 24.50 25.00 25.50 26.00 26.50 27.00 27.50 28.00 28.50 29.00 29.50 30.00 30.50 3100

1.105 1.110 1.115 1.120 1.125 1.130 1.133 1.138 1.142 1.148 1.151 1.155 1.161 1.165 1.170 1.175 1.179 1.183 1.189 1.195 1.200 1.205 1.208 1.214 1.220 1.225 1.230 1.235 1.240 1.245 1.250 1.255 1.260 1.267 1.272

153 159 165 171 178 181 190 197 204 211 218 223 230 236 243 250 256 264 270 278 287 293 300 306 314 322 330 337 345 354 361 369 377 3 86 395

Lampiran 5. ANALISA HULL CELL Tujuan :

1. Menentukan batas-batas rapat arus yang sesuai untuk suatu larutan elektrolit. 2. menentukan jumlah (mm) penambahan yang optimum dari suatu aditif seperti brightener, leveller dan sebagainya pada suatu larutan elektrolit sehingga mendapatkan hasil yang diharapkan. Ketentuan : 1. Hull cell berbentuk empat persegi panjang dan terbuat dari fiberglass tahan kimia dan mempunyai kapasitas standar 2,5ml. 2. Untuk pelapisan tembaga dan nikel menggunakan plat kuningan yang terpoles setelah 0,25mm. 3. Untuk pelapisan chrom menggunakan plat kuningan terpoles dan telah dilapis dengan nikel kilap terlebih dahulu. untuk pelapisan seng. Cadmium dan tembaga cyanide dengan menggunakan katode dan plat besi terpoles. 4. untuk pelapisan seng Cadmium an tembaga cyanida dengan menggunakan katoda dan plat besi yang terpoles 5. Ukuran plat kathoda tersebut adalah : 100 x 75 mm. Rumus yang digunakan untujk analisa HullCell adalah : i = I (5,1 – 5,24 log - IOx) dimana : i = rapat arus (Amp/dm) I = total arus (Amperre) x = jarak dari rapat arus tertinggi pada panel dalam (cm). Prosedur : 1. Siapkan peralatan seperti rectifier, hot plate stirrer beker glass, pan pemanas, anode, gelas ukur, pH meter, hydrometer, thermometer, kabel-kabel dan penjepit buaya. 2. Ambil contoh larutan sebanyak 1 liter dari elektrolit yang akan dianalisa dan bagi dalam empat tempat terpisah (@250ml) er-lenmeyer. 3. Beri tanda setiap larutan dengan kode tertentu seperti A1,A2,A3 dan A4. 4. Panaskan larutan yang akan dianalisa hingga kondisi operasi yang telah ditentukan. 5. Rangkaian rectifier dengan anode dan katode (katode dimasukkan pada Hull Cell setelah mengalami proses seperti urutan proses untuk pelapisan ).

6. Masukkan larutan yang telah dipanaskan tadi kedalam Hull Cell. 7. Hidupkan rectifier serta atur Amperre pada 1 Amp dan lakukan proses selama 10 menit. 8. Matikan rectifier dan angkatan katode yang telah terlapis tadi dan lihat secara visualitas berapa jarak bidang yang mengkilap serta ukuran untuk dihitung pada rumus tadi. 9. Untuk menentukan kilap lapisanbisa ditambah additive tertentu dengan variasi volume tertentu dan lakukan pada contoh yang berkode selanjutnya.

Lampiran 6. PROSES COPER CYANIDE UNTUK TIMAH/ZINC ALLOY
1. UNICLEAN 191 : 80 gr/Lt

2. BILAS AIR 3. UNICLEAN AS -30 4. BILAS AIR 5. COPPER CYANIDE a. Coper cyanide b. Sodium cyanide c. Coustic soda d. Rochelle salt e. Cl – 3 d. Cl – 4

: 2 – 3 KALI : 30 gr/Lt : 2 – 3 KALI : 45 gr/Lt : 64 gr/Lt : 20 gr/Lt : 30 gr/Lt : 5 cc/Lt : 8 cc/Lt

Lampiran 7. PROSES PLATING ALUMINIUM

1. UNICLEAN 190 ( DIGODOK PANAS ) 2. BILAS AIR 3. UNICLEAN 191 4. BILAS AIR 5. NITRIC ACID 6. BILAS AIR 7. ALUMSEAL 8. BILAS AIR 9. NIKEL PLATING

: 50 gr/ Lt : 191 gr/Lt : 50% LARUTAN : 50% LARUTAN

Lampiran 8.Formula dip zinc I. 1. Sodium hidroksida (NaOH) : 525 g/l

2. Zinc oxide (ZnO) 3. Ferric cloride (Fe2Cl3) 4. Garam rochelle (KNaC4H4O6H2O) II. 1. Sodium dioxide (NaOH) kostic 2. Zing Oxide (ZnO) 3. Feric lorida (Fe2Cl3) 4. Rochelle salt (KNa C2H2O64H2O) 5. III. (NaHO3) : : 1. Coper Cyanide (Cu Cu) 2. Total Sodium Cyanide (Na Cn) potas 3. Rochelle salt 4. Sodium Carbonate (Na2 CO2) 5. Free sodium Cyanide : : : :

:

100 g/l 1 g/l 10g/l 120 g/l

FORMULA DIP ZINC

20 g/l : : : 30 g/l 2 g/l 19 g/l 40 g/l 50 g/l 60 g/l pH 102 - 105

(KNa C4 H4 O6 4H2O) : :49 g/l

: 30 g/l 38 - 43ºC

You're Reading a Free Preview

Download
scribd
/*********** DO NOT ALTER ANYTHING BELOW THIS LINE ! ************/ var s_code=s.t();if(s_code)document.write(s_code)//-->