KATA PENGANTAR

Diktat ini adalah diktat yang sederhana dan hanya merupakan saduran dari beberapa buku,
juklak yang sudah ada. Di dalamnya ada sedikit tentang prinsip lapis listrik (Elektroplating)
yang mudah untuk difahami. Beberapa proses pelapisan dari tembaga, seng sampai emas
dibahas secara ringkas saja, sehingga memudahkan untuk dicerna dan dimengerti.
Pemahaman menyeluruh terhadap diktat ini tidak langsung menjadikan seseorang yang ahli
dalam lapis listrik apalagi menjadi ahli kimia, hanya sekedar mengenal dan memahami
prinsip dasar lapis listrik dan proses yang terkait saja.
Pada kenyataannya lapis listrik merupakan sains yang praktis maka pengetahuan know how
tidak dapat dianggap enteng karena pengalaman dan eksperimen menentukan keahlian
seseorang dalam bidang ini. Walaupun merupakan sains praktis tetapi pengetahuan untuk
mengembangkan dan pengetahuan dasar yang disebut know why tidak boleh dilupakan.
Keduanya baik praktis maupun teoritis adalah bangunan sains yang dapat digunakan dan
dimanfaatkan.
Tentu saja, diktat ini tidak terlepas dari kesalahan dan kekurangan karena rumusan yang
beragan dari proses finishing logam. Pembaca budiman dianjurkan membaca diktat lain yang
membahas topik yang sama. Saran dan kritik apapun menjadi dorongan dan tantangan penulis
dengan senang hati menjadi bahan pertimbangan penulis.
Diktat ini hanya untuk kalangan sendiri

ATW
 DAFTAR ISI
Kata Pengantar
Daftar Isi
Bab. I. Pendahuluan
a. Pengertian Lapis Listrik
b. Istilah dalam Lapis Listrik
c. Hukum Faraday
Bab.II. Prinsip Kerja dan Kondisi Lapis Listrik.
a. Prinsip Kerja
b. Kondisi Operasi Lapis Listrik
Bab.III.Peralatan Lapis Listrik dan pekerjaan pendahuluan
1. Peralatan
a. Rectifier ( Trafo DC )
b. Bak
c. Rak dan Barel
d. Pendinginan dan Pemanasan
e. Penyaringan
f. Pengadukan
2. Pekerjaan Pendahuluan
a. Pembersihan Mekanis.
b. Alkaline Degreasing.
c. Acid Pickling.
Bab.IV. Pelapisan Listrik ( Elektroplating )
a. Dip Zinc
b. Sealing Alumunium
c. Tembaga Cyanid
d. Nikel
e. Khrom
 BAB I
PENDAHULUAN

A. PENGERTIAN DAN FUNGSI PELAPISAN

Lapis listrik (electroplating) adalah suatu proses pengendapan logam pada
permukaan suatu logam atau non logam (benda kerja), secara elektrolisa. Endapan yang
terjadi bersifat adhesif terhadap logam dasar.
Dalam teknologi pengerjaan logam, proses lapis listrik termasuk ke dalam proses
pengerjaan akhir (metal finishing). Adapun fungsi dari pelapisan logam adalah sebagai
berikut :
1. Memperbaiki penampilan (dekoratif) Misalnya : pelapisan emas, perak, kuningan, dan
tembaga.
2. Melindungi logam dari korosi, yaitu;
 Melindungi logam dasar dengan logam yang lebih mulia, misalnya : pelapisan
platina, emas dan baja.
 Melindung logam dasar dengan logam yang kurang mulia, misalnya pelapisan
seng pada baja
3. Meningkatkan ketahanan produk terhadap gesekan (abrasi), misalnya pelapisan
chromium keras.
4. Memperbaiki kehalusan atau bentuk permukaan dan toleransi logam dasar, misalnya :
pelapisan nikel, cromium.
5. Elektroforming, yaitu: membentuk benda kerja dengan cara endapan.

B. ISTILAH ISTILAH DALAM LAPIS LISTRIK

Seperti pada proses – proses metal finishing lainnya, banyak istilah yang perlu
difahami sehingga dalam penerapannya akan memberikan masukan yang tepat dan jelas
perbedaan antara yang satu dengan yang lainnya. Istilah tersebut antara lain adalah :
1. Elektroda : suatu terminal dalam larutan elektrolit dimana aliran listrik mengalir ke
dan dari larutan elektrolit .
2. Anoda : elektroda positif yang padanya terjadi pelepasan ion negatif dan membentuk
ion positif (terjadi reaksi oksidasi).
3. Katoda : elektroda negatif yang padanya terjadi pelepasan ion positif dan membentuk
ion negatif (terjadi reaksi reduksi).
4. Elektrolit : zat – zat yang molukel – molukelnya dapat larut dalam air dan terurai
menjadi zat – zat (atom – atom) yang bermuatan positif atau negatif.
5. Ion : Zat yang terurai, dimana atom atau molukelnya bermuatan listrik positif atau
negatif. Zat yang bermuatan negatif disebut anion (ion negatif) dan zat yang
bermuatan listrik positif disebut kation (ion positif).
6. Lumpur anoda (anoda slim) : sisa zat yang tidak larut dihasilkan di anoda dan
mengotorinya.
7. Lepuh (blister) : pembengkakan pada bagian tertentu dari hasil pelapisan karena daya
lekat (adesi) lapisan yang kurang baik.
8. PH : logaritma dari konsentrasi asam dengan tanda negatif. pH ini dipakai untuk
+
menentukan derajat keasaman suatu asam .Dalam elektroplating pH berarti juga
pOH + .
9. Inhibitor : bahan yang dapat mengurangi pemakan atau perusakan oleh asam pada bak
.
10. Pickling (cuci asam) : suatu cara menghilangkan karatan pada benda kerja dengan
larutan asam .
11. Rapat arus (current density) : jumlah arus yang mengalir perluas unit elektroda .
12. Efisiensi arus (currant efficiency) :perbandingan antara jumlah teoritis arus listrik
yang akan terpakai dengan jumlah arus listrik yang sebenarnya terpakai.
13. Hydrogen embritlement (kerapuhan hidrogen) : kegetasan pada benda kerja akibat
dari penyerapan gas hidrogen pada proses pickling dan pelapisan.
14. Stop – off material : suatu bahan yang berfungsi menutupi hasil pelapisan.
15. Degreasing (pencucian lemak) : pembersihan permukaan logam dari minyak, lemak
atau zat organik lainnya dengan dengan larutan alkalin.
16. Brigtener (bahan pengkilap) : zat tambahan yang bersifat membentuk lapisan agar
lebih mengkilap atau yang memperbaiki kecemerlangan di atas endapan / lapisan .
C. HUKUM FARADAY
Dengan adanya arus listrik yang mengalir ke dalam larutan elektrolit, maka
terjadilah pergerakan dan pembebasan ion-ion. Hubungan antara jumlah arus listrik yang
mengalir dengan jumlah zat yang dibebaskan di dalam larutan tersebut dinyatakan oleh
Michael Faraday dalam hukumnya :
1. Jumlah zat-zat yang terbentuk pada elektroda pada suatu cell sebanding dengan
jumlah arus yang mengalir .
2. Jumlah zat-zat yang dihasilkan oleh arus yang sama dadalam cell yang berbeda adalah
sebanding dengan berat ekuivalen masing-masing zat itu .
B = I. t. e
F
Dimana :
B = Berat zat yang terbentuk (gram)
I = Jumlah arus yang mengalir (amper)
T = waktu mengalir (detik)
E = Berat ekivalen zat yang dibebaskan (berat atom suatu unsur dibagi
valensi unsur tersebut)
Hukum faraday sangat erat kaitannya dengan efisiensi arus yang terjadi pada
proses pelapisan secara listrik. Jika dihubungkan dengan hukum faraday maka efisiensi
arus adalah perbandingan berat endapan yang terjadi dengan berat endapan teoritis.
Sehingga efisiensi arus dinyatakan dalam persen.
Pada praktek sebenarnya hukum faraday digunakan untuk menghitung biaya
pelapisan logam. Dengan hukum faraday yang menjelaskan banyaknya logam yang
mengendap besarnya nilai rupiah logam yang mengendap menjadi lebih mudah untuk
dihitung.
 BAB II
PRINSIP KERJA DAN KONDISI LAPIS LISTRIK

A. PRINSIP KERJA LAPIS LISTRIK

Pelapisan logam dengan cara listrik adalah merupakan rangkaian dari sumber arus
listrik, anoda larutan elektrolit dan katoda. Semua gugusan tersebut disusun sedemikian
rupa sehingga membentuk suatu sistem lapis listrik dengan rangkaian sebagai berikut:
• Anoda dihubungkan dengan kutub positif dari sumber arus listrik .
• Katoda dihubungkan dengan kutub negatif dari sumber arus listrik .
• Anoda dan katoda direndam dalam larutan elektrolit. Jika arus listrk dialirkan maka
pada katoda akan terjadi endapan (pelapisan logam).
1. Sumber arus listrik
Sumber arus listrik yang digunakan pada proses pelapisan secara listrik adalah
arus searah (DC) dengan tegangan rendah, tegangan yang diperlukan berkisar antara
6-12 volt.
Untuk mendapatkan arus listrik tersebut digunakan rectifier dimana arus yang
dikeluarkan dari rectifier ini bersifat arus searah, tegangan rendah dan konstan serta
arus yang mengalir (amper) besar dan dapat divariasikan .
2. Anoda.
Adalah suatu terminal positif dalam larutan elektrolot dan terbagi dalam dua
golongan, yaitu :
a. Anoda yang larut (soluble anoda), contohnya anoda nikel dan anoda zinc.
b. Anoda yang tidak larut (unsoluble anoda) contohnya; anoda Pb pada pelapisan
kromium.
Anoda yang tidak larut berfungsi sebagai penghantar arus listrik saja, sedangkan
anoda yang larut berfungsi selain penghantar arus listrik juga sebagai bahan baku
pelapis.
3. Larutan elektrolit
Larutan elektrolit dapat dibuat dari asam, basa atau garam. Tiap jenis pelapisan,
larutan elektrolitnya berbeda beda tergantung jenis logam pelapisnya maupun sifat–sifat
elektrolit yang diinginkan.
Sebagai contoh pelapisan tembaga, larutan elektrolit yang digunakan dari garam
CuSO4 dan air H2O. Larutan akan terurai seperti berikut ini :
CuSO4 ↔ Cu++ + SO4¯
H2O ↔ H+ + OH¯
4. Katoda
Pada proses lapis listrik , katoda dapat diartikan sebagai benda kerja (garapan)
yang akan dilapis. Maka garapan bertindak sebagai katoda atau bersifat penerima ion.
Untuk lebih jelasnya rangkaian sistem lapis listrik tersebut diatas dapat dilihat pada
gambar dibawah ini

Sumber
V
arus

Anoda

Katoda
Gambar 1.Rangkaian Proses Lapis listrik
Untuk menjelaskan proses kerja pelapisan, dimisalkan pelat baja yang akan
dilapis dengan tembaga Cu . Larutan tembaga yang akan digunakan adalah CuSO4 dan
air H2O.
Anoda dan katoda (garapan) dimasukkan dalam larutan elektrolit tersebut dan
dialiri arus lstrik searah dimana anoda dihubungkan ke kutub positif dan katoda ke
kutub negatif, maka akan terjadi perbedaan potensial antara katoda dan anoda. Dari
proses tersebut logam tembaga akan terurai kedalam larutan elektrolit yang juga
mengandung ion-ion tembaga, kemudian melalui larutan elektrolit ion-ion tembaga
akan terbawa dan mengendap pada permukaan katoda (garapan) dan berubah menjadi
atom tembaga. Agar lebih jelasnya dapat dilihat pada gambar 2.

Pelat baja Tembaga

Gambar. 2. Proses lapis listrik

Dengan demikian disini terjadi reaksi reduksi ion tembaga menjadi logam
tembaga, menjadi logam tembaga .
CuSO4 ↔ Cu++ + SO4¯
H2O ↔ H+ + OH¯
Cu++ + 2e → Cu↓
Kuper Sulfat : Cu SO4 (trusi)
Formalin : Cu
Sedangkan ion-ion H+ sebagian kecil akan mengendap pada benda kerja dan
sebagian besar akan menguap menjadi gas H2.
H+ + 2e → H
H + H → H2
Hidrogen ( H ) yang mengendap inilah yang perlu diperhatikan karena gas tersebut akan
menyebabkan cacat lapisan yang biasa disebut “ Hydrogen embrittlement”.

Gambar.3. Reaksi yang terjadi sewaktu pelapisan

 Pada anoda terjadi reaksi :
Cu - 2e¯ → Cu++
4OH - 4e¯ →2H2O + O2

B. KONDISI OPERASI LAPIS LISTRIK

Kondisi operasi lapis listrik dalam operasi pelapisan perlu diperhatikan, karena
kondisi operasi sangat menentukan berhasil atau tidaknya proses pelapisan, serta mutu
pelapisan yang dihasilkan. Kondisi – kondisi yang perlu diperhatikan adalah :
1. Rapat (current density)
Rapat arus ada dua jenis / macam yaitu rapat arus katoda (cathode current
density) dan rapat arus anoda (anoda current density).
Dalam proses lapis listrik, rapat arus yang diperhitungkan ialah rapat arus
katoda, yaitu banyaknya arus listrik yang dientukan untuk mendapatkan atom-atom
logam pada tiap satuan barang (garapan) yang akan dilapis. Satuan rapat arus ini
dinyatakan dalam Amp/dm2 atau Amp/in2 atau Amp/ft2.
2. Tegangan (voltage)
Tegangan arus dalam proses lapis listrik dinyatakan dalam kondisi yang
konstan yaitu tegangan tidak akan terpengaruhi oleh besar kecilnya amper.
V
I = ------
R
Dimana : I = banyaknya arus ( amper )
V = tegangan ( volt )
R = tahanan
Sehingga untuk memvariabelkan amper, maka yang divariabelkan hanyalah
tahanannya saja, sedangkan voltnya tetap.
3. Suhu Larutan
Suhu larutan dapat mempengaruhi mutu lapisan, sebagai contoh pada pelapian
chromium (Cr) dekoratif. Bila suhu larutan lebih rendah dari 45 ºC pada rapat arus 20
Amp/dm2, maka akan didapat lapisan chrom yang suram. Untuk itu rapat arus perlu
diatur sedemikian rupa , sehingga mendapatkan lapisan sesuai dengan keinginan.
4. pH Larutan
pH dipakai untuk menentukan derajat keasaman suatu larutan elektrolit dan
dalam operasi lapis listrik pH berarti juga pOH. pH Larutan dapat diatur dengan alat
ukur pH meter atau pH colourimete. Tujuan menentukan pH ini untuk melihat atau
memeriksa kemampuan larutan dalam menghasilkan lapisan yang lebih baik.
 BAB III
PERALATAN LAPIS LISTRIK DAN PEKERJAAN
PENDAHULUAN (PRE TREATMENT)

A. PERALATAN LAPISANLISTRIK
Peralatan utama yg diperlukan pada lapis listrik antara lain yaitu:
1. Rectifier
Rectifier merupakan peralatan utama dalam proses pelapisan secara eletronik
yang berfungsi sebagai sumber arus searah (DC) dan penurun tegangan. Pada saat
sekarang ini rectifier sudah cukup efisien karena amper meter dan tahanan variabel
berbentuk kesatuan dalam rectifier. Ada dua macam rectifier yang banyak digunakan
industri - industri lapis listrik. yaitu: rectiafier selenium dan rectifier slikon
2. B a k
Bak diperlukan untuk menampung atau tempat larutan elektrolit, larutan
pencuci dan air pembilas. Bahan bak tergantung pada larutan yang ditampungnya dan
diutamakan tahan terhadap akan terjadinya pengkaratan serta tahan pada suhu
tertentu. Biasanya bahan bak terbuat dari baja yang bagian dalamnya di lapisi plastik,
karet, FRT (glasfiber Remforced Polyster resin) atau semua terbuat dari PVC
(Polyvinil Chloride Resin).
3. Rak atau Barrel
Rak atau barrel berfungsi sebagai tempat barang yang akan dilapisi (katoda).
Barrel biasanya digunakan untuk produk ukuran kecil, misalnya: baut, mur dan lain-
lain. Bentuk dan ukuran barrel ini telah mempunyai standar tertentu sesuai dengan
kapasitas barang yang akan dilapis.
Adapun rak biasanya digunakan untuk produk-produk berukuran besar dan
bentuknya tergantung pada barang yang akan dilapis. Sedangkan bahan untuk rak ini
digunakan bahan-bahan seperti tembaga, baja dan titanium.
B. PEKERJAAN PENDAHULUAN (PRE TREATMENT)
Secara garis besarnya proses lapis listrikdapat dibagi dalam tiga tahap yaitu:
- Tahap I : proses pengerjaan pendahuluan
- Tahap II : proses pengerjaan lapis listrik
- Tahap III : proses pengerjaan akhir
Dari urutan tersebut jelaslah bahwa sebelum melakukan proses pelapisan dan
untuk mendapatkan hasil lapisan yang baik , maka logam dasar (benda kerja yang akan
dilapis) harus bersifat bersih dalam arti bebas dari karat, minyak, cat dan pengotor lain
sehingga perlu dilakukan pekerjaan pendahuluan / persiapan yaitu sebagai berikut:
1. Pembersih secara mekanis
Pekerjaan ini bertujuan untuk menghaluskan permukaan dan mennghilangkan
goresan-goresan dan geram-geram yang masih melekat pada benda kerja. Biasanya
untuk menghilangkan goresan-goresan dan geram tersebut dilakukan dengan
pekerjaan buffing yang prinsipnya seperti mesin gerinda, akan tetapi roda polesnya
yang berbeda yaitu terbuat dari bahan katun, kulit, laken dan sebagainya. Proses
pengerjaan ini tergantung pada kondisi benda kerja itu sendiri kadang-kadang
memerlukan proses lain misalnya : brushing dan sebagainya.
2. Pencucian dengan alkalin (Degreasing)
Pekerjaan ini bertujuan untuk membersihkan benda kerja dari lemak atau
minyak tersebut sangat mengganggu pada proses pelapisan, karena mengurangi daya
hantar listrik atau mengurangi kontak antara lapisan dengan logam dasar.
pencucian dengan alkalin digolongkan ke dalam dua macam cara, yaitu
dengan cara biasa (alkalin degreasing) dan dengan cara elektro (electrolitic
degreasing).
Pencucian secara biasa adalah dengan cara merendamkan benda kerja
kedalam larutan alkalin dalam keadaan panas dalam 5-10 menit dan lamanya
pencelupan harus disesuaikan dengan kondisi permukaan benda kerja. Seandainya
lemak atau minyak yang menempel lebih banyak , maka dianjurkan lamanya
pencelupan ditambah hingga permukaan bersih dari noda-noda tersebut. Benda kerja
 yang dicuci dikatakan bersih, dapat dilihat setelah barang tersebut dibilas dengan air,
maka air yang menempel akan terlihat bersatu.
Larutan alkalin yang banyak digunakan adalah larutan alkalin yang hanya
dibuat dari pencampuran NaOH (caustic soda) dengan air bersih dengan perbandingan
60 gram : 1 liter tetapi kecepatan dan hasil pencucian kurang begitu baik, sehingga
kini industri-industri lapis listrik banyak menggunakan larutan jenis ini dengan
komposisi seperti pada 1 tabel dibawah ini:

Tabel 1
Komposisi Larutan pencuci dengan Alkalin
(Alkalindegreasing) untuk Besi/Baja

Bahan kondisi 9/1

1 2 3 4 5 6 7 8
BAHAN
- Caustic Soda
20-40 20-30 50 - - 32.5 62.5 37.5
(NaOH)
- Sodium Carbonat
- 15-20 50 - - 25 - -
(Na2CO3)
- Sodium Arthosilicat
- - - 25 37.5 12.5 - 9.5
(Na4SiO4)
- Sodium Metasilicat
0-10 - - 25 27.5 2.5 37.5 6.5
(Na4SiO3)
- Sodium phosphat
1-3 1-2 1-2 - - 0.75 - 1.5
(Na2PO4)
KONDISI 30-
- Temperatur °C 60-80 60-80 60-80 60-80 60-80 60-80 60-80
100

Pencucian secara elektro bertujuan selain akan didapatkan hasil pencucian

yang lebih bersih juga meningkatkan kecepatan pencucian. Prinsip kerjanya dengan
menggunakan arus listrik dan katoda maupun anodanya dipakai lempengan carbon.
Bila barangnya yang akan kibersihkan ditempatkan pada arus positif (anoda) maka
prosesnya disebut anoda cleaning, begitu pula sebaliknya.
Adapun komposisi dan kondisi larutan pencuci alkalin untuk pencucian secara
elektrolitik diperlihatkan pada tabel berikut ini :
 Tabel 2
Komposisi dan kondisi larutan pencuci secara Elektro
(Elektrolytic Degreasing) untuk Besi/Baja

9/1
Bahan kondisi Katoda Cleaning Anoda Cleaning
BAHAN
- Caustic Soda (NaOH) 20-30 7.5-15
- Sodium Carbonat (Na2CO3) 30-50 -
- Sodium Arthosilicat (Na4SiO4) 10-20 30-45
- Sodium Metasilicat (Na4SiO3) - 15-30
- Sodium phosphat (Na2PO4) 1-2 1-2
KONDISI
- Temperatur °C 60-80 60-80
- Current Density A/dm² 10 10
- Waktu pencelupan (menit) 1-2 1-2

Setelah proses ini selesai dikerjakan kemudian barang tersebut yang akan
dilapis, dibilas dengan air bersih dan setelah dibilas barang sudah dapat melangkah
pada proses berikutnya.
3. Pencucian dengan Asam (Pickling)
 Pencucian dengan asam adalah bertujuan untuk membersihkan permukaan
benda kerja dari oksida atau karat dan sejenisnya secara kimiawi melalui pencelupan.
Larutan asam (pickling) ini diperoleh dari pencampuran air bersih dengan asam ,
antara lain yaitu:
a. Asam chlorida (HCL)
b. Asam sulfat (H2SO4)_atau
c. Campuran H2SO4 dan asam Fluorida (HF)
Reaksi pickling sebetulnya adalah elektrokimia dalam sel galvanis antara logam
(anoda) dan (oksida). Gas H2 yang timbul dapat mereduksi Ferrioksida menjadi Ferro oktor
yang mudah larut. Dalam reaksi ini biasanya diberikan inhibitor agar reaksi tidak terlalu cepat
dan menghasilkan pembersihan yang merata.
Ada dua jenis bahan inhibitor yang dikenal yaitu:
- Bahan organik alam (natural organic) yaitu gelatine, lumpur, minyak, sfhaltum,
sulfonate,coal tar, wood tar dan sebagainya.
- Bahan organik sintetis (synthetic organic) yaitu: thioaldehyde, pyridine, quinidine,
aldehyde dan sebagainya.
Untuk logam dasar baja umumnya menggunakan asam chlorida (HCL) dengan
kondisi sebagai berikut:
- Konsentrasi HCL : 3-12% x Volume
- Suhu operasi : 40º C
- Lama pencelupan : 5-15 menit
Jika kondisi oksida benda kerja lebih berat, maka konsentrasi asam chlorida dapat
dinaikkan menjadi 30% dari berat.
Adapun keuntungan menggunakan larutan asam chlorida adalah:
Menghasilkan keseragaman permukan pada benda kerja baja
Mudah dibilas
terjadinya over pickling lebih kecil
Operasinya lebih mudah.
Seperti diketahui lapisan oksida umunya terdiri dari beberapa ikatan, yaitu bagian
luar adalah Fe2O3. Dengan demikian sewaktu pencucian akan terjadi reaksi-reaksi sebagai
berikut :
 Fe2 O3 + 2 HCL 2 FeCL2 + 3 H2O
Fe3O4 + 8 HCL 2 FeCL2 + FeCL2 + 4 H2O
FeO + 2 HCL FeCL2 + H2O
Fe + 2 HCL FeCL2 + H2

Bila menggunakan larutan asam sulfat (H2SO4) , maka kondisinya untuk pencucian
baja adalah:
Konsentrasi H2SO4 :10 – 40% x volume
Suhu operasi : 60 – 90 °C
Waktu pencelupan : 5 -15 menit
Keuntungan menggunakan asam sulfat adalah:
- Ongkos lebih murah
- Pencemaran bau rendah/kecil
Adapun reaksi-reaksi yang terjadi pada saat pencucian adalah sebagai berikut ini:
Fe2O3 + 3 H2SO4 Fe2 (SO4)3 + 3 H2O
Fe3O4 + 4 H2SO4 FeSO4 + Fe2 (SO4)3 + 4 H2O
FeO + H2SO4 FeSO4 + H2O
Fe + H2SO4 FeSO4 + H2O
Untuk barang-barang baja/besi cor yang mengandung sisa-sisa pasir dapat digunakan
larutan campuran dari asam sulfat dan asam fluoboric, sebab larutan ini dapat berfungsi selain
untuk menghilangkan oksida/serpihan juga dapat membersihkan sisa-sisa pasir yang nempel
pada benda kerja, sedangkan komposisi dan kondisi operasinya adalah seperti pada tebel 3
dibawah ini .

Tabel 3 Komposisi dan Kondisi Operasi Pencucian dengan H2SO4 dan HF

Bahan Komposisi/Kondisi
Asam sulfat (H2SO4) 5 - 7% x volume
Asam fluoboric (HF) 3 - 5% x volume
Temperatur 50 - 58°c
Waktu Pencelupan 4 jam
 setelah proses pencucian (pickling), maka benda kerja dibilas dengan air bersih dan
selanjutnya melangkah keproses selanjutnya ,yaitu proses pelapisan.
Benda kerja yang telah mengalami proses lapis listrik (pelapisan), perlu dibilas, dicuci
bersih dan kemudian dikeringkan. kadang-kadang dilakukan proses lanjut seperti dipasifkan
(pasiffating) atau diberi lapis pelindung yang transparan.
 BAB IV
PELAPISAN TEMBAGA, NIKEL DAN CHROMIUM

A. PELAPISAN TEMBAGA (COPPER)

Pelapisan tembaga banyak digunakan antara lain untuk memperoleh lapisan lapisan
logam dengan tujuan:
Sebagai lapisan perantara (dasar/strike)
Sebagai lapisan dengan hantar panas dan arus listrik yang baik
Digunakan dalam proses elektroforming
Pelapisan perantara (strike) adalah suatu lapisan tipis dan berfungsi lapisan
pendahuluan sebelum dilakukan pelapisan selanjutnya.Tebal lapisan berkisarantar 1 – 3
mikron.
Bila logam dasar (benda kerja) terbuat dari baja (paduannya), biasanya pelapisan
perantara perlu dilakukan. sedangkan untuk logam dasar tembaga (paduannya) , tidak perlu
dilakukan karena unsur temabaga sudah ada.
1. Larutan Elektrolit
Jenis larutan elektrolit dalam proses pelapisan tembaga ,dikelompokkan dalam
dua jenis yaitu jenis alkali dan asam. Larutan elektrolit yang banyak digunakan dan
mudah didapat dipasar di indonesia adalah sebagai berikut:
a. Larutan jenis alkali: temperatur : 55 - 60°C
Rapat arus :2,16 4,32A/dm2
1. Larutan sodium cynida:
pH : 12 – 12,6
CuCN : 15 – 22,5 gr/l
NaCN : 28 – 33,5 gr/l
2. Larutan sodium cyanid Rochelle salt:
Na2CO3 :15 – 30 gr/l
CuCN : 26,5 - 44gr/l
NaOH :disesuaikan dengan pH
NaCN : 34,5 – 55gr/l
Kondisi operasi
Na2CO3 : 15 - 60gr/l Anoda : katoda : 1:1
NaO :disesuaikan dengan pH
Larutan ini sering juga digunakan untuk
Kondisi operasi
temperatur : 70 - 80°C proses elektro forming.
Rapat arus : 4,32 – 5,4 A/dm2
pH : 13 2). Larutan copper sulfat rendah

CuSO4 : 35 gr/l
3. Larutan potasium cyanid
CuCn : 60 gr/l
NaCn : 95 gr/l
Na2CO3 : 15 gr/l
KOH : 42 gr/l
Kondisi operasi NaOH : 80 gr/l
Temperatus : 75 -80º C
Rapat arus : 3,24 – 6.48 A/dm Rochelle Salt : 150 gr/l
pH : lebih besar dari 12
Kondisi operasi

Temperatur : 25 - 30°C

Rapat arus : 1,5 A/dm2

b. Larutan jenis asam : 3). Larutan copper fluorida
1. Larutan copper sulfat tinggi Cu(BF4)2 : 225 - 450 gr/l
CuSO4 : 200 – 250 gr/l HBF4 : disesuaikan pH
H2SO4 : 30 – 65 gr/l Kondisi operasi
Kondisi operasi Temperatur : 27 - 77ºC
Temperatur : 20 - 50ºC Rapat arus : 7,5 – 35 A/dm2
Rapat arus : 2 – 10 A/dm2 pH : 0,6 – 1,5
Agitasi : udara Agitasi : udara

Kegunaan dari masing-masing larutan diatas cukup luas larutan jenis alkali banyak
digunakan pada pelapisan baja (paduannya). Sedangkan jenis asam digunakan untuk
mendapatkan lapisan yag tipis dan untuk produk-produk bukan baja.

2. Proses Pelapisan Tembaga

Proses pelapisan tembaga pada prinsipnya sama seperti proses-proses pelapisan

logam-logam lainnya yaitu mengikuti prinsip yang telah diuraikan dalam bab-bab
sebelumnya. Adapun langkah-langkah proses-proses pelapisan tersebut digambarkan seperti
bagian aliran proses berikut ini :

Pekerjaan mekanis Pencucian lemak Pencucian asam

Bilas

PEKERJAAN PENDAHULUAN

Pengeringan Bilas Pelapisan tembaga Bilas

Gambar 4 Bagian Aliran Proses Pelapisan Tembaga

Untuk itu sewaktu penempatan anoda harus diperhatikan hal-hal sebai berikut :
 Anoda hendaknya berhadapan langsung dengan barang yang akan dilapisi (katoda)
 Usahakan jarak antara anoda dan katoda 200 – 300 mm
Langkah-langkah berikutnya ialah pengaturan suhu larutan sesuai yang ditentukan.
Setelah suhu larutan elektrolit memenuhi kondisi yang diinginkan, aturlah rapat arus yaitu
2,16 – 4,32 A/dm2 yang berarti bawa setiap luas permukaan benda kerja sebasar 1 dm2
diperlukan arus 2,16 – 4,32 amper.
Lamanya pelapisan tergantung pada ketebalan yang diinginkan biasanya berkisar
antara 5 – 30 menit. Barang yang telah dilapis kemudian dibilas dan dilanjutkan dengan
proses berikutnya (dikeringkan atau dilanjutkan dengan pelapisan nikel dan lainnya).

3. Pekerjaan Pendahuluan
Pekerjaan pendahuluan meliputi, pembersihan secara mekanis,pencucian lemak,
pembersihan karat dan pembilasan. Tembaga digunakan sebagai alas untuk melapisi baja
terutama pada lapis nikel dan khrom.
Semua lapis tembaga di atas baja dikerjakan dengan larutan sianid karena larutan lain
cenderung membentuk endapan celup yang tidak melekat kuat beberapa kasus tembaga
sianid digunakan sebagai lapis strike Kemudian diikuti dengan lapis tembaga asam atau
pyrophospat yang kelebihannya dalam proses cepat juga mendayagunakan proses buffing dan
 menghindari limbah ianid benda kerja yang akan dilapisi seng biasanya dilapis tembaga lebih
dahulu karena nikel tidak bias diendapkan secara langsung .untuk bahan garapan dari
aluminium dan magnesium tembaga sianid dan pyrophospat digunakan sebagai lapis strike
pada hasil tersebut tembaga dilapiskan diatas endapan seng celup dan diikti nikel atau lapis
logam lain

B. PELAPISAN NIKEL
Pelapisan nikel sangat luas digunakan industri-industri pelapisan.Umumnya lapisan
nikel merupakan lpisan lanjutan dari lapisan tembaga dan di akhiri dengan lapisan seperti
chromium emas dan lainya.
Belakangan ini banyak produk-produk hanya dilapisi nikel saja tanpa dengan lapisan
chromium. Hal ini disesuaikan dengan tujuan dan penggunaan produk dimana fungsinya
berbeda. Lapisan seperti ini tebalnya bisa ditingkatkan sampai 20 mikron. Lapisan nikel
dapat diklafisikasikan menurut larutan elektrolit yang digunakan. Klasifikasi lapisan nikel
tersebut, sifat-sifat serta penggunaannya dapat dilihat pada tabel 4 dibawah ini.
Tabel 4 Klasifikasi dan Penggunaan Pelapisan Nikel

LARUTAN PELAPIS (PLATING

BATH) SIFAT – SIFAT PENGGUNAAN
Larutan pelapis mengkilap  Seperti watt’s bath atau sulfamate bath
Larutan watt’s  Pelapisan konvensional (biasa), kecepatan pelapisan tinggi, barrel plating,
larutan standard untuk lapisan bright
Nikel suram  Kecepatan pelapisan rendah (0.5 A/dm2), lapisan tipis, barrel plating
Larutan asam sulfat chloride  Butir lapisan lebih baik, lapisan lebih ulet (ductile) dibanding lapisan watt’s,
mudah dalam pengerjaan buffing
Larutan all sulfat  Pelapisan dengan anoda tidak larut, sebagai lapis permukaan
Larutan all chloride  Butiran lapisan baik, lapisan lebih halus dibanding larutan watt’s, kekuatan
tinggi perpanjangan rendah, tegangan tinggi
Larutan striking  Pelapisan pada stainless steel, passivating logam-logam lainnya
Larutan nikel hitam Pelapisan dekoratif
Larutan sulfamat  Kecepatan pelapisan tinggi
Larutan fluoborat  Untuk electroforming
 Barrel plating
Larutan sulfat tinggi
Larutan zialit Pelapisan nikel langsung pada zinc alloy
Larutan garam kompleks
Larutan komposit  Disebut juga seal nickel plating , Dasar dari microporous pelapisan chromium

1. Larutan Elektrolit
 Jenis larutan elektrolit, lazimnya diberi nama berdasarkan unsur atau komposis
kimia maupun sifat dari larutan tersebut.Berkaitan dengan itu klasifikasi diatas larutan
eleltrolit pelapisan nikel dapat dinyatakan atau dikelompokan sebagai berikut :
a. Pelapisan nikel suram atau Konidisi operasi
dop (Dull nikel plating) Temperatur : 54°C
1).Dull nikel plating temperatur pH : 3–5
kamar : Rapat arus : 2,1 – 11 A/dm2
NiSo : 150 gr/l 4.) Larutan sulfuric acid chlorid ( Sulfuric
NH4Cl : 15 gr/l acid chlorid bath )
H3BO3 : 15 gr/l NiSO4 : 195 gr/l
Kondisi operasi NiCl2 : 174 gr/l
Temperatur : 20 - 30°C H3BO3 : 40 gr/l
pH : 5,8 – 6,2 Kondisi operasi
Rapat arus : 0,5 – 0,8 A/l Remperatur : 45ºC
Katoda : anoda : 2 : 1 pH : 1,5
Rapat arus : 2,5 – 11 A/dm2
2).Larutan Watt’s (Watt’s bath ) 5.) Larutan all chlorid ( All chloride bath )
NiSO : 220 – 380 gr/l NiSO4 : 240 gr/l
NiCl2 : 30 – 60 gr/l H3BO3 : 30 gr/l
H3BO3 : 30 – 45 gr/l Kondisi operasi
Kondisi operasi Temperatur : 55 - 70°C
Temperatur : 45 - 65°C pH : 2
pH : rendah : 2 - 2,5 Rapat arus : 2,5 – 11 A/dm2
- sedang : 3,5 - 4
- tinggi : 4,8 – 5,2 b. Larutan lapisan nikel mengiklap
Rapat arus : 2,5 – 10 A/dm2 ( Bright nikel plateing bath)
Anoda : katoda : 1 :1 1.) Larutan dengan pH rendah
NiSO4 : 330 gr/l
NiCl2 : 45 gr/l
3). Larutan all sulfat ( All sulfat bath ) H3BO3 : 30 gr/l
NiSO4 : 300 gr/l Brightener I : 2 ml/l
H3BO3 : 40 gr/l Brightener M : 1 – 2 ml/l

Dari bermacam-macam jenis larutan diatas yang sering digunakan adalah jenis atau
proses.Watt’sbath. Karena adanya pertimbangan dibawah bahan-bahannya mudah didapat,
ekonomis dan aman.

2. Proses Pelapisan Nikel

Secara keseluruhan proses pelapisan nikel dapat dilihat pada bagian aliran proses
gambar 5 dibawah ini . Langkah-langkah proses tersebut mencakup tahapan-thapan
pengerjaan pendahuluan atau pelapisan dan pengerjaan akhir .
 Pengerjaan Pelapisan Pelapisan
Bilas Bilas
pendahuluan Tembaga Nikel

Pelapisan
Chromium Bilas
Dll

Pengeringan

Gambar 5 Bagian aliran proses pelapisan nikel

Pengerjaan pendahuluan meliputi: pembersihan secara mekanis, pencucian lemak,
pembersihan karat dan pembilasan Pekerjaan ini sama seperti pekerjaan pendahuluan pada
proses pelapisan tembaga yang sudah diuraikan pada bab sebelumnya .
Bilamana logam dasar tersebut terbuat dari paduan tembaga seperti misalnya kuningan,
perunggu, dan lainnya, pelapisan nikel setelah pekerjaan pendahuluan bisa langsung
dilakukan.

a. Operasi pelapisan
Setelah logam dasar dilapis tembaga atau logam dasar yang mengandung unsur
tembaga telah siap untuk lapisa nikel maka langsung dibilas dengan air.
Untuk pelapisan pelapisan nikel sebagai dasar pelapisan chromium dekoratif, biasanya
dugunakan lapisannikel yg mengkilap ( bright nikel plating ).
Kompisisi larutan dan kondisi oprasi bright nikel plating adalah sebagai berikut
NiSO4 : 250 gr/l Kondisi operasi
NiCl2 : 50gr/l Temperatur : 40 - 80°C
H3BO3 : 40 gr/l pH : 4,5 - 6
Brightener I 80 : 3 ml/l Rapat operasi : 3 A/dm2
brightener M 80 : 2 ml/l Agitasi : udara

Langkah-langkah operasi pelapisan dapat dilihat seperti yang telah diuraikan pada bab-
bab sebelumnya maupun pada proses operasi pelapisan tembaga. Tetapai dalam operasi ini
yang perlu diperhatikan yaitu pengecekan pH, karena larutan ini mempunyai kecenderungan
besar untuk menjadi alkalin. Begitu pula terhadap temperatur dan rapat arus perlu
diperhatikan, karena akan mempengaruhi sifat-sifat dari lapisan
Pada gambar 6, 7 dan 8 dijelaskan pengaruh pH,temeperatur, dan rapat arus terhadap
sifat-sifat lapisan dari proses watt’s (Watt’s bath )

% Perpanjangan (inchi)
Kekerasan (Vickers)

kekerasan
perpanjangan
Gambar 6 Pengaruh pH Terhadap Sifat-sifat Lapisan
P H 2 .0 P H 5 .0
% Perpanjangan (inchi)
Kekerasan (Vickers)
 O O
F F
Kekerasan 4 A / dm2 (pH 5.0)
Perpanjangan 5 A / dm2 (pH 2.0)

Gambar 7 Pengaruh Temperatur Terhadap Sifat-sifat Lapisan

Gambar 8 Pengaruh Rapat Arus Terhadap Sifat-sifat Lapisan

Kekerasan:
Pada temperatur yang lebih tinggi kekerasan hasil pelapisan krom semakin
berkurang, khususnya pada temperatur 70 OC,demikian pula efisiensi arus katoda
juga semakin turun. Berbeda untuk rapat arus yang makin tinggi akan menambah
kekerasan dan efisiensi arus katoda
Konsentrasi CrO3
tinggi kekerasan turun
Temperatur
 Brighness
Faktor yang mempengaruhi adalah rapat arus, konsentrasi dan temperatur.

C. PELAPISAN CHROMIUM
Pelapisan chromium dapat diklasifikasikan dalam dua macam yaitu :
 Pelapisan chromium dekoratif
Pada pelapisan ini umumnya logam (benda kerja )terlebih dahulu dilapis dengan tembaga
kemudian nikel dan akhirnya chromium tebal lapisan chromium kerkisar antara 0.25 – 0,5
mikron.
 Pelapis chromium keras ( hard chromium
Pelapisan ini sering industrial chromium yaitu pelapisan chromium yang memanfaatkan
sifat-sifat chromium untuk mendapatkan sifat-sifat seperti : tahan panas, erosi, korosi dan
koefesien rendah. Pada pelapisan chromium keras, chromium diendapkan pada logam dasar
secara langsung tanpa melalui pelapisan perantara . Biasanya lapisan ini lebih tebal dari
lapisan chromium dekoratif. Berbeda dengan lapisan tembaga dan nikel dimana logam
yang berfungsi sebagai anoda, sehingga dalam lapisan chromium digunakan anoda yg tidak
larut yaitu lead (Pb ).
Komposisi kimia lead yang baik sebagai anoda adalah :
 Lead dengan paduan antinomi
Komposisi : Lead ( Pb ) 92 %
Antimony ( Sb ) 8%
Tahan karat dan kekuatan tinggi
 Lead dengan paduan TIN
Komposisi : Lead (Pb ) 93 %
Tin ( Sn ) 7%
Tahan korosi
Logam-logam dasar yang merupakan paduan nikel seperti stainless steel, dapat
langsung dilapis chromium.
1. Larutan Elektrolit
Sampai saat ini jenis komposisi larutan pelapisan chromium baik pelapisan chromium
dekoratif maupun keras adalah sebagai berikut :
 a. Larutan chromium acid asam sulfat 2.) CrO3 : 200 gr/l
CrO3 250 – 400 gr/l CH3COOH : 6,5 gr/l
H2O3 2,5 – 4 gr/l NiCl2 : 80 gr/l
Kondisi operasi NaNO3 : 5 gr/l
Temperatur 50 - 55°C Kondisi operasi
Rapat arus 15 – 40 A/dm2 Temperatur : 30 - 50°C
b. Larutan chromic fluosolicat Rapat arusan : 100 A/dm2
CrO3 : 250 gr/l
H2SO4 : 0,8 – 1 gr/l
Na2 SiF : 2 – 3 gr/l
Kondisi operasi
Temperatur : 48 - 50ºC
Rapat arus : 20 – 50 A/dm2
c. Larutan chromic
CrO3 : 150-200 gr/l
H2SO3 : 1,3 -0,8 gr/l
KF : 0,6 – 0,8 gr/l

Kondisi operasi
Temperatur : 45 – 50°C
Rapat arus : 23 – 46 A/dm2
d. Larutan black chromium
1.) CrO3 : 250 – 400 gr/l
CH3 COOH : 3 gr/l
CO (NH 2)2 : 3 gr/l
Kondisi operasi
Temperatur : 25ºC
Rapat arus : 50 A/dm2
2. Operasi Pelapisan
Dalam uraian tentang operasi pelapisan chromium, yang akan dibahas atau
diuraiakan disini adalah pelapisan chromium dekoratip. Hal ini berkaitan dengan
banyaknya produk-produk dipasaran adalah lapisan chromium dekoratip. Disamping itu
adanya hubungan dengan lapisan perantara yang diuraikan sebelumnya .
Aliran proses pelapisan chromium dekoratif dapat dilihan pada gmbar 9 bagian
aliran proses pelapisan chromium dekoratif.

Pekerjaan Pelapisan
Bilas Bilas
Pendahuluan Tembaga

Pelapisan Bilas Pelapisan

Bilas
Chromium Bilas Nikel

Pengeringan

Gambar . 9 Bagian Aliran Proses Pelapisan Chromium Dekoratip

Untuk mendapatkan lapisan chromium yang mengkilap kondisi operasi terutama rapat
arus dan suhu larutan merupakan faktor penting untuk diperhatikan.
Apabila rpat arus dan suhu dilur ketentuan yang ada, dapat mengakibatkan hasil
lapisan suram ,sebab setiap larutan mempunyaiGG karakteristik masing-masing, akibat dari
Hubungan antara rapat arus dan suhu larutan serta hasil lapisan yang didapat dari tiap-tiap
larutan dapat dilihat pada gambar 10 dibawah ini.
 S
U
H
U
ºC

Rapat arus,Ampere/dm²
Keterangan :
: Daerah lapisan mengkilap untuk larutan
CrO3 : 250 gr/l (21°Br )
H2SO4 : 2,5
: Daerah lapisan mengkilap untuk larutan
CrO3 : 400 gr/l (31°Br )
H2SO4 : 4
: Daerah lapisan mengkilap pada umumnya

gambar 10 Hubungan Kondisi Operasi dengan Hasil Lapisan

Dari gambar diatas dapat dilihat batas-batas rapat arus dan suhu larutan untuk men –
dapatkan lapisan chromium yang mengkilap. Biasanya bila konsentrasiCrO3 = 250 gr/l
dengan H2SO4 = 2,5 gr/l maka suhu larutan = 40°c , dan rapat arus berkisar
3,1 – 15,5 A/dm2.Bila suhu larutan mencapai 40°c maka rapat arus perlu waktu
dinaikkan 50%.
Seperti dijelaskan diatas bahwa untuk merubah larutan chromic acid murni kelarutan
pelapisan chromium diperlukan sebuah katalis.
Terlalu banyak katalis yang diberikan akan mendapatkan lapisan yang tidah merata ber-
warna browan oxide serta akan mengakibatkan turunnya throwing power.
Untuk itu perbandingan kosentrasi chromic acid dan katalis ( H2SO4 ) harus sering kontrol.
 Katalis larutan fluoride dan fluocroslicote mempunyai sifat meningkat current-
effisiency dengan tambahannya konsentrasi chromic acid .
Sifat-sifat tersebut diperlihatkan pada 11 dengan tanpamelukiskan hubungan temperatur
dengan current density ( rapat arus ).

gambar 11
Sifat-sifat Katalis dari tiap-tiap larutan Pelapisan chromium

Derajat keasaman larutan dapat ditentukan dari kadar CrO3 perliter larutan (kosentrasi
CrO3 ). Semakin tinggi kosentrasinya CrO3 semakin kecil angka pH, hal ini berarti semakin
asam larutan tersebut. Sebaliknya semakin rendah konsentrasinya CrO3 ,
semakin besar angka pH nya, hal ini berarti semakin kurang kesamaan larutan tersebut.
Untuk konsentrasi CrO3 = 247 gr/l maka pH larutan + - 0,3 sedangkan untuk
konsentrasi CrO3 = 450 gr/l , pH larutan + - 0,5 pada suhu 25ºc. Pada gambar 12 dibawah ini
dapat dilihat hubungan antara konsentrasi CrO3 dengan derajat kesamaannya.
 2

0,0

- 0,3
- 0,5

- 1,0 100 300

200 400 500
Konsentrasi CrO3

Gambar 12 Hubungan antara Konsentrasi CrO3 dengan pH

Dari gambar diatas bahwa pH larutan CrO3 selalu dibawah titik nol.

Bak larutan
Besarnya voltase berdasar dari besar voltase lebih hidrogen umumnya larutan yang
mengandung sianid lebih besar voltase bak larutannya dari pada bak asam atau basa
Untuk bak asam menggunakan voltase 6 volt, kecuali krom karena efisiensi yang
sangat rendah menggunakan voltase 12 V.sedangkan bak sianid baik tembaga sianid, nikel
sianid, seng sianid menggunakan voltase 12 V.
Arus yang diperlukan tergantung dari konduktifitas bak larutan, makin konduktif
makin kecil arus yang diperlikan sebaliknya makin tidak konduktif makin tinggi arus yang
diperlukan.
Daftar pustaka
1. Modern Electroplating by F Loweinheim
2. Handbook of Electroplating by Kenneth Graham
3. Elektroplating oleh Agus tri widodo
4. Dekorative chromium plating by AES ( American Electroplating Society )
5. Pelapisan Logam oleh A.J Hartomo.
Lampiran 1. PROSES PELAPISAN TEMBAGA SULFAT DAN MENGKILAP

Ubac salah satu komponen untuk menghilangkan lapisan tembaga yang mengkilap
dalam waktu cepat. Proses ini cocok untuk digunakan dalam pelapisan alat masak dan balok
grounding.
Komposisi Larutan
Bahan Optimun Kisaran
Tembaga sulfat 225 gr / lt 185 – 250 gr / lt
Asam sulfat 65 gr / lt 60 – 100 gr / lt
Ion khlorid 80 gr / lt 60 – 200 gr / lt
UBACR21 4 ml / l
UBACR22 0,4 ml / l
UBAC23 4 ml / l
Pembuatan Larutan
1. Isi wadah 2/3 nya dengan air panas ( 80 ºC )
2. Larutan Tembaga sulfat sambil diaduk
3. Memasukan karbok aktif dengan takaran 2gr/lt,aduk selama 1 jam dan biarkan
kuranglebih dari 8 jam
4. Saringlah larutan kedalam bak plating dan biarkan dingin hingga suhu pelapisan
5. Tambahkan asam sulfat dan terus aduk
6. Masukan UBAC R21, UBAC R22 , UBACR 23
7. Masukan HCI jika diperlukan untuk menyesuaikan kondisi klorida
Kondisi operasi
Arus Katoda 10 – 50 A/dm2
Arus Anoda 6,5 A/dm2
Voltase bak 4 – 12 V
Suhu 38 – 50 C
Pengadukan Udara

Bahan Tambahan
UBAC R21 digunakan pada kondisi awal bak dan menggunakan tingkatan arus listrik pada
kondisi operasi pelapisan. Dosis yang disarankan adalah sebesar 400 - ml/10.000jam- Amp.
Kelebihan akan menyebabkan suram lapisan pada arus lemah, harus dikoreksi dengan
penembahan UBAC R22

UBAC R22, memberikan lapisan yang mengkilap untuk semua tingkatan arus. Kelebihan
menyebabkan rendahnya throwing power dan arus dikoreksi dengan.UBAR21. Dosis yang
digunakan 1.2 liter untuk 10.000 jam Amp.UBAC R23 memberikan throwing power yang
baik, dosis yang digunakan sebsar 400 ml per 10.000 jam Amp.

Lampiran 2. LARUTAN NIKEL KILAP

 Ada tiga komponen utama penyusun larutan elektrolit untuk pelapisan nikel.Bahan-
bahan lain yang ditambahkan adalah brithtener untuk menghasilkan lapisan nikel kilap.
Adapun komposisi selengkapnya adalah sebagai berikut :
Komposisi Larutan
Bahan Optimum Kisaran
Nikel sulfat 300 g/l 225 – 375 g/l
Nikel Chloride 83 g/l 60 – 135 g/l
B oric acid 45 g/l 41- 50 g/l
AM additive 3% g/l 2- 4% volume
Brithtener Magnum SS Qs 1- 15% volume
WA 62 – A 0,2% volume 0,1 – 0,5% volume

Kondisi Operasi

Parameter Optimum Kisaran

pH 4.3 3.9 – 4.6
Suhu 55 C 49 – 63 C
Arus listrik Katoda 4.0 A/dm 2 2.2 – 8.0 A/dm2
Arus listrik anoda 2.0 A/dm2 1.1 – 5.4 A/dm2
Voltase tangki 9 volt 6 – 18 volt

Proses Make Up
Untuk 100 liter dibutuhkan tambahan larutan dengan komposisi sebagai berikut:

Fungsionalitas Bahan Utama

1. Nikel sulfat dan Nikel klorida
Bahan ini merupakan sumber nikel dan klorida dalam larutan. Konsentrasi nikel
merupakan boleh lebih rendah dari 60 gr/l. Kandungan klorida ini penting bagi korosi anoda,
kondoktivitas bak dan arus maksimum katoda. Kelebihan nikel klorida diatas 105 g/l akan
mengurangi kemampuan pelapisan.
2. Boric Acid
Boric Acid penting untuk menjaga kilap lapisan, adhesi dan kemampuan pelapisan.-
Boric caid yang sudah rendah akan menyebabkan lubang pada lapisan dan lapisan –
oranye pada arus tinggi . Pada kondisi temperatur rendah, asam borak tidak boleh lebih-
rendah dari 41 g/l .

Lampiran 3. PELAPISAN KROM DEKORATIF CATALYST CHROM WR-1

Keistimewaan
 1. Chrom catalyst wr-1 adalah proses baru tambahan dalam plating krom.
2. Keadaan kondisi kerja lebih luas, throwing power baik, daya despersion bisa
meningkat 30-60% dan arus listrik (current density) bisa mencapai 22-24% dari
catalyst chrom biasa.
3. hardness (kekerasan) HV lebih tinggi 10-30% dan netral salt spray lebih tinggi 1-2
kali dari catalyst chrom biasa.
4. komposisi chromic acid lebih rendah 40% dari catalyst chrom plating biasa, sehingga
5. Operasi proses ini stabil , mudah perawatan , dapat untuk dekorasi chrom maupun
hard
chrom.

Komposisi dan kondisi kerja :

Chromic Acid 140-180 gr/l
sulfuricAcid 0,4-1 gr/l
WR-1 (catalyst) 1-2 gr/l
Trivalensi Chrom (Cr+3) < 4 gr/l
Temperatur 25-70 derajad celcius
Arus listrik 5-60 A/dm2
Anode timah hitam campur timah putih 8-15%

Cara pembuatan larutan chrom baru :

1. Larutan baru
Menurut komposisi kimia diaduk dalam air bersih (Aquades) hingga larut baru ditambah
Catalyst WR-1 aduk sampai mencair semuanya. Umumnya jika volume larutan chrom tidak
besar tidak perlu di dummy kecuali volume besar lebih baik di dummy 1-2 jam.
Oleh karena chromic acid terkadang telah mengandung H2SO4 maka waktu penambahan
H2SO4 harus diperhatikabn supaya jangan ada kelebihan sulfat dalam larutan chrom.
2. Larutan Chrom yang hendak ditukar memakai WR-1
Yang sedang dipakai larutan chrom diambil contoh untuk dianalisis, konsentrasi chromic acid
dan H2SO4 supaya bisa diatur komposisinyamenurut ketentuan WR-1.
Jika larutan chrom lama yang tidak pernah difilter (saring) endapannya pasti banyak. Harus
ditambah barium carbonat diaduk rata, lalu didiamkan 12 jam keatas. Ambil larutan chrom
atas yang bersih dianalisis dan atur komposisi chromic acid dan H2SO4, lalu tambah WR-1.
3. Perawatan (penambahan) WR-1
Catalist WR-1 agak susah larut didalam larutan chrom, waktu kerja plating WR-1 dengan
sendiriya menesuaikan konsentrasinya. Katalis ini tidak plating out, maka umumnya
konsumsi sangat sedikit. Yang bisa jadi kurang dikarenakan terbawa keluar larutan chrom
bersama benda kerja setelah selesai pengerjaan (drag out). Biasanya larutan chrom 1000 liter
kerja 2sift sehari, setiap bulan cukup ditambahkan WR-1 0,2-0,3 kg.

Lampiran 4. HUBUNGAN KONSENTRASI KHROM DENGAN BERAT JENIS PADA TEMPERATUR

20 C
Derajat Baume Berat Jenis Konsentrasi khrom (gr/lt)
 14.00 1.105 153
14.50 1.110 159
15.00 1.115 165
15.50 1.120 171
16. 00 1.125 178
16.50 1.130 181
17.00 1.133 190
17.50 1.138 197
18.00 1.142 204
18.50 1.148 211
19.00 1.151 218
19.50 1.155 223
20.00 1.161 230
20.50 1.165 236
21.00 1.170 243
21.50 1.175 250
22.00 1.179 256
22.50 1.183 264
23.00 1.189 270
23.50 1.195 278
24.00 1.200 287
24.50 1.205 293
25.00 1.208 300
25.50 1.214 306
26.00 1.220 314
26.50 1.225 322
27.00 1.230 330
27.50 1.235 337
28.00 1.240 345
28.50 1.245 354
29.00 1.250 361
29.50 1.255 369
30.00 1.260 377
30.50 1.267 3 86
3100 1.272 395

Lampiran 5. ANALISA HULL CELL

Tujuan :
1. Menentukan batas-batas rapat arus yang sesuai untuk suatu larutan elektrolit.
2. menentukan jumlah (mm) penambahan yang optimum dari suatu aditif seperti brightener,
leveller dan sebagainya pada suatu larutan elektrolit sehingga mendapatkan hasil yang
diharapkan.
Ketentuan :
1. Hull cell berbentuk empat persegi panjang dan terbuat dari fiberglass tahan kimia dan
mempunyai kapasitas standar 2,5ml.
2. Untuk pelapisan tembaga dan nikel menggunakan plat kuningan yang terpoles setelah
0,25mm.
3. Untuk pelapisan chrom menggunakan plat kuningan terpoles dan telah dilapis dengan
nikel kilap terlebih dahulu.
untuk pelapisan seng. Cadmium dan tembaga cyanide dengan menggunakan katode
dan plat besi terpoles.
4. untuk pelapisan seng Cadmium an tembaga cyanida dengan menggunakan katoda dan
plat besi yang terpoles
5. Ukuran plat kathoda tersebut adalah : 100 x 75 mm.
Rumus yang digunakan untujk analisa HullCell adalah :
i = I (5,1 – 5,24 log - IOx)
dimana : i = rapat arus (Amp/dm)
I = total arus (Amperre)
x = jarak dari rapat arus tertinggi pada panel dalam (cm).

Prosedur :
1. Siapkan peralatan seperti rectifier, hot plate stirrer beker glass, pan pemanas, anode, gelas
ukur, pH meter, hydrometer, thermometer, kabel-kabel dan penjepit buaya.
2. Ambil contoh larutan sebanyak 1 liter dari elektrolit yang akan dianalisa dan bagi dalam
empat tempat terpisah (@250ml) er-lenmeyer.
3. Beri tanda setiap larutan dengan kode tertentu seperti A1,A2,A3 dan A4.
4. Panaskan larutan yang akan dianalisa hingga kondisi operasi yang telah ditentukan.
5. Rangkaian rectifier dengan anode dan katode (katode dimasukkan pada Hull Cell setelah
mengalami proses seperti urutan proses untuk pelapisan ).
6. Masukkan larutan yang telah dipanaskan tadi kedalam Hull Cell.
7. Hidupkan rectifier serta atur Amperre pada 1 Amp dan lakukan proses selama 10 menit.
8. Matikan rectifier dan angkatan katode yang telah terlapis tadi dan lihat secara
visualitas berapa jarak bidang yang mengkilap serta ukuran untuk dihitung pada rumus
tadi.
9. Untuk menentukan kilap lapisanbisa ditambah additive tertentu dengan variasi volume
tertentu dan lakukan pada contoh yang berkode selanjutnya.

Lampiran 6. PROSES COPER CYANIDE UNTUK TIMAH/ZINC ALLOY

1. UNICLEAN 191 : 80 gr/Lt
2. BILAS AIR : 2 – 3 KALI
3. UNICLEAN AS -30 : 30 gr/Lt
4. BILAS AIR : 2 – 3 KALI
5. COPPER CYANIDE
a. Coper cyanide : 45 gr/Lt
b. Sodium cyanide : 64 gr/Lt
c. Coustic soda : 20 gr/Lt
d. Rochelle salt : 30 gr/Lt
e. Cl – 3 : 5 cc/Lt
d. Cl – 4 : 8 cc/Lt

Lampiran 7. PROSES PLATING ALUMINIUM

1. UNICLEAN 190 ( DIGODOK PANAS ) : 50 gr/ Lt
2. BILAS AIR
3. UNICLEAN 191 : 191 gr/Lt
4. BILAS AIR
5. NITRIC ACID : 50% LARUTAN
6. BILAS AIR
7. ALUMSEAL : 50% LARUTAN
8. BILAS AIR
9. NIKEL PLATING

Lampiran 8.Formula dip zinc

I. 1. Sodium hidroksida (NaOH) : 525 g/l

 2. Zinc oxide (ZnO) : 100 g/l
3. Ferric cloride (Fe2Cl3) : 1 g/l
4. Garam rochelle (KNaC4H4O6H2O) : 10g/l

FORMULA DIP ZINC

II. 1. Sodium dioxide (NaOH) kostic : 120 g/l
2. Zing Oxide (ZnO) : 20 g/l
3. Feric lorida (Fe2Cl3) : 30 g/l
4. Rochelle salt (KNa C2H2O64H2O) : 2 g/l
5. (NaHO3) : 19 g/l
III. 1. Coper Cyanide (Cu Cu) : 40 g/l
2. Total Sodium Cyanide (Na Cn) potas : 50 g/l
3. Rochelle salt (KNa C4 H4 O6 4H2O) : 60 g/l
4. Sodium Carbonate (Na2 CO2) : 30 g/l 38 - 43ºC
5. Free sodium Cyanide :49 g/l pH 102 - 105