Pelapisan Logam

Applied Electroplating
21 Juli 2009
UNIT 1
DASAR-DASAR PROSES
ELEKTROPLATING
Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 1 of 20

I. PENDAHULUAN
Jika suatu logam dipajang (expose) kelingkungannya maka akan terjadi
interaksi antara logam dengan lingkungan. Berdasarkan teori, mekanisme
interaksi akan melibatkan pertukaran ion antara permukaan logam dengan
lingkunyannya. Karakteristik pertukaran ion sangat dipacu antara lain oleh
adanya perbedaan potensial diantara keduanya. Hasil dari adanya pertukaran ion
terhadap logam yang dipajang adalah timbulnya kerusakan pada logam serta
terbentuknya produk korosi.
Jadi konsep yang sangat mendasar dalam rangka melindungi logam
adalah mengupayakan agar tidak terjadi pertukaran ion antara logam dengan
lingkungannya. Kalaupun tidak bisa memutus sama sekali pertukaran ion
tersebut, diupayakan agar pertukaran ion berlangsung dengan laju yang relatif
rendah. Berdasarkan kriteria ini maka muncullah pengertian pengendalian,
artinya pertukaran ion yang terjadi dikendalikan lajunya agar tidak berlangsung
terlalu cepat. Upaya pengendalian yang lazim diterapkan dalam rangka
perlindungan terhadap logam yang digunakan adalah sebagai berikut :
 Pemilihan material/logam yang tepat
 Perancangan/design konstruksi yang memadai (appropriate)
 Penambahan Inhibitor
 Penerapan Pelapisan (Coating)
 Penerapan system Proteksi Katodik dan Anodik
 Pengkondisian lingkungan
Metoda perlindungan logam yang banyak digunakan dan paling mudah
dilakukan serta dari aspek biaya lebih murah adalah penerapan pelapisan.
Perlindungan terhadap logam dengan cara menerapkan pelapisan pada
hakekatnya adalah melindungi logam dari lingkungan sehingga pertukaran ion
antara permukaan logam dengan sekeliling lingkungan dapat dikendalikan.
Sistem perlindungan yang memisahkan kontak antara logam dan
lingkungan sangat banyak dijumpai. Lapisan pemisah ini dapat digolonbgkan
sebagai berikut :
- Lapisan hasil reaksi kimia atau elektrokimia pada permukaan logam .
- Lapisan anorganik : cat, resin, plastik, karet dan lain sebaginya.
- Lapisan organik : enamel, semen dan lain sebagainya.
- Lapisan logam : logam murni, logam paduan.

Proses pelapisan logam sendiri dapat diklasifikasikan sebagai berikut :
- Secara Pelelehan ( celup panas/hot dip)
- Secara Endap Vakum
- Secara Sherardizing
- Secara Rich Coating
- Secara Listrik (Electroplating)
Bila dibandingkan dengan proses-proses pelapisan logam dengan cara
lain, proses lapis listrik mempunyai beberapa keuntungan dan kelemahan :
- Keuntungan :
 Suhu/temperatur operasi rendah yaitu berkisar 60 – 700C
 Ketebalan lapisan mudah dikendalikan
 Permukaan halus dan mengkilap
 Hemat dalam pemakaian logam pelapis
- Kelemahan :
 Adanya keterbatasan dalam usuran lapisan dan desain dari benda
kerja yang akan dilapis.
 Hanya bisa dilakukan dibengkel ( harus ada listrik), tidak bisa dilakukan
dilapangan.
 Terbatas dengan bahan yang bersifat konduktor.
Dengan adanya kemajuan teknologi lapis listrik, kelemahan-kelemahan
diatas dapat diatasi yaitu dengan cara lapis listrik selektif dan proses electroless.
II. PENGERTIAN PROSES LAPIS LISTRIK (ELECTROPLATING)

Lapis listrik (electroplating) adalah suatu proses pengendapan zat (ion-ion
logam) pada elektroda (katoda) dengan cara elektrolisa. Terjadinya sutau
endapan pada proses ini adalah karena adanya ion-ion bermuatan listrik
berpindah dari suatu elektroda melelui elektrolit yang mana hasil dari elektrolisa
tersebut akan mengendap pada elektroda lain (katoda). Endapan yang terjadi
bersifat adhesive terhadap logam dasar.
Selama proses pengendapan/deposit berlangsung terjadi reaksi kimia
pada elektroda dan elektrolit baik reaksi reduksi maupun reaksi oksidasi dan
diharapkan berlangsung terus menerus menuju arah tertentu secara tetap. Untuk
itu diperlukan/digunakan arus listrik searah (direct current) dan tegangan yang
konstan/tetap.

Prinsip dasar dari proses lapis listrik adalah berpedoman atau
berdasarkan HUKUM FARADAY yang menyatakan :
- Jumlah zat-zat (unsur-unsur) yang terbentuk dan terbebas pada
elektroda selama elektrolisa sebanding dengan jumlah arus listrik yang
mengalir dalam larutan elektrolit.
- Jumlah zat-zat (unsur-unsur) yang dihasilkan oleh arus listrik yang
sama selama elektrolisa adalah sebanding dengan berat ekivalen
masing-masing zat tersebut.
Pernyataan tersebut diatas dapat ditulis dengan rumus sebagai berikut :
I t e
B
F
Keterangan :
B = Berat zat yang terbentuk (gram)
I = Jumlah arus yang mengalir (Ampere)
t = Waktu (detik)
e = Berat ekivalen zat yang dibebaskan (berat atom suatu unsur dibagi
valensi unsur tersebut)
F = Jumlah arus yang diperlukan untuk membebaskan sejumlah gram
ekivalen suatu zat.
1 F = 96.500 Coloumb yaitu jumlah arus listrik yang diperlukan untuk
membebaskan 1 grek suatu zat.
Hukum Faraday sangat erat kaitannya dengan efisiensi arus yang terjadi
pada proses pelapisan secara listrik. Effisiensi arus adalah perbandingan berat
endapan yang terjadi dengan berat endapan secara teoritis dan dinyatakan
dalam persen (%).
Bila diatas dijelaskan bahwa tegangan/arus dalam proses lapis listrik
diinginkan dalam kondisi yang konstan, maksud dari pernyataan tersebut adalah
tegangan tidak akan berubah/terpengaruh oleh besar kecilnya Ampere.
V
I
R

Keterangan :
I = Banyaknya arus (Ampere)
V = Tegangan (Volt)
R = Tahanan
Sehingga untuk memvariabelkan ampere, maka yang divariabelkan hanyalah

tahanannya saja, sedangakan voltagenya tetap.
III. ISTILAH-ISTILAH DALAM PROSES LAPIS LISTRIK

Seperti pada proses-proses metal finishing lainnya, dalam pelapisan
secara listrik (electroplating) banyak istilah-istilah yang digunakan dan perlu
diketahui, sehingga dalam pnerapannya/prakteknya tidak akan menemui
kesulitan, karena jelas perbedaan satu sama lainnya.
Istilah-istilah dalam lapis listrik antara lain :
- Electroda
Suatu terminal dalam larutan elektrolit yang mana aliran listriknya
mengalir ke dan darinya.
- Anoda (Anode)
Elektroda negatif yang padanya terjadi pelepasan ion negatif dan
membentuk ion negatif (reaksi oksidasi).
- Katoda ( cathhode)
Elektorda negatif yang padanya terjadi pelepasan ion Negatif dan
membentuk ion negatif (reaksi reduksi).
- Elektrolit
Zat-zat yang molekul-molekulnya dapat larut dalam air dan terurai
menjadi zat-zat (atom-atom) yang bermuatan negatif dan negatif.
- Ion
Zat-zat yang terurai yang mana atom atau molekul-molekulnya
bermuatan listrik negatif dan negatif. Zat yang bermatan negatif disebut
anion (ion negatif) dan yang bermuatan Negatif disebut kation (ion
negatif).
- Lumpur anoda
Sisa zat yang tidak larut dihasilkan dianoda dan mengotorinya.
- Lepuh (blister)

Pembengkakan pada bagian tertentu dari hasilpelapisan karena daya
lekat (adhesif) lapisan yang kurang baik.
- pH
Derajat keasaman suatu asam dalam larutan yang merupakan logaritma
dari konsentrasi asam dengan tanda negatif.
- Inhibitor
Bahan yang dapat mengurangi pemakanan atau pengrusakan oleh asam
pada benda kerja.
- Cuci asam (Pickling)
Suatu cara menghilangkan karat (korosi) pada benda kerja dengan
larutan asam.
- Cuci lemak (Degreasing)
Pembersihan permukaan logam dari lemak, minyak atau zat organik
lainnya dengan larutan alkalin.
- Rapat arus (Current Density)
Jumlah arus yang mengalir perluas unit elektroda.
- Efisiensi arus (Current Efficiency)
Perbandingan antara jumlah teoritis arus listrik yang akan terpakai
dengan jumlah arus listrik yang sebenarnya terpakai.
- Kerapuhan hidrogen (Hydrogen Embritlement)
Suatu kegetasan pada benda kerja akibat penyerapan gas hidrogen pada
proses pencucian dan pelapisan.
- Stop of material
Suatu bahan yang berfungsi menutupi hasil pelapisan.
- Bahan pengkilat (Brightener)
Zat tambahan yang bersifat membentuk lapisan agar lebih mengkilap
atau yang memperbaiki kecemerlangan diatas endapan/lapisan.
- Pengaktifan (Activation)
Pembersihan dari keadaan pasif, pada permukaan logam agar menjadi
lebih aktif.
- Polarisasi anodic (Anodic Polarization)
Penggeseran potensial elektroda katodik akibat adanya aliran listrik.
- Polarisasi katodik (Cathodic Polarization)

Penggeseran potensial elektroda kearah anodic akibat adanya aliran
listrik.
- Proses elektroles (Electroless Plating)
Pengendapan lapisan logam secara reaksi reduksi tanpa listrik, bertujuan
untu merubah bahan menjadi konduktif.
- Zat aktif permukaan (Surface active agent/Surfactant)
Zat kimia yang dimasukkan kedalam larutan sebagai zat pengaktip
permukaan.
- Pembilasan (Rinsing)
Suatu busaha pencucian atau penetralan permukaan benda kerja dari
asam atau alkali dengan air bersih.
- Free cyanide
Banyak cyanide yang melebihi daripada kebutuhan diperlukan untuk
mengubah larutan pelapis menjadi seperti logam yang termasuk garam
cyanide kompleks.
- Covering power
Kemampuan suatu elektrolit untuk mengendapkan logam keseluruh
permukaan katoda yang bagimanapun bentuknya. Covering power
tergantung pada proses persiapan permukaan dan kondisi dari proses
lapis listriknya sendiri.
- Throwing power
Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan lapisan yang sama tebalnya
pada benda kerja yang rumit atau biasa.
- Macro throwing power
Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan endapan yang kurang lebih
sama tebalnya pada benda kerja yang tidak beraturan bentuknya. Faktor
yang mempengaruhi macro throwing power adalah distribusi arus, kondisi
operasi, efisiensi arus dan konduktivtas.
- Micro throwing power
Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan endapan/lapisan yang sama
tebalnya pada setiap titik permukaan benda kerja. Difusi ion logam
merupakan hal yang terpenting bagi micro throwing power.

- Levelling
Kemampuan untuk menghasilkan lapisan yang lebih tebal pada lekukan
dari pada permukaan yang rata.
- Chromat process (Chromating)
Teknik pengerjaan lapis lindung yang dilakuka secra kimia dengan
mencelupkan benda kerja yang sudah dilapisi seng kedalam larutan
encer yang terdiri dari chromat atau bichromat sebagai bahan utama.
- Solvent cleaning
Suatu cara pembersihan gemuk, lemak dengan menggunakan bahan
organik (pelarut organik).
IV. PRINSIP KERJA LAPIS LISTRIK

Pada prinsipnya pelapisan logam dengan cara lapis listrik adalah
merupakan rangkaian dari : arus listrik, anoda, larutan elektrolit dan katoda
(benda kerja).
Keempat gugusan ini disusun sedemikian rupa, sehingga membentuk
suatu sistim lapis listrik dengan rangkaian sebagai berikut :
- Anoda dihubungkan dengan kutub positip dari sumber listrik.
- Katoda dihubungkan pada kutub negatif dari sumber listrik.
- Anoda dan Katoda direndamkan dalam larutan elektrolit.
Bila arus listrik (potensial) searah dialirkan antara kedua elektroda anoda
dan katoda dalam larutan elektrolit, maka muatan ion negatif ditarik oleh elektoda
katoda. Sementara ion bermuatan negatif berpindah kearah elektroda bermuatan
negatif. Ion-ion tersebut dinetralisir oleh kedua elektroda dan larutan elektrolit
yang hasilnya diendapkan pada elektroda katoda. Hasil yang terbentuk/terjadi
adalah lapisan logam dan gas hidrogen.
Untuk lebih jelasnya rangkaian dan prinsip kerja proses lapis listrik dapa
dilihat pada gambar 1 dan 2 berikut ini:

Gambar 1. Rangkaian proses lapis listrik
Sebagai contoh misalkan pelat baja yang akan dilapis dengan

tembaga/cupper (Cu). Larutan yang digunakan adalah garam cupper sulfat
(CuSO4). Oleh karena pada anoda dan katoda terjadi perbedaan potensial
setelah dialiri listrik, maka logam tembaga akan terurai didalam larutan elektrolit
yang juga mengandung ion-ion tembaga.
Melalui larutan elektrolit, ion-ion tembaga (Cu2+) akan terbawa kemudian
mengendap pada permukaan katoda (pelat baja) dan berubah menjadi atom-
atom tembaga.
Gambar 2. Prinsip kerja proses lapis listrik

Di sini terjadi reaksi reduksi ion tembaga menjadi logam tembaga sebagai
berikut :
CuSO4 ↔ Cu 2+ + SO42-
H2O ↔ H+ + OH-
Cu2+ + 2 e ↔ Cu↓
Fenomena terjadinya reaksi tersebut sewaktu proses pelapisan

berlangsung dan dapat dilihat pada gambar 3 berikut ini:
Katoda (-) Anoda (+)
-
CuSO 4
Cu++ Cu++
Cu
Cu Cu++
+
H
+
++
Cu SO4- SO4-
H+ H 2O
Cu++
H + OH-
+
H +
H2 O2
- (Gas)
(Gas) OH
Gambar 3. Reaksi yang terjadi sewaktu pelapisan.
V. LARUTAN ELEKTROLIT
Telah diuraikan diatas bahwa suatu proses lapis listrik memerlukan larutan
elektrolit sebagai media proses berlangsung. Larutan elektrolit dapat dibuat dari
larutan asam, basa dan garam logam yang dapat membentuk muatan ion-ion
negatif dan ion-on negatif. Tiap jenis pelapisan, larutan elektrolitnya berbeda-bea

tergantung pada sifat-sifat elektrolit yang diinginkan. Sebagai contoh pelapisan
tembaga, larutn yang dipAkai dibuat dari garam logam cupper sulfat (CuSO4) dan
H2O yang akan terurai seperti berikut :
CuSO4 ↔ Cu 2+ + SO42-
H2O ↔ H+ + OH-
Oleh karena larutan elektrolit selalu mengandung garam dari logam yang
akan dilapis. Garam-garam tersebut sebaiknya dipilih yang mudah larut, tetapi
anionnya tidak mudah tereduksi.
Walau anion tidak ikut langsung dalam proses terbentuknya lapisan, tapi
jika menempel pada permukaan katoda akan menimbulkan gangguan bagi
terbentuknya microstructur lapisan.
Kemampuan/aktivitas dariion logam ditentukan oleh konsentrasi dri garam
logamnya, derajat disosiasi dan konsentrasi unsur-unsur lain yang ada didalam
larutan. Bila konsentrasi logamnya tidak mencukupi untuk diendapkan, akan
terjadi endapan/lapisan yang terbakar pada rapat arus yang relatip rendah. Selain
itu, larutan elektrolit harus mempunyai sifat-sifat seperti ”Covering power,
throwing power dan levelling ” yang baik.
Adanya ion klorida dalam larutan yang bersifat asam berfungsi :
- Mempercepat terkorosi/terkikisnya anoda atau mencegah pasipasi
anoda.
- Menaikkan koefisien difusi dari ion logamnya atau menaikkan batas
rapat arus (limiting current density).
Sedangkan larutan yang bersifat basa (alkali) yang banyak digunakan pada
proses lapis listrik adalah garam komplek cyanida, karena cyanid komplek
terekomposisi oleh asam.
Fungsi natrium hydroksida dan kalsium hydroksida pada larutan yang
brsifat basa adalah untu memperbaiki konduktivitas dan mencegah leberasi dari
asam hydrocyanat oleh karbon dioksida (CO2) yang masuk kedalam larutan dari
udara.
Beberapa bahan/zat kimia sengaja dimasukkan/ditambahkan kedalam
larutan elektrolit bertujuan untuk mendapatkan sifat-sifat lapisan tertentu. Sifat-

sifat tersebut antara lain tampak rupa (appearance), kegetasan lapisan
(brittlness), keuletan (ductility), kekerasan (hardness) dan struktur mikro lapisan
yang terjadi (microstructur).
Untuk mengatur pH, maka ditambah/dimasukkan unsur yang berfungsi
sebagai penyangga (buffer/pengatur pH), misalnya pada larutan nickel digunakan
asam borat dan sodium hydroksida pada larutan yang bersifat basa.
VI. ANODA
Pada proses pelapisan secara listrik, peranan anoda sangat penting dalam
menghasilkan kualitas lapisan. Pengaruh kemurnian/kebersihan anoda terhadap
elektrolit dan penentuan optimalisasi ukuran serta bentuk anoda perlu
dipikirkan/diperhatikan.
Dengan perhitungan/pertimbangan yang cermat dalam menentukan anoda
pada proses pelapisan dapat memberikan keuntungan yaitu meningkatkan
distribusi endapan, mengurangi kontaminasi laruitan, menurunkan biaya bahan
kimia yang dipakai, meningkatkan efisiensi produksi dan mengurangi timbulnya
masalah-masalah dalam proses pelapisan.
Adanya arus listrik yang mengalir melalui larutan elektrolit diantara kedua
elektroda, maka pada anoda akan terjadi pelepasan ion logam dan oksigen
(reduksi), selanjutnya ion logam tersebut dan gas hydrogen diendapkan pada
elerktroda katoda.
Peristiwa ini dikenal sebagai proses pelapisan dengan anoda terlarut
(soluble anoda), tetapi bila anoda tersebut hanya dipakai sebagai penghantar
arus saja (conductor of current), anoda ini disebut anoda tak larut (unsoluble
anoda). Dari anoda terlarut akan terbentuk ion logam sewaktu atom logam
dioksidasi dan melepaskan elektron-elektron yang sebanding dengan elektron-
elektron dari katoda. Ion logam direduksi kembali secara kontinyu dalam atom
logam, selanjutnya diendapkan pada katoda. Anoda tidak larut adalah paduan
dari bahan-bahan baja nickel, paduan timbal-tin, karbon, platina-titanium dan lain
sebaginya.
Anoda ini diutamakan selain sebagai penghantar yang baik juga tidak
mudah terkikis oleh larutan dengan atau tanpa aliran listrik. Tujuan dipakainya
anoda tidak larut adalah untuk:
- Mencegah terbentuknya logam yang berlebihan dalam larutan

- Mengurangi nilai investasi peralatan
- Menghindari dari kehilangan
Kerugian penggunaan anoda tidak larut adalah cenderung teroksidasinya
unsur-unsur tertentu dari anoda tersebut kedalam larutan. Oleh karena itu anoda
jenis ini tidak bisa digunakan dfalam larutan yang mengandung bahan-bahan
organik (organic agent) atau cyanid.
Garam logam sering ditambahkan dalam larutan bertujuan untuk menjaga
kestabilan komposisi larutan dari pengaruh unsur-unsur yang larut dari anoda
tidak larut.
Bagi industri pelapisan, anoda tidak larut kurang bagitu disenangi, mereka
lebih menyukai memakai anoda terlarut. Hal ini dikarenakan harga anoda terlarut
2-4 kali lebih murah dibandingkan harga jumlah logam equivalen yang
diserap/diambil dari larutan garam logam.
Beberapa kriteria yang perlu diperhatikan dalam memilih anoda terlarut
antara lain adalah:
- Effisiensi anoda yang akan dipakai
- Jenis larutan elektrolit
- Kemurnian bahan anoda
- Bentuk anoda
- Rapat dan kapasitas arus yang disuplay
- Cara pembuatan anoda
Effisiensi anoda akan turun/berkurang akibat adanya logam pengotor
(metallic impurities) dan kekasaran butiran yang terdapat dalam larutan. Pengotor
dalam anoda juga dapat menyebabkan terjadi pasivasi dan mengurangi effisiensi
anoda secara drastis.
Kemurnian anoda terlarut dapat meningkatkan effisiensi anoda, tetapi
rapat arus yang tinggi pada saat pelapisan berlangsung akan menyebabkan
pasivasi pada anoda, sehingga perlu diperhitungkan besarnya rapat arus
terhadap luas permukaan anoda.
Pada proses lapis listrik yang umum dipakai perbandingan anida dengan
katoda adalah 2 : 1, karena kontaminasi anoda adalah penyebab/sumber utama
pengotor, maka usahakan penggunaan anoda yang semurni mungkin.
Spesifikasi kemurnian anoda yang disarankan dapat dilihat pada tabel
berikut ini:

Tabel 1 Spesifikasi anoda terlarut
No. Anoda Kemurnian (%) Unsur-Unsur Pengotor
1. Cadmium 99,95 Ag, As, Cu, Fe, Pb, Sb, Ti dan Zn

2. Copper 99,97 Ag, Cd
3. Lead Alloy 99,92 Ag, Cu, Cd, Zn
4. Nickel 99,98 Ag, Cd, Cu, Fe, Pb, Sn, Zn
5. Tin 99,92 Ag, As, Bi, Cd, Cu, Fe, Pb, S, Sb
6. Tin – Lead 99,93 Ag, As, Bi, Cu, Fe, S, Pb, Sb, Zn
7. Silver 99,95 Bi, Fe, Si, S,Sn, Fe, Zn
8. Zinc 99,98 Cu, Cd, Pb, Sn
Sedapat mungkin menggunakan anoda sesuai bentuk yang akan di lapis. Jarak
dan luas permukaan anoda di atur sedemikian rupa, sehingga dapat mengasilkan
lapisan yang seragam dan rata.
Rapat arus anoda usahakan dalam range yang dikehendaki agar mudah di
kendalikan. Anoda dan gantunganya dapat menyupley arus dengan sempurna
tanpa menimbulkan panas yang berlebihan.
Bentuk-bentuk anoda terdiri dari beberapa macam, ada yang berbentuk
balok,bulat,palet lempengan dan kubus, sedangkan ukiuran sesuai dengan
bentuk anoda tersebut.
Untuk bentuk bulat, kubus dan palet biasanya digunakan dengan memakai
keranjang yang berfungsi sebagai tempat penampung anoda.Bentuk=bentuk
anoda dapat dilihat pada gambar 4.
Gambar 4. Bentuk-bentuk anoda.

VII. AIR
Pada industri pelapisan secara listrik, air merupakan salah satu unsur
pokok yang selalu harus tersedia. Biasanya penggunaan air pada proses lapis
listrik di kelompokan dalam empat macam yaitu :
- air untuk pembuatan larutan elektrolit
- air untuk menambah larutan elektrolit yang menguap
- air untuk pembilasan dan
- air untuk proses pendingin
Dari fungsi air tersebut dapat ditentukan kualitas air yang dibutuhkan untuk
suatu proses.
Air ledeng/kota di pakai untuk proses pembilasan, pencucian, proses etsa
(etching) dan pendingin. Sedangkan air bebas mineral (aquadest DM) di pakai
khusus ubtuk pembuatan larutan, analisa larutan dan pembuatan larutan
penambah .
Air suling (aquadest) dengan ukuran spesifikasi konduktifitasnya tidak
melebihi dari 50 microhos, bisa di pakai pengganti aqua DM.
Pada proses pelapisan air yang digunakan harus berkualitas baik. Air
ledeng/kota yang masih mengandung anion dan kation, jika tercampur dengan
ion-ion dalam larutan akan menyebabkan turunya efisiensi endapan/lapisan.
Unsur-unsur yang tidak diinginkan dalam larutan adalah unsur kalsium dan
magnesium, karena mudah bereaksi dengan cadnium cyanid, cupper cyanid, siler
cyanid dan senyawa-senyawa lainya, sehingga akan mempercepat kejenuhan
larutan.
Umumnya unsur-unsur yang terdapat dalam air adalah kandungan dari
garam-garam seperti bicarbonat, sulfat, chlorid dan nitrat. Unsur-unsur garam
lokal alkali (sodium/potasium) tidak begitu mempengaruhi konsentrasi larutan
sewaktu operasi pelapisan berlangsung. Kecuali pada larutan lapis nikel. Karena
akan menaikan arus listrik (throwing power). Tetapi akan menghasilkan lapisan
lapisan yang getas (brittle).
Adanya logam-logam berat seperti besi dan mangan sebagai pengotor
menimbulkan cacat-cacat antara lainkekasaran ( roughness), porous, gores
(streakness), noda-noda hitam (staining), warna yang suram (iridensceat) atau

mengkristal, modular dan keropos. Untuk itu maka diperlukan air murni (reagent
water) untuk membuat larutan dan menggantikan larutan yang menguap.
VIII PROSES LAPIS LISTRIK

Secara garis besarnya proses lapis listrik dapat di kelompokan dalam tiga
tahap pengerjaan yaitu:
8.1. Proses pengerjaan persiapan/tahap pendahuluan (pre treatment)

Sebelum lapis listrik dilakukan, permukaan benda kerja yang akan di lapis
harus dalam kondisi benar-benar bersih, bebas dari bermacam-macam pengotor.
Hal ini mutlak agar bisa di dapat hasil lapisan dengan cara listrik yang baik.
Untuk mendapatkan kondisi seperti tersebut perlu di lakukan pengerjaan
pendahuluan dengan tujuan:
- Menghilangkan semua pengotor yang ada di permukaan benda kerja
seperti pengotor organik, anorganik / oksida dan lain-lainya.
- Mendapatkan kondisi fisik permukaan yang lebih baik dan lebih aktif.
Teknik pengerjaan pendahuluan ini tergantung dari pengotoran, tetapi
secara umum dapat diklasifikasikan sebagai berikut:
8.2. Pembersihan secara mekanik:

Pekerjaan ini betujuan untuk menghaluskan permukaan dan
menghilangkan goresan-goresan serta geram-geram yang masih melekat pada
benda kerja.
Biasanya untuk menghilangkan goresan-goresan dan geram-geram
tersebut dilakukan dengan mesin gerindra, sedangkan untuk menghaluskan
permukaannya dilakukan dengan proses buffing. Prinsipnya sama seperti proses
gerindra, tetapi roda/wheel polesnya yang berbeda yaitu terbuat dari bahan
katun, kulit, laken dan sebagainya. Selain dari pengerjaan seperti tersebut diatas,
kadang-kadang diperlukan proses lain misalnya brushing, brigthening dan lain
sebagainya.

8.3. Pembersihan/pencucian dengan pelarut (solvent):
Proses ini bertujuan untuk membersihkan lemak, minyak, garam dan
kotoran-kotoran lainnya dengan pelarut organik. Pembersihan dilakukan dengan
cara:
 Vapour degreasing yaitu proses pembersihan dengan pelarut yang tidak
mudah terbakar. Prinsipnya benda kerja diuapkan dengan pelarut tersebut
dalam keadaan panas, kemudian kotoran akan mengembun/menguap
karena adanya reaksi dari bahan pelarut.
 Proses pembersihan pada temperatur kamar yaitu dengan menggunakan
pelarut organik, tetapi dilakukan pada temperatur kamar dengan cara
diusap/dipoles.
8.4. Pembersihan/pencucian dengan alkalin (Degreasing):

Pekerjaan ini bertujuan untuk membersihkan benda kerja dari lemak atau
minyak-minyak yang menempel. Pembersihan ini perlu sekali, karena lemak
maupun minyak tersebut akan mengganggu pada proses pelapisan, karena
mengurangi kontak antara lapisan dengan logam dasar/benda kerja.
Pencucian dengan alkalin digolongkan dalam dua cara yaitu dengan cara
biasa (alkalin degreasing) dan dengan cara electro (electrolitic degreasing).
Pembersihan secara biasa hádala meredamkan benda kerja dalam larutan
alkalin dalam keadaan panas selama 5-10 menit. Lamanya perendaman harus
disesuaikan dengan kondisi permukaan benda kerja. Seandainya lemak atau
minyak yang menempel lebih banyak, maka dianjurkan lamanya perendaman
ditambah hinga permukaan bersih dari noda-noda tersebut.
Pembersihan secara electro bertujuan selain akan didapatkan hasil
pembersihan yang lebih bersih juga meningkatkan kecepatan pencucian. Prinsip
kerjanya dengan menggunakan arus listrik dan katoda dipakai dengan
lempengan carbon. Bila benda kerja yang akan dibersihkan ditempatkan pada
arus listrik negatif, maka prosesnya disebut anoda cleaning/degreasing, begitu
pula sebaliknya.

8.5. Pencucian dengan asam (pickling):
Pencucian dengan asam bertujuan untuk membersihkan permukaan
benda kerja dari oksida atau karat dan sejenisnya secara kimia melalui
perendaman. Larutan asam ini terbuat dari pencampuran air bersih dengan asam
antara lain:
- Asam chlorid (HCl)
- Asam sulfat (H2SO4)
- Asam sulfat dan asam fluorid ( HF)
Reaksi proses pickling sebetulnya adalah proses electro kimia dalam sel
galvanis antara logam dasar (anoda) dan oksida (katoda). Gas H2 yang timbul
dapat mereduksi ferri oksida yang mudah larut. Dalam reaksi ini biasanya
diberikan inhibitor agar reaksi tidak terlalu cepat dan menghasilkan pembersihan
yang merata. Ada dua jenis bahan inhibitor yang dikenal yaitu:
- Bahan organik alam (natural organic) yaitu glatine, lumpur minyak,
asfaltum, sulfonate, coaltar, Woodtar dan sebagainya.
- Bahan organik sintetis (synthetic organic) yaitu thio aldehyd, pyridine,
quinidine, aldehyde dan sebagainya.
Adapun keuntungan menggunakan larutan asam chlorid adalah :
- Menghasilkan keseragaman permukaan benda kerja
- Mudah dibilas
- Terjadinya over pickling lebih kecil
- Operasinya lebih mudah
Keuntungan menggunakan asam sulfat yaitu:
- Ongkos lebih rendah
- Pencemar bau rendah/kecil
Untuk barang/benda kerja dari besi/baja cor yang maíz mengandung sisa-
sisa pasir dapat digunakan larutan campuran dari asam sulfat dan asam fluorid,
sebab larutan tersebut dapat berfungsi selain untuk menghilangkan oksida/serpih
juga dapat membersihkan sisa-sisa pasir yang menempel pada benda kerja.

IX. Proses lapis listrik
Setelah benda kerja betul-betul bebas dari pengotor, maka benda kerja
tersebut sudah siap untuk dilapis. Rangkaian sistem pelapisan dapat dilihat
seperti yang digambarkan pada gambar 5.
Gambar 5. Skematis rangkaian proses pelapisan.
Dalam operasi pelapisan, kondisi operasi perlu/penting sekali untuk

diperhatikan. Karena kondisi tersebut menentukan berhasil atau tidaknya proses
pelapisan serta mutu pelapisan yang dihasilkan. Kondisi operasi yang perlu di
perhatikan tersebut antara lain:
9.1. Rapat arus (current density):

Rapat arus adalah bilangan yang menyatakan jumlah arus listrik yang
mengalir perluas unit elektroda.Terbagi dalam 2 macam yaitu rapat arus yang di
perhitungkan ialah rapat arus katoda yaitu banyakna arus listrik yang di perlukan
untuk mendapatkan atom-atom logam pada tiap satuan luas benda yang akan di
lapis.

Rapat arus dapat di atur , makin tinggi raat arus, makin meningkat
kecepatan pelapisan dan dapat memperkecil ukuran/bentuk kristal.Tetapi bila
rapat arus terlalu tinggi akan mengekibatkan lapisan kasar, bersisik dan akan
terbakar/hitam. Satuan arus dinyatakan dalam Amp/dm2 atau Amp/ft2 atau
Amp/in2.
9.2. Tegangan arus (Voltage):

Seperti di jelaskan sebelumnya bahwa pada proses lapis listrik, tegangan
yang digunakan harus konstan sehingga yang di variablekan hanyalah ampere
saja. Maksudnya adalah bila Luas Permukaan benda kerja bervariasi, maka rapat
aruslah yang di variasikan sesuai dengan ketentuan,sedangkan voltagenya tetap.
Sebagai contoh pada pelapisan tembaga, rapat arus ditentukan 3,6
A/dm2, voltage 6 volt, sedangkan luas benda yang akan dilapisi 10 dm2 maka
rapat arus adalah 36 A/dm2, tetapi tegangan tetap 6 volt.Biasanya tegangan
yang digunakan pada operasi lapis listrik adalah 6-12 volt.
9.3. Temperatur/Suhu larutan:

Temperatur larutan dapat mempengaruhi hasil lapisan. Kenaikan
temperatur larutan menyebabkan bertambahnya ukuran kristal. Pada temperatur
yang tingi, daya larut bertambah besar dan terjadi: penguraian garam loga yang
menjadikan tingginya konduktifitas serta menambah mobilitas ion logam, tetapi
viscositas jadi berkurang, sehingga endapan ion logam pada katoda akan lebih
cepat sirkulasinya. Sebagai contoh dari pengaruh temperatur terhadap lapisan
dapat dijelaskan sebagai berikut.
Bila temperatur larutan pada pelapisan chromium decorative lebih rendah
dari 45 C rapat arus sama (20 A/Dm2), tetapi hasil lapisan tampak suram juga.
Hal ini dikarenakan lapisan terbakar.
9.4. pH Larutan:
pH di pakai untuk menentukan derajat keasaman suatu larutan elektrolit
dan dalam operasi lapis listrik, pH berarti juga pOH-. pH larutan dapat diatur
/diukur dengan alat ukur pH meter atau colorimeter.Tujuan menentukan derajat
keasaman ini adalah untuk melihat atau mengecek kemampuan dari larutan
dalam menghasilkan lapisan yang lebih baik. Umumnya untuk larutan yang

bersifat basa/alkali.derajat keasaman (pH) nya berkisar antara 11-14, sedangkan
untuk larutan asam, pH-nya berkisar 4,5-5,6. Untuk mengatur nilai pH sesuai
dengan yang diinginkan, digunakan sodium atau potassium hydroksida dan atau
asam sulfat untuk larutan yang bersifat asam.
9.5. Proses pengerjaan akhir ( Post Treatment)

Benda kerja yang telah dilakukan proses lapis listrik biasanya di bilas dan
di keringkan. Tetapi kadang-kadang perlu juga dilakukan pengerjaan lanjut
seperti misalnya dipasipkan atau di beri lapis pelindung chromat (chromatting)
atau lapis lindung transparan yaitu dengan Iaquar. Proses ini dilakukan dengan
cara dipping biasa, tetapi untuk apis lindung dengan lacquar biasa secara electro
dan dipping.

UNIT 2
PERALATAN PROSES ELEKTROPLATING
Peralatan Proses Elektroplating Page 1 of 9

2.1 Peralatan Utama
Peralatan utama yang diperlukan pada proses lapis listrik (elektroplating) yaitu:
2.1.1 Rectifier
Merupakan salah satu peralatan utama dalam proses elektroplating,
peralatan ini berfungsi sebagai sumber arus searah (DC). Output tegangan yang
keluar: 6, 9, 12 volt dan jumlah arus (ampere) relatif rendah yaitu sampai 3000
ampere. Untuk mengurangi panas yang berlebihan, maka rectifier perlu
dilengkapi dengan pendingin berupa:
- Konveksi udara biasa
- Konveksi udara dengan menggunakan tenaga blower
- Menggunakan sirkulasi oli
- Menggunakan sirkulasi air
- Menggunakan air dan udara
Dalam hal operasi dan pemeliharaannya perlu diperhatikan antara lain:
- Rectifier dapat dioperasikan terus menerus pada kapasitas yang
maksimal bila panas yang terjadi tidak berlebihan, karena rusaknya
rectifier ini bukan disebabkan oleh arus listrik yang terjadi, tetapi oleh
adanya panas yang berlebihan.
- Faktor yang dapat merusakkan rectifier antara lain korosi dan
macetnya komponen listriknya (korsluiting, putus dan lain sebagainya).
Gambar 2.1 Rectifier untuk proses elektroplating.

2.1.2 Bak Larutan
Bak larutan merupakan salah satu peralatan utama yang berfungsi untuk
menampung larutan elektrolit, larutan pencuci, dan air pembilas. Bahan bak
tergantung dari jenis dan kondisi larutan yang ditampungnya dengan persyaratan
sebagai berikut:
- Tahan terhadap korosi yang ditimbulkan oleh larutan.
- Tahan terhadap suhu/temperatur larutan.
- Tidak mencemari larutan yang ditampungnya.
Untuk memenuhi persyaratan tersebut diatas, terkadang bak tersebut harus
dilapis. Jenis bahan bak dan pelapisnya untuk setiap jenis larutan yang akan
ditampung dapat dilihat pada tabel 2.1.
Selain memperhatikan bahan bak, maka dalam merancang suatu bak
(Gambar 2.2), perlu diperhatikan konsrtuksi bak yang dikaitkan dengan bentuk
dan ukuran benda kerja yang akan dilapis. Setelah ditentukan jenis bahan bak
dan pelapis serta bentuk dan ukurannya, maka hal lain yang juga diperhatikan
adalah dudukan bak, bibir bak, penguat dan dasar bak. Dudukan bak diperlukan
agar bak terdukung lebih kuat dan tidak adanya kontak langsung dengan lantai,
sehingga kemungkinan kerusakkan sebagai akibat basahnya lantai dapat
dikurangi.
Gambar 2.2. Bak Larutan.

Tabel 2.1 Jenis bahan dan pelapis bak larutan.
Pelat Baja
Pelat Baja Pelat Baja Pelat Baja Plastik
Pelat Baja Lapis Bata Bahan Bahan
Jenis Larutan Pelat Baja Lapis Lapis Lapis Fiber
Stainless Tahan Plastik Keramik
Karet Plastik Timbal Glass
Asam
Kuningan S B S B TD TD B S S
Kadmium (asam) TD TD B B TD S B S S
Kadmium (alkalin) TD B TD B TD TD B S TD
Chromium TD TD TD B B S S S TD
Tembaga (asam) TD TD B B S S B B S
Tembaga (alkalin) TD B TD S TD TD S B TD
Emas (asam) TD TD TD B TD TD B S S
Emas (alkalin) S TD TD B TD TD B S S
Timbal (asam) TD TD B B TD S S S TD
Nikel TD TD B B TD TD B S TD
Perak TD TD B B TD TD B S S
Timah (asam) TD TD B B TD S B S S
Timah (alkalin) TD B TD TD TD TD TD TD TD
Seng (asam) TD TD B B TD S B S S
Seng (alkalin) TD B S B TD TD S TD TD
Anodizing (asam chromium) TD B TD TD TD S TD TD TD
Anodizing (asam sulfat) TD TD S S B S S S S

Bibir bak diperlukan untuk menguatkan bak sehingga bagian sisi bak akan
lebih kaku dan sebagai tempat dudukan batang penggantu anoda dan katoda
(rak atau benda kerja). Penguat diperlukan untuk menjaga agar bak tidak
bengkak (swelling) akibat tekanan larutan, penguat bak biasanya dipasang pada
bagian pinggang bak dengan bibir bak.
Dasar bak sebaiknya direncanakan sedemikian rupa, sehingga
memudahkan pengerjaan proses pembersihan atau pengeringan larutan,
biasanya dasar bak direncanakan miring atau bercelah. Pada bagian yang
terendah biasanya dibuat lubang pipa yang dilengkapi denga kran untuk jalan
keluar larutan.
2.2 Peralatan Tambahan

2.2.1 Rak Benda kerja
Rak benda kerja merupakan salah satu peralatan tambahan yang
berfungsi sebagai tempat mengantungkan barang (benda kerja) yang akan
dilapis dan sebagai penghantar arus listrik yang diperlukan oleh barang yang
akan dilapis. Untuk menentukan rapat arus yang akan dialirkan, bentuk dan
ukuran serta jenis bahan rak perlu diketahui/dirancang sedemikia rupa, sehingga
cukup kuat untuk menahan berat benda kerja serta tidak menimbulkan panas
yang berlebihan baik pada benda kerja maupun pada rak itu sendiri.
Ukuran dan jumlah titik kontak antara barang dan rak diusahakan sekecil
mungkin, karena apabila terlalu besar, maka pada barang akan tampak bekas
gantungan, hal ini akan menurunan kualitas lapisan. Benda kerja pada rak,
diusahakan agar tidak menimbulkan gas sekitar bagian yang terbuka, arus
terdistribusi dengan baik dan dapat mencegah penumpukkan udara/gas.
Rak (Gambar 2.3) harus mudah diangkat dari dan ke dalam bak, setiap
sebelum dan setelah selesainya operasi: pembersihan, pembilasan dan proses
pelapisannya. Panjang rak setelah ditempati benda kerja tidak melebihi 15 cm
dari dasar bak, 12,5 cm dari sisi bak dan harus terendam sekurang-kurangnya 5-
8 cm dari permukaan atas larutan.
Setelah bahan rak, pelindung rak hal lain yang perlu diperhatikan adalah
sistem kaitan gantungan rak pada batang gantungan katoda dan anoda. Bentuk
kaitan tersebut perlu didesain sedemikian rupa agar kontak listrik sebaik
mungkin, sehingga tidak menimbulkan panas yang berlebihan. Seabagai contoh

pada gambar 2.3 diperlihatkan bentuk kaitan dan hubungan antara rak dan
bendakerja serta pada gambar 2.4 ditunjukkan rak jenis keranjang.
Gambar 2.3 Beberapa jenis rak untuk gantungan benda kerja.
Gambar 2.4 Bentuk rak keranjang (basket).

2.2.2 Barrel
Barrel berfungsi selain sebagai tempat menampung barang akan dilapis,
juga sebagai agitasi larutan dalam usaha menghindari penumpukkan logam
pelapis. Putaran barrel menyebabkan sirkulasi larutan berjalan dengan
sempurna, sehingga dapat mencegah terjadinya penimbunan udara pada daerah
benda kerja.
Kontak arus listrik didalam barrel, timbul sebagai akibat adanya kontak
antara benda kerja dengan poros barrel yang fleksibel dan antar benda kerja itu
sendiri. Barrel seperti yang ditunjukkan pada gambar 2.5, biasanya digunakan
untuk proses pelapisan dari barang atau produk-produk yang berukuran kecil
misalnya mur, baut, dan lain-lain. Bentuk dan ukuran barrel telah
mempunyaistandar tertentu sesuai kapasitas dan ukuran produk (benda kerja)
yang akan dilapis.
Gambar 2.5 Jenis dan bentuk barrel untuk proses pelapisan.
Barrel dapat diklasifikasikan sebagai berikut:

1. Horizontal Barrel, yaitu sebagian dari barrel atau seluruhnya direndamkan
dalam bak yang berisi larutan, dengan ketentuan:
a. Dinding silinder yang berlubang dan mempunyai pintu yang dapat
dilepaskan, dan anoda terletak diluar barrel tersebut
b. Dinding yang berlubang dan dilengkapi dengan pintu dan anoda
berada pada bagian dalam silinder barrel.

2. Oblique Barrel
a. Oblique barrel yang berbentuk tabung silinder dengan posisi 45o,
larutan dan anodanya berada dibagian luar barrel.
b. Bagian oblique barrel terendam dalam bak dan mempunyai dinding
yang berlubang-lubang dengan diameter: 3-5 mm, sedangkan
anodanya berada pada bagian luar barrel.
2.2.3 Pemanas (Heater)

Dalam proses lapis listrik atau elektroplating, pemanasan atau
pendinginan larutan elektrolit adalah berfungsi untuk mencapai kondisi operasi
yang dipersyaratkan, untuk mencapai hasil lapisan yang diinginkan.
Sistem pemanasan dan pendinginan dapat dilakukan dengan dua cara
yaitu dari dalam bak atau dari luar bak. Pemanasan atau pendinginan dari dalam
bak (gambar 2.6) dapat dilakukan dengan pemanas celup (immersion heater) dan
akan efektif bila luas permukaan heater ± 4 cm2, sedangkan sistim pemanasan
dan pendiginan dari luar bak dapat dilakukan dan tidak tergantung pada luas
permukaan bak.
Media yang biasa digunakan untuk mengalirkan pemanas, yaitu uap air,
air panas dan listrik, sedangkan media pendingin yang biasa digunakan adalah
gas atau air. Jumlah pemanasan atau pendingan yang dibutuhkan, tergantung
pada volume dan jenis larutan.
Gambar 2.6 Pemanas listrik (heater).

2.2.4 Agitator
Selama proses pelapisan berlangsung, larutan sekitar katoda menjadi
kurang pekat (encer), karena sebagian ion logam terendapkan pada benda kerja
sehingga menyebabkan arus listrik akan bergerak ke bagian atas larutan.
Kejadian ini disebut konveksi natural dan akan menyebabkan ketebalan lapisan
menjadi berkurang dan rapat arus menjadi bertambah. Oleh karena itu untuk
mendapatkan hasil lapisan yang tebal dan merata,perlu dilakukan sistim agitasi
dengan tujuan sebagai berikut:
1. Pengisian kembali ion-ion logam yang berkurang didekat katoda atau
bendakerja.
2. Mencegah terjadinya gelembung udara pada permukaan benda kerja.
3. Menghindari penumpukkan ion-ion logam dalam larutan.
Sistim agitasi dapat dilakukan dengan cara disemprot udara atau dengan cara
sirkulasi larutan dengan menggunakan pompa ataupun secara mekanik dengan
menggunakan propeller.
2.2.5 Saringan (Filter)

Penyaringan adalah suatu proses pemisahan pengotor padat dalam
larutan dengan cara memasukkan bahan kimia melalui suatu media yang dapat
menahan lajunya pengotor padat tersebut. Teknik penyaringan ini dapat
dilakukan dengan cara langsung, menggunakan alat penyaring (gambar 2.7) atau
dengan cara menggunakan bak penyaring atau bak pembantu. Kriteria yang
diperlukan untuk menentukan sistim penyeringan adalah sebagai berikut:
1. Jenis dan jumlah tingkat kontaminasi yang hendak dibersihkan.
2. Laju aatau kecepatan penggantian larutan akibat kantaminan.
3. Frekwensi penyaringan yang diperlukan dalam menjaga kondisi
larutan.
Sumber utama terjadinya kontaminasi dalam larutan adalah berasal dari anoda,
debu, udara kotor, pengotor kimia atau logam serta dari udara agitasi.

Gambar 2.7 Peralatan penyaring (filter).

UNIT 3
PROSES ELEKTROPLATING: Cu, Ni-Cr

DAN Zn
Proses Elektroplating Cu, Ni-Cr dan Zn Page 1 of 26

3.1 Elektroplating Tembaga (Cu)
Manfaat Lapisan Cu:
• Sebagai lapisan antara.
• Sebagai stop-offs dalam proses perlakuan panas.
• Sebagai cetakan dalam proses electroforming.
• Sebagai pelindung terhadap pengaruh electromagnetic.
• Sebagai lapisan penghantar listrik (sirkuit elektronik).
• Sebagai lapisan tahan korosi.
• Sebagai pencegah thermal shock.
• Sebagai lapisan dekoratif.
Jenis elektrolit pelapisan tembaga:

• Larutan Sianida
• Larutan non Sianida
• Larutan Alkalin Pyrophosphat
• Larutan Sulfat
• Larutan Fluoborat
Komposisi & kondisi operasi proses elektroplating Cu dalam larutan Sianida

• Larutan Sianida Rochelle umumnya digunakan untuk menghasilkan lapisan Cu-
strike (ketebalan: 1.0 to 3.0 mikron).
• Larutan Sianida Rochelle konsentasi tinggi digunakan untuk menghasilkan
ketebalan diatas 8 mikron.
• Jenis larutan Sianida Rochelle dapat digunakan untuk jenis proses barrel
plating.
• Proses Cu-plating dengan larutan jenis efisiensi tinggi, benda kerja harus
dilakukan pelapisan Cu-strike terlebih dahulu dengan ketebalan sekitar 1.3
mikron dengan jenis larutan Sianida.
• Pada Cu-plating dengan menggunakan larutan jenis efisiensi tinggi akan
menghasilkan kecepatan proses pelapisan Cu yang 3-5 kali lebih tinggi
dibandingkan jenis Sianida Rochelle.
• Pada jenis larutan Sianida, rendahnya konsentrasi sianida dapat menyebabkan
hasil lapisan menjadi kasar dan tipis tetapi peningkatan konsentrasi sianida
akan berpengaruh pula terhadap: laju korosi anoda yang semakin tinggi dan
menurunkan efisiensi katoda.
• Untuk benda kerja baja penambahan NaOH atau KOH akan meningkatkan
konduktivitas larutan dan mencegah korosi pada wadah (baja) anoda,
konstruksi dan bak larutan.
• Untuk benda kerja seng hasil die castings, konsentrasi hidroksida harus
dipertahankan antara1.3 to 3.8 g/L
• Untuk benda kerja paduan aluminium, pH larutan harus diturunkan sekitar 9.7-
10 dengan penambahan sodium bicarbonate dan selalu ditambahkan tartaric
acid atau sodium bicarbonate pada larutan untuk mempertahankan pH
antara10-10.5
• Jenis larutan Sianida dapat dioperasikan pada temperatur kamar tatapi
umumnya antara 32 and 49 °C untuk meningkatkan laju pelapisan dan
meningkatkan pelarutan anoda
• Jenis larutan Sianida umumnya dioperasikan pada rapat arus katoda dari 1-1.5
A/dm2 dan voltase bak normalnya antara 4 dan 6 V
• Pengadukan larutan akan menghasilkan komposisi elektrolit yang seragam,
korosi apada anoda yang lebih seragam dan meningkatkan rapat arus
sehingga lapisan Cu yang terbentuk akan lebih mengkilap

• Rapat arus yang lebih dari 5 A/dm2 dapat diterapkan dengan jenis pengadukan
udara dan agitasi pada benda kerja
• Penambahan additive dapat dilakukan untuk meningkatkan efisiensi larutan
(menurunkan efek pengotor dalam larutan) dengan penambahan complexing
agents (tartrate salts). reducing agents (hexavalent chromium) dan wetting
agents (surfactants)
• Pada jenis larutan Sianida Rochelle, potassium salts dapat diganti dengan
sodium salts pada konsentrasi logam Cu tinggi sampai 38 g/L, hal ini dapat
meningkatkan pemakaian rapat arus yang tinggi sampai 6 A/dm2.
• Jenis larutan Sianida Rochelle umumnya dioperasikan pada temperatur antara
54 and 71 °C yang dapat menghasilkan efisiensi terbaik yang dpat
menghasilkan laju pelpisan yang lebih tinggi
• Pada larutan Sianida jenis efisiensi tinggi, dapat dioperasikan pada temperatur
yang lebih tinggi sampai diatas 77 °C (170 °F).
• Untuk proses Cu-plating material paduan seng die castings, elektrolitnya paling
baik dioperasikan pada temperatur 60-71 °C dan pH antara 11.6 dan 12.3.
• Peningkatan temperatur pada larutan Sianida Rochelle, akan meningkatkan
efisiensi anoda dan katoda
• Peningkatan pengadukan larutan,akan meningkatkan efisiensi anoda tetapi
akan meningkatkan pembentukan karbonat (karena oksidasi sianida dan juga
penyerapan CO2 bereaksi dengan larutan alkali dalam larutan). Karbonat
dapat diambil dengan cara pendinginan larutan. Tingginya konsentrasi
karbonat akan menurunkan efisiensi anoda serta menghasilkan lapisan yang
kasar dan berpori.
• pH Larutan Sianida Rochelle sebaiknya dipertahankan antara 12.2 dan 13.0.

Kurva pengaturan pH larutan elektrolit Rochelle
• Konduktivitas larutan Sianida Rochelle dapat ditingkatkan dengan penambahan

sodium hidroksida 2-15 g/L ( to 2 oz/gal). Sodium hidroksida sebaiknya
diturunkan jika larutan tersebut dioperasikan untuk proses pelapisan: zinc-base
die castings, aluminum, atau magnesium (larutan dapat terkontaminasi oleh
seng dan dapat diambil secara elektrolisis larutan pada temperatur kamar
dengan rapat arus 0.2-0.3 A/dm2 yang menghasilkan lapisan warna kuningan.
• Kontaminasi dari besi, tidak dapat diambil dari larutan dan menyebabkan
penurunan efisiensi arus. Untuk mencegahnya perlu ditambahkan wetting
agents.
• Perlu pengontrolan larutan dan penyaringan larutan secara periodik dengan
pemberian karbon aktif.

Kurva hubungan antara waktu proses elektroplating Cu dengan efisiensi siklus
pelapisan
Kurva hubungan antara efisiensi siklus pelapisan dengan ketebalan lapisan hasil
elektroplating Cu

Batasan konsentrasi & kondisi operasi pada elektroplating Cu dalam larutan
alkaline non cyanide
•Jenis larutan non sianida dioperasikan dengan konsentrasi logam Cu yang relatif
lebih rendah yaitu antara 7.5-13.5 g/L.
•Kelebihan jenis larutan ini adalah tidak menghasilkan gas sianid (beracun),
pengolahan limbah lebih murah, dan hasil lapisan lebih stabil (karena tidak ada
dekomposisi sianid yang menghasilkan karbonat).
•Pada operasi dengan rapat arus antara 0.5-3.5 A/dm2, efisiensi katoda
mendekati 100%.
•Kurangnya pengadukan larutan dapat menghasilkan lapisan yang buram dan
terbakar pada arus antara1.5 to 2.0 A/dm2
•pH larutan jenis non sianida adalah antara 9-10, sehingga dapat digunakan
untuk Cu-plating strike ataupun akhir
•Tidak ada pengaturan awalterhadap pelapisan benda kerja sengc die cast dan
zincated aluminum
•Pada operasi dengan pH dibawah 9, akan menghasilkan lapisan yang lebih
mengkilap tetapi daya lekatnya relatif lebih rendah, dan pada pH diatas 10 dapat
menyebabkan lapisan buram
•Kontaminan pada jenis larutan non sianida lebih rendah. Perlakuan terhadap
kotoran pada larutan dilakukan dengan menggunakan hidrogen peroksida dan
karbon aktif

Batasan konsentrasi & kondisi operasi pada eletroplating Cu dalam larutan
copper pyrophosphate
•Jenis larutan alkalin pyrophosphate digunakan untuk aplikasi dlapisan dekoratif

termasuk pelapisan pada plastik papan sirkuit elektronik, dan pada lapisan stop-
off.
•Karakteristik larutan jenis ini adalah diantara larutan sianid dan jenis asam (lebih
mendekati larutan sianid jenis efisiensi tinggi).
•Larutan ini dapat dioperasikan pada pH netral.
•Lapisan yang dihasilkan semi mengkilat.
•Efisiensi katoda hampir 100%.
•Pada jenis larutan pyrophosphate, rapat arus anoda dipertahankan antara 2-4
A/dm2.
•Larutan jenis asam sulfat menghasilkan efisiensi katoda antara 95-100%.
•Larutan jenis ini mudah dioperasikan dan dikontrol.
•Menghasilkan lapisan yang halus, mengkilat rata dan lebih ulet.
•Jika pengadukan larutan atau agitasi benda kerja rendah, maka rapat arus tidak
boleh lebih dari 4.5 A/dm2
•Pengontrolan dan penyaringan larutan terhadap kontaminan dilakukan dengan
menggunakan karbon aktif.

Spesifikasi dan standar untuk elektroplating Cu
Perkiraan waktu elektroplating Cu (valensi 1) untuk menghasilkan ketebalan

tertentu pada efisiensi 100%

•Jenis larutan Sianida mengandung Cu valensi-1.
•Untuk larutan yang mengandung Cu valensi-2 (non Sianida, Sulfat,
pyrophosphate, dan fluoborate), maa waktu proses elektroplatingnya manjadi 2
kalinya dari watu pada tabel tersebut.
•Perlu penambahan waktu hasil koreksi sebagai akibat adanya kehilangan dari
efisiensi katoda yaitu sebesar nilai perbedaan antara efisiensi aktual dengan
efisiensi 100%. Contoh untuk efisiensi katoda sebesar 70%, maka ditambahkan
30%nya dari perkiraan waktu yang terdapat pada tabel tersebut.
Pengotor.
 Menyebabkan kasarnya lapisan Cu yang dihasilkan, antara lain dari:
 benda kerja selesai proses cleaner sehingga membentuk silikat pada
larutan
 anoda yang terkorosi
 pengotor sulfida dari bendakerja yang larut
 material organik yang terbawa dan tidak larut dalam air
 karbonat yang terbawa dan tidak larut dalam air
 oli
 partikel halus ataupun debu
Faktor lain yang mempengaruhi kualitas lapisan Cu:

 Kemurnian air yang digunakan.
 Besi yang terlarut dalam air dapat menyebabkan lapisan menjadi kasar
pada diatas 3.5 (besi tidak dapat mengendap).
 Klorida diatas 0.44 g/L (0.05 oz/gal) dapat menyebabkan pembentukan
lapisan yang tidak rata (globular).
 Calcium, magnesium, dan besi yang mengendap pada larutan dan
material organik
dapat menyebabkan pitting pada lapisan.

Jenis pengadukan pada elektroplating Cu
Grafik ketebalan dan berat lapisan tembaga terhadap luas yang dilapis
3.2 PELAPISAN NIKEL

Jenis pelapisan ini selain ada yang bertujuan untuk dekoratif seperti
lapisan nikel mengkilap, lapisan nikel suram dan lapisan nikel hitam, ada juga
yang bertujuan teknik yaitu untuk meningkatkan kekerasan permukaan
komponen misalnya lapis nikel keras (hard nickel). Sumber logam pada
pelapisan nikel berasal dari garam nikel. Bila konsentrasi garam nikel tinggi maka
rapat arus semakin tinggi dan kecepatan pelapisan semakin meningkat. Jika
konsentrasi garam nikel rendah maka permukaan lapisan akan “terbakar“ jika
rapat arus yang digunakan tinggi dan efesiensi katoda menjadi rendah. Tabel
dibawah ini memperlihatkan komposisi dan kondisi operasi dari beberapa jenis
eletrolit Nikel.

Nickel electroplating solutions
Penambahan Nikel klorida dimaksudkan untuk mempercepat

pengkorosian pada anoda dan meningkatkan konduktivitas larutan sehingga
struktur kristal lapisan lebih halus dan kekerasan lapian meningkat. Penambahan
asam borat bertujuan untuk penyangga (buffer) sehingga mudah dalam
pengontrolan pH larutan.
Untuk mencegah stratifikasi larutan elektrolit dan menjaga agar temperatur
dalam larutan seragam, maka perlu dilakukan pengadukan (agitasi) baik dengan
cara mekanik, udara, sirkulasi larutan, maupun penggoyangan pada katoda.
Beberapa masalah yang mungkin timbul dalam pelapisan Nikel adalah sebagai
berikut :
1. Efesiensi katoda menjadi rendah jika:

• Konsentrasi garam Nikel terlalu rendah
• Rapat arus terlalu rendah
• Rapat arus terlalu tinggi jika dibandingkan dengan temperatur larutan,
konsentrasi logam nikel dan derajat agitasi.

• Temperatur larutan terlalu rendah
• Jumlah hydrogen peroksida atau bahan anti pitting terlalu tinggi
• pH larutan terlalu rendah
2. Dijumpai adanya pitting jika:

• Kurangnya bahan tambahan anti pitting
• Jumlah asam borat terlalu rendah
• Sumber logam pelapis terlalu sedikit
• Keasaman terlalu tinggi
• Pengadukan tidak sesuai
• Adanya pengotor dalam elektrolit
3. Rendahnya kecepatan pelapisan jika:

• Sumber logam pelapis sedikit
• Temperatur larutan terlalu rendah
• Konsentrasi hydrogen peroksida terlalu tinggi
• Rapat arus terlalu rendah
4. Lapisan Tidak sempurna / tidak menempel

• Larutan bersifat alkalin (biasanya terlihat dari tampilan larutan yang keruh dan
hasil pelapisan yang suram)
• Larutan terlalu asam (pada katoda timbul gelembung gas/evolusi hydrogen yang
berlebihan sehingga lapisan keras dan mengkilap)
• Adanya lemak pada permukaan benda kerja
Jenis pelapisan nikel yang banyak dijumpai di lapangan sebenarnya jenis

pelapisan nikel mengkilap (lihat komposisi pada tabel sebelumnya). Sebenarnya
lapisan yang mengkilap dapat dihasilkan dari lapisan nikel biasa (suram) yang
digosok-gosok, tetapi hal ini sangat tidak ekonomis, sehingga biaya produksi
menjadi meningkat.
Untuk menghasilkan lapisan yang mengkilap, biasanya dilakukan
penambahan bahan pemengkilap (brightener) ke dalam larutan elektrolit.
Brightener kelas I digunakan untuk mendapatkan lapisan putih mengkilap,
sedangkan brightener kelas II dimaksudkan untuk memperoleh permukaan

kilapan seperti cermin. Kedua brightener tersebut harus bersama-sama
digunakan dalam elektrolit sebab jika hanya brightener kelas I saja yang
digunakan, maka akan timbul tegangan sisa yang cukup tinggi dan kerapuhan
pada lapisan.
Brightener kelas I biasanya berupa napthalena disulfonic acid atau alkyl
napthalena disulfonic acid, sedangkan brightener kelas II biasanya mengandung
garam logam atau senyawa organik tak jenuh. Untuk menjaga agar kualitas
lapisan tetap mengkilap maka selain pengadukan (agitasi), penyaringan larutan
juga harus dilakukan secara kontinyu. Selain itu, selama proses pelapisan, anoda
akan mengeluarkan kotoran (berupa endapan). Oleh karena itu perlu dilakukan
pembungkusan anoda dengan bahan polypropilene.
Nickel electrodeposition data

Decorative nickel-plus-chromium coatings on steel
Standards and Recommended Thicknesses. ASTM B 456
Other nickel plating solutions and some properties of the deposits

3.3 PELAPISAN ZN
Karakteristik:
• Seng bersifat anodik terhadap besi & baja, oleh karena itu dapat menjadi
lapisan protektif dengan ketebalan antara 7 to 15 mikron (0.3 to 0.5 mil) setara
dengan ketebalan lapisan nikel atau lapisan katodik lainnya.
• Jika dibandingkan dengan logam lain adalah pelapisan seng relatif murah dan
dapat diterapkan di/dalam barrel, tangki/tank, atau fasilitas proses pelapisan
kontinyu.
• Proses pelapisan seng dilakukan dengan menggunakan listrik, dan terlihat abu-
abu setelah pelapisan. Untuk menghasilkan lapisan seng yang terang sebagai
lapisan dekoratif, maka sesudah proses pelapisan (plating) diberikan suatu
lapisan konversi (kromatasi) atau pernis bening (atau keduanya).
• Lapisan seng, walaupun lebih tidak tahan lama dibandingkan lapisan nikel,
tetapi cukup memberikan suatu perlindungan terhadap karat (korosi) dan biaya
proses yang jauh lebih murah.
Jenis Larutan:
Pelapisan seng komersial, dapat menggunakan sistem larutan yang cukup
berbeda, yaitu:
• larutan sianida
• larutan alkalin non sianida
• dan larutan asamklorid.
Larutan Seng Sianida

Larutan seng sianida, dibagi menjadi empat klasifikasi yang berbasis pada
sianida, yaitu:
• Larutan seng sianida reguler
• Larutan midcyanide atau larutan dengan konsentrasi sianida, medium
• Larutan sianida-rendah
• dan latutan seng Microcyanide
Tabel 1 menunjukkan komposisi umum dan syarat-syarat operasi untuk sistem
ini.

Tabel 1. Komposisi dan prameter operasi dari larutan seng sianida

Standar Larutan Seng Sianida
• Perlu pembersihan permukaan yang lebih baik dari pada sistem lain.
• Larutan seng Sianida adalah benar-benar fleksibel, dan berbagai macam
komposisi larutan dapat memenuhi persyaratan pelapisan seng. Sistem larutan
seng sianida tidak bersifat merusak ke/pada peralatan, sehingga tangki/tank
dan keranjang anoda yang terbuat dari baja dapat digunakan untuk sistim
larutan ini, pada hakekatnya dapat mengurangi investasi awal pabrik.
• Sistem sianida juga mempunyai sejumlah kerugian, mencakup tingkat
keracunan. (dengan kekecualian larutan perak atau cadmium sianida), larutan
seng sianida standar yang berisi 90 g/L (12 oz/gal) dari total sodium sianida
merupakan larutan yang berpotensi paling beracun dalam industri pelapisan.
Bahaya terhadap kesehatan dari larutan sianida konsentrasi tinggi ini
memerlukan biaya tambahan dalam memperlakukan limbah sianida, sehingga
alasan primer inilah untuk menggunakan larutan sianida dengan konsentrasi
lebih rendah atau diganti dengan menggunakan larutan non sianida atau asam,
walaupun teknologi untuk penanganan limbah larutan sianida sangat telah
berkembang, tetapi memerlukan biaya untuk awal penanganan pabrik mungkin
saja lebih besar dari biaya instalasi proses pelapisannya.
• Kerugian Lain adalah konduktivitas larutan yang relatif lebih rendah.
Konduktivitas larutan sianida pada hakekatnya lebih rendah dari larutan asam.
• Efisiensi proses pelapisan dari sistem sianida, sangat bervariasi tergantung
pada beberapa faktor-faktor seperti temperatur larutan, konsentrasi sianida,
dan kerapatan arus. Di/dalam instalasi proses sistim barrel, kerapatan arusnya
sampai dengan 2.5 A/dm2 (25 A/ft2 ) dengan efisiensi dapat mencapai 75
sampai 90%. Di/dalam instalasi proses sistim rak, efisiensinya di bawah 50%
pada kerapatan arus di atas 6 A/dm2 (60 A/ft2 ).
Larutan Seng Midcyanide

Larutan sianida standar menghasilkan throwing and covering power yang
baik sekali. Kemampuan larutan melapisi bahan pada kerapatan arus yang
sangat rendah adalah lebih baik dari sistim larutan seng lainnya. Kemampuan ini
tergantung pada komposisi larutan, temperatur, logam dasar (jenis bahan), dan
penggunaan aditip. Konsentrasi jenis larutan ini ditunjukkan pada tabel 1.

Karakteristik penyepuhan dari larutan midcyanide dan larutan sianida
reguler, pada kenyataannya adalah sama. Kelemahan Satusatunya dari larutan
midcyanide ini dibandingkan dengan larutan standar, adalah toleransi terhadap
pengotor yang sangat rendah dan preparasi permukaan yang harus sangat baik.
Kelemahan ini adalah jarang ditemui dalam praktek di pabrik. Lebih besar proses
pembilasan, pada hakekatnya adalah lebih sedikit dragout, dan menghemat
persiapan larutan, biaya pemeliharaan, dan biaya
proses sehingga menjadi keunggulan dari jenis larutan ini.
Larutan Seng Low-cyanide

• Dioperasikan pada kira-kira 6 sampai 12 g/L (0.68 sampai 1.36 oz/gal) sianida
sodium dan logam seng. Larutan ini karakteristiknya berbeda dengan jenis
midcyanide dan sianida standar. Aditip, secara normal digunakan di/dalam
larutan reguler dan sianida midstrength, tetapi tidak berfungsi dengan baik
pada larutan sianida rendah, sehingga brighteners untuk larutan Sianida-
rendah menggunakan brightener khusus.
• Larutan seng sianida rendah, lebih sensitif temperatur dibandingkan larutan
reguler atau midcyanide. Efisiensi larutan jenis ini adalah sama dengan larutan
sianida reguler pada awalnya, tetapi itu cenderung menyebabkan
pengelupasan (terutama pada/di kerapatan arus yang lebih tinggi). Jenis
larutan ini memiliki throwing power and covering power yang sedikit lebih
rendah dibandingkan dengan larutan midcyanide standar. Larutan lowcyanide
lebih tidak sensitif terhadap pengotor dibandingkan larutan standar atau
midcyanide. Pengotor dari logam lebih banyak tidak larut pada larutan dengan
konsentrasi sianida yang lebih rendah. Larutan jenis ini banyak digunakan
secara ekstensif untuk proses pelapisan seng sistim rak barang-barang kawat.
Tidak seperti sistem sianida lain, larutan sianidarendah tidak sensitif terhadap
penambahan sulfida untuk mengurangi pengotor bahkan dapat mengurangi
kecerahan lapisan dan kecepatan
proses pelapisan.
Larutan Seng Microcyanide

secara esensial merupakan larutan seng alkalin noncyanide. Proses
pelapisan seng dengan lmenggunakan larutan alkalin ini relatif cukup sulit,

sehingga ditambahkan sedikit sianida minimal 1.0 g/L (0.13oz/gal), sebagai suatu
aditip yang dapat meningkat kecerahan hasil lapisan. Bagaimanapun, itu
bertujuan untuk dapat meniadakan atau sepenuhnya mengeliminasi sianida.
Table 2 Komposisi & parameter proses dari larutan seng alkaline noncyanide
Larutan alkalin noncyanide relatif murah proses & pemeliharaannya.

Larutan ini menggunakan logam seng: 7.5 sampai 12 g/L (1.0 sampai 1.6 oz/gal)
digunakan pada3 A/dm2 (30 A/ft2 ) yang dapat menghasilkan suatu lapisan seng
yang terang/cerah dengan efisiensi kira-kira 80%, seperti yang diperlihatkan pada
Gambar. 1. Jika konsentrasi logam turun hingga 2 g/L (0.26 oz/gal), maka
efisiensi turun sampai dibawah 60% pada kerapatan arus ini. Meningkatnya
konsentrasi logam hingga di atas 17 g/L (2.3 oz/gal) akan menghasilkan lapisan
berwarna abu-abu dop dan tidak rata, rapat arus menurun; sehingga,
penambahan aditip perlu dilakukan untuk menyelesaikan masalah ini.
Meningkatkan konsentrasi hidroksida sodium akan meningkatkan efisiensi,
seperti diperlihatkan pada Gambar. 2. Jika, konsentrasi yang terlalu tinggi maka
akan menyebabkan penumpukkan lapisan pada daerah sudut atau sisi.
Noncyanide Alkalin seng adalah satu larutan yangrelatif praktis.

Gambar. 1 Effisiensi arus pada katoda katoda sebagai fungsi dari konsenrasi
logam seng dari larutan seng alkalin noncyanide. NaOH, 80 g/L (11oz/gal); Na2
CO3 , 15 g/L (2 oz/gal)
Gambar. 2 Pengaruh konsentrasi logam seng & sodium hidroksida terhadap

efisiensi katoda dari larutan noncyanide. Temperature: 26 °C (77 °F). : Lingk-7.5
g/L (1 oz/gal)- Zn, 75 g/L (10 oz/gal) NaOH; •: 7.5 g/L (1.0 oz/gal) Zn, 150 g/L (20
oz/gal) NaOH; Segitiga Kosong- 11 g/L (1.5 oz/gal) Zn, 110 g/L (15 oz/gal) NaOH;
Segitiga Pejal- 15 g/L (2.0 oz/gal) Zn, 150 g/L (20 oz/gal) NaOH; Segi Empat 11
g/L (1.5 oz/gal) Zn, 150 g/L (20 oz/gal) NaOH.

Temperatur
Larutan seng Sianida dapat dioperasikan pada temperatur 12 sampai 55
°C (54 sampai 130 °F), pemakaian umum adalah antara 23 sampai 32 °C (73
sampai 90 °F). Temperatur operasi ini diberikan tergantung pada jenis benda
kerja, permukaan akhir yang diinginkan dan karakteristik larutannya.
Temperatur larutan sangat berpengaruh dalam sistem seng sianida, sehingga
temperatur optimum perlu ditentukan. Pengaruh meningkatnya temperatur
Larutan:
 Meningkatkan efisiensi katode
 Meningkatkan konduktivitas larutan
 Meningkatkan karat (korosi) pada anoda
 Menghasilkanlapisan yang buram
 Mengurangi daya liput (covering power)
 Mengurangi throwing power
 Meningkatkan penguraian sianida dan agen penambahan
 Menurunkan temperatur larutan akan mempunyai efek kebalikan.
 Mengoperasikan larutan pada temperatur yang relatif tinggi, akan
memberikan konduktivitas dan efisiensi pelapisan yang optimum.
Effisiensi Arus
Pada proses pelapisan dengan larutan seng sianida sistim barrel, effisiensi
arusnya bervariasi antara 75 dan 93%, tergantung pada temperatur dan
kerapatan arus. Pada sistim rak efisiensi arusnya akan sangat bervariasi pada
kerapatan arus yang relatif tinggi, terutama di atas 3 A/dm2 (30 A/ft2 ). Pengaruh
adari konsentrasi logam seng, hidroksida sodium, dan perbandingan
cyanideseng terhadap efisiensi adalah diperlihatkan pada Gambar. 3. Umumnya,
effisiensi kira-kira 90% pada 2.5 /dm2 (25 A/ft2 ) 50% pada 5 A/dm2 (50 A/ft2 ).
Peningkatan efisiensi dapat diperoleh dengan menggunakan Larutan
dengan konsentrasi sianida yang lebih tinggi; tetapi, hal ini dapat menyebabkan
rendahnya throwing power dari larutan, konsumsi brightener lebih tinggi, biaya
operasional lebih tinggi, dan berbagai kesulitan pemeliharaan larutan.

Gambar. 3 Pengaruh komposisi larutan & rapat arus terhadap effisiensi dari
larutan plating seng sianida. (a) Pengaruh dari rasio NaCN/Zn. 60 g/L (8 oz/gal)
Zn (CN); 17.5 sampai 43.7 g/L (2.33 sampai 5.82 oz/gal) NaCN; 75.2 g/L (10
oz/gal) NaOH; Rasio 2.0-sampai-1 sampai 2.75-sampai-1 Rasio dari NaCN
terhadap seng. Temperatur: 30 °C (86 °F). (b) Pengaruh konsentrasi logam seng.
60.1, 75.2, dan 90.2 g/L (8, 10, dan 12 oz/gal) Zn (CN); 43.7, 54.6, dan 65.5 g/L
(5.82, 7.27, dan 8.72 oz/gal) NaCN; 75.2 g/L (10 oz/gal) NaOH; 2.75-sampai-1
rasio dari NaCN terhadap seng. Temperatur: 30 °C (86 F).
(c) Pengaruh dari konsentrasi NaOH. 60.1 g/L (8 oz/gal) Zn(CN); 43.6 g/L (5.8
oz/gal) NaCN; 150.4 dan 75.2 g/L (20 and 10 oz/gal) NaOH; 2.75-sampai-1 rasio
dari NaCN terhadap seng. Temperatur: 30 °C (86 °F)
Larutan Asam
Larutan seng asam berbasis pada seng klorid yang saat ini 40 sampai
50% dipergunakan di seluruh dunia. Komposisi dan parameter proses dari larutan
seng Asam ditunjukkan pada tabel 5. keuntungan dari jenis larutan ini adalah:
Merupakan satu-satunya larutan seng yang memiliki kemampuan untuk
menghasilkan lapisan dengan tingkat kecerahan cukup baik dan paling brilian.
Dapat diterapkan pada jenis bahan besi cor, besi malleable, dan komponen yang
di-carbonitrided, yang akan cukup sulit atau mustahil dilakukan dengan
menggunakan larutan alkalin.
 Mempunyai konduktivitas yang jauh lebih tinggi dibandingkan larutan
alkalin, sehingga lebih effisien.
 Efisiensi larutan mencapai 95 sampai 98%, secara normal jauh lebih tinggi
dibandingkan larutan sianida atau proses alkalin, terutama pada kerapatan
arus yang lebih tinggi, seperti diperlihatkan pada Gambar. 5.

 Penggetasan hidrogen lebih rendah dibandingkan dengan jenis larutan
seng lainnya, karena efisiensi arusnya relatif tinggi.
 Prosedur-prosedur penanganan limbahnya lebih rendah, hanya terutama
pada netralisasi pada pH 8.5 sampai 9, dan pegendapan logam seng jika
diperlukan.
Pengaruh negatif dari larutani asam chloride adalah larutan asam klorid adalah
bersifat korosif. Semua peralatan yang berhubungan dengan larutan, seperti
tangki/tank dan lainnya, harus dilapisi dengan bahan anti-karat.
Tabel 5 Komposisi & parameter operasi dari larutan seng asam chloride

Gambar. 5 Perbandingan effisiensi arus dari larutan plating seng

Tabel 6 Komposisi dan parameter operasi dari larutan Seng Fluoborate dan
sulfate
Sejumlah larutan seng berbasis seng sulfate dan seng fluoborate banyak
digunakan terutama untuk proses pelapisan seng produksi tinggi, pelapisan
kontinyu dari kawat dan batang. Tabel 6 memperlihatkan komposisi dan kondisi
operasi dari beberapa larutan seng fluoborate dan sulfate.
Parameter :
Pengadukkan (agitasi), direkomendasikan dalam pemakaian larutan asam klorid
untuk
mencapai kerapatan arus operasi yang praktis. Sirkulasi larutan,
direkomendasikan dalam proses pelapisan sistim barrel. Pada sistim rak,
sirkulasi larutan biasanya terpenuhi oleh adanya filter. Pengadukkan ini dapat
dilakukan melalui tiupan udara.
Pengontrolan Temperatur dalam larutan asam cukup diperlukan dibandingkan

dalam larutan seng sianida, sehingga pendinginan harus disediakan untuk
mempertahankan temperatur larutannya tetap sesuai dengan rekomendasi, yaitu
biasanya 35 °C (95 °F). Mengoperasikan larutan asam klorid di atas temperatur
yang direkomendasikan dapat menyebabkan kecerahan lapisannya menjadi
rendah. Ketika larutan asam mencapai temperatur yang cukup panas, maka
aditip perlu segera dalam larutan untuk menghindari perubahan larutan seperti
susu atau berawan yang menyebabkan ketidakseimbangan larutan. Sebaliknya,
temperatur rendah, biasanya di bawah 21 °C (70 °F), menyebabkan larutan

meng-kristal dan menyebabkan aditip organik memisahkan diri ke luar dari
larutan.
Effisiensi Arus Katoda. Larutan seng asam klorid menghasilkan efisiensi arus
katode yang tinggi seperti diperlihatkan pada Gambar. 5, efisiensi arus katode
rata-rata untuk larutan ini adalah kira-kira 95 sampai 98%. Tidak ada larutan seng
lainnya yang benar-benar berefisiensi tinggi pada kerapatan arus tinggi yang
dapat meningkatkan produktivitas 15 sampai 50%, di atas itu dapat diperoleh
dengan larutan sianida. Dalam sistim barrel, beban arus bisa berlipat ganda.
Pengontrolan pH pada larutan seng asam biasanya dimonitor sehari-hari.
Metoda Elektrometris adalah dengan menggunakan kertas pengujian. pH
diturunkan dengan penambahan larutan asam hidroklorik; ketika memerlukan, pH
ditingkatkan dengan penambahan kalium atau ammonium hidroksida.
Pencemaran larutan oleh unsur besi adalah suatu masalah umum pada
larutan seng asam klorid. Pencemaran oleh besi biasanya tampak sebagai
endapan gelap pada lapisan dengan kerapatan arus tinggi; di/dalam sistim barrel
akan tampak sebagai bintik hitam pada lapisan.
Penghilangan pengotor besi dalam larutan asam klorid dilakukan dengan
cara mengoksidasi besi dengan menambahkan hidrogen peroksida pada larutan,
biasanya kira-kira 10 mL (0.34 fl oz) . 30% peroksida hidrogen harus digunakan
untuk setiap 100 L (26.4 gal.) dari larutan. Penurunan konsentrasi peroksida
adalah dengan penambahan 4 sampai 5 air. Kalium permanganat dapat
digunakan sebagai pengganti peroksida. Endapan besi hidroksida disaring
dengan menggunaka filter 15 mikron (0.6 mil) atau filter yang lebih kecil lagi.

Tabel 8 Perkiraan umur pakai
komponen yang dilapis seng
pada berbagai kondisi lingkungan
Tabel 9 Applikasi dari plating seng pada ketebalan 7 sampai 13 mikron (0.3
sampai 0.5 mil)

UNIT 4
ANODIZING DAN PEWARNAAN

ALUMINIUM
Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 1 of 10

4.1 Latar Belakang.
Dengan semakin majunya teknologi serta bahan-bahan teknik sehingga
penggunaan bahan yang mempunyai kekuatan dan keuletan yang tinggi semakin
banyak digunakan sekarang ini. Selain mempunyai kekuatan dan keuletan juga
harus mempunyai berat jenis yang rendah dengan kata lain sifatnya ringan. Oleh
karena itu penggunaan bahan-bahan yang ringan banyak sekali, misalnya yang
paling banyak digunakan adalah Aluminium (Al). Dari mulai alat-alat rumah
tangga sampai pada bagian-bagian pesawat terbang.
Banyaknya pemakaian tersebut maka untuk penggunaan-penggunaan
khusus Aluminium tersebut diproses kembali misalnya untuk diperlukan tahan
oksidasi maka Aluminium tersebut direaksikan dengan bahan kimia yang sering
disebut proses Anodizing. Untuk keperluan dekoratif maka Aluminium yang telah
diproses anodizing dilakukan proses pewarnaan (Colouring).
Bertitik tolak dari hal tersebut maka penulis menyajikan karya tulis tentang
teknologi proses anodizing pada Aluminium berdasarkan pada studi pustaka
(teori dasar) dan nara sumber yang telah melakukan proses anodizing secara
lengkap dan baik.
4.2 Maksud dan Tujuan.

Maksud dari pada proses ini adalah untuk mengetahui sampai sejauh
mana pengaruh dari parameter yang ada pada Aluminium setelah diproses
dengan cara anodizing. Tujuan dari pada proses anodizing ini agar pada
Aluminium dapat:
- Meningkatkan ketahanan korosi.
- Meningkatkan ketahanan abrasi.
- Bersifat dielektrik.
- Sebagai dekoratif.
Gambar 4.1 Warna daripada Aluminium

4.3 Teknologi Proses Anodizing.
Proses anodizing merupakan proses elektrolisa didalam suatu larutan
elektrolit. Larutan elektrolit yang digunakan yaitu asam sulfat (H2SO4) dan
menggunakan listrik arus searah (Direct Current/DC). Dari proses anodizing ini
akan dihasilkan lapisan anodis yang merupakan lapisan tipis oksida Aluminium
pada permukaan Aluminium.
Lapisan oksida Aluminium ini berfungsi sebagai pelindung dan akan tahan
terhadap beberapa faktor antara lain:
- Tahan korosi.
- Tahan abrasi.
- Isolasi listrik, lapisan anodis yang dihasilkan oleh proses anodizing
bersifat dielektrik.
- Dan sebagai dekoratif.
Proses lanjutan dari anodizing adalah proses pewarnaan secara

elektrolitik. Warna yang dihasilkan dari proses ini berbeda tergantung pada
waktu, makin lama proses pencelupan warna yang diperoleh akan semakin gelap
atau hitam. Dengan warna yang berbeda maka akan mempengaruhi ketebalan
dari lapisan tersebut.
Anodizing merupakan suatu proses untuk menghasilkan lapisan pelindung
dan untuk keperluan dekoratif. Dilain pihak anodizing adalah suatu proses
elektrolisis untuk menebalkan dan menstabilkan lapisan oksida pada logam
dasar.
Sumber
V Listrik
A
(+) (-)
Aluminium
Pb
Elektrolit
Gambar 4.2 Skema Prisip Kerja Proses Anodizing.

dimana:
V : Voltmeter
A : Ampermeter
Proses anodizing ini membentuk suatu lapisan oksida Aluminium pada

permukaan batang-batang profil Aluminium dan lapisan ini dapat melindungi
terhadap reaksi oksidasi. Dalam proses anodizing pengaruh waktu sangat
menentukan terhadap tebal tipisnya lapisan yang dihasilkan seperti yang terlihat
pada gambar 4.3.
Hard Anodizing
Conventional anodizing
7075
2014
2024
Gambar 4.3 Pengaruh Waktu Terhadap Lapisan Anodis yang dihasilkan
Tabel 4.1. Pengaruh Temperatur dan Waktu Anodizing pada Warna

35 0C 43 0C 52 0C Warna yang dihasilkan
30 - - Abu-abu mengkilap
60 30 - Abu-abu Tua
90 60 30 Kehitam-hitaman
120 90 - Hitam
180 120 60 Hitam Pekat

Variasi antara ketebalan anodik dan waktu anodizing dapat berhubungan
pula dengan temperatur larutan yang dipakai seperti pada gambar 4.4.
Anodic film
wt
50 0F (10 0C)
70 0F (21 0C)
122 0F (50 0C)
Anodizing time
Gambar 4.4. Hubungan Antara Ketebalan Anodik dengan Waktu Terhadap

Temperatur
4.4 Proses Produksi.

Dalam mengerjakan proses anodizing ini ada 3 macam bagian operasi
yang dilakukan, yaitu:
1. Racking
2. Anodizing
3. Unracking
Peralatan pembantu untuk mengerjakan proses anodizing ini terdiri dari:
a. Rak penggantung (hanger)
Rak penggantung ini terbuat dari Aluminium dan digunakan sebagai
tempat dari batang-batang profil Aluminium.
b. Kawat, garpu dan klem
Semua terbuat dari Aluminium dan digunakan untuk mengikat
batang-batang profil Aluminium pada rak penggantung.
c. Over Head Crane
Over head crane ini digunakan untuk mengangkat rak penggantung
dari satu tangki proses ke tangki proses lainnya.

Penjelasan masing-masing operasi :
1. Racking.
Racking adalah proses pemasangan batang-batang profil Aluminium pada
rak penggantung (hangaer). Prinsip kerja dari proses ini adalah batang-
batang profil yang akan dianodizing diikatkan pada bagian sebelah kiri dan
kanan rak penggantung dengan menggunakan kawat aluminium.
2. Anodizing.
Pada proses ini jenis dan jumlah bak (tangki) yang digunakan adalah
sebagai berikut :
- Degreasing Tank : 1 buah
- Water Rinse Tank : 12 buah
- Etching Tank : 1 buah
- Desmuting Tank : 1 buah
- Anodizing Tank : 3 buah
- Colouring Tank : 1 buah
- Sealing Tank : 3 buah

Degreasing
Pencucian
Coastic Etch
Pencucian
Desmuting
Pencucian
Anodizing
Pencucian
Colouring
Pencucian
Sealing
Produk
Gambar 4.5 Skema Proses Anodizing
Urutan proses anodizing secara umum adalah sebagai berikut:

a. Degreasing.
Degresing adalah proses penghilangan kotoran, seperti minyak, oli dan
lemak yang melekat pada batang profil Aluminium. Dengan menggunakan
larutan alkaline clean yang dipanaskan sehingga uap panas yang dialirkan
melalui pipa yang berada didasar tangki. Proses pengikisan kotoran pada
batang profil Aluminium ini diakibatkan desakan uap panas sehingga

menggerakkan larutan alkaline clean mengikis kotoran yang ada pada
batang-batang profil Aluminium tersebut.
b. Pencucian.
Tujuan proses ini untuk menghilangkan zat pembersih yang tertinggal
pada permukaan, bahan pencuci yang digunakan adalah air bersih.
c. Etching
Fungsi dan proses ini adalah menghilangkan bagian-bagian yang kasar
dan goresan-goresan yang ada pada permukaan batang profil tersebut.
Penghilangan goresan-goresan ini, dimaksudkan agar batang-batang profil
Aluminium ini mudah dialiri arus listrik pada waktu proses anodizing
berlangsung. Untuk menghilangkan goresan tersebut digunakan larutan
soda api (NaOH) dengan temperatur pada tangki proses yaitu 55 0C.
d. Pencucian.
Tujuan pencucian adalah untuk menghilangkan larutan NaOH yang masih
ada pada permukaan. Bahan pencuci yang digunakan adalah air bersih.
e. Desmuting
Desmuting merupakan proses untuk menghilangkan lapisan smut yang
diakibatkan oleh proses sebelumnya. Lapisan tersebut terdiri dari partikel
antar logam berat atau oksida yang larut dalam alkaline. Untuk
menghilangkan oksida-oksida logam berat tersebut digunakan larutan
asam nitrat (HNO3) dengan konsentrasi 50 % atau asam sulfat (H2SO4)
yang mempunyai konsentrasi 15 %. Perbandingan dengan kedua larutan
tersebut 1 : 5.
f. Pencucian.
Tujuan pencucian adalah untuk menghilangkan larutan yang tertinggal
pada permukaan. Air yang digunakan adalah air bersih.
g. Anodizing
Anodizing adalah proses elektrolisa didalam larutan elektrolit. Sebagai
kutub positif pada proses adalah batang-batang profil Aluminium dan
katodanya terbuat dari logam Aluminium atau timah hitam. Proses
anodizing ini membentuk suatu lapisan oksida Aluminium pada permukaan
batang-batang profil Aluminium dan lapisan ini dapat melindungi terhadap
reaksi oksidasi. Larutan yang digunakan untuk proses anodizing ini adalah

asam sulfat (H2SO4) dengan konsentrasi 20 % ditambah aditive. Pada
proses elekrolisa ini digunakan:
- Hambatan : 130 Ohm

- Tegangan : 30 Volt
- Daya : 3 Watt
- Temperatur proses : 20 0C
Reaksi kimia pada proses ini berlangsung sebagai berikut :

H2SO4 2H+ + SO42-
Katoda : 2H+ + 2e H2
Anoda : SO42- SO4 + 2e
2SO4 2SO3 + O2
4 Al + 3O2 2Al2O3
Pelapisan Aluminium denngan oksidanya berlangsung terus menerus
selama proses elektrolisa dijalankan sebab Al2O3 yang terbentuk tidak
menghalangi reaksi dengan oksida aktif, karena selama proses elektrolisa
berlanngsung, oksigen yang terikat pada senyawa Aluminium Al2O3 akan
berpindah kebatang profil Aluminium yang sebelah dalam untuk
membentuk Al2O3 yang baru.
h. Pencucian.
Proses ini dilakukanuntuk menghilangkan larutan H2SO4 yang masih ada
pada permukaan batang-batang profil Alluminium. Bahan pencuci yang
digunakan adalah air bersih.
i. Pewarna (Colouring).
Colouring merupakan proses pewarnaan secaara elektrolitik. Tujuan dari
pewarnaan ini adalah untuk memperindah batang-batang profil Aluminium.
Larutan yang digunakan dalam proses ini adalah Cobalt, H2SO4, Tin Sulfat
dan additive dengan temperatur proses 20 0C. Warna yang dihasilkan
dariproses ini tergantung pada waktu, semakin lama proses pewarnaan
berlangsung maka menghasilkan warna yang semakin gelap atau hitam.
j. Pencucian.

Tujuan proses ini adalah untuk menghilangkan kotoran-kotoran yang
masih ada pada permukaan. Bahan pencuci yang digunakan adalah air
bersih.
k. Sealing.
Bagian terakhir dari proses anodize adalah sealing. Sealing adalah proses
penyempitan pori-pori dari logam Aluminium yang telah dianodize. Proses
sealing ini dimaksudkan untuk menstabilkan lapisan anodize (Al2O3).
Karena hidrasi yang terjadi pada proses ini akan merubah oksida
Aluminium anhidrat menjadi oksida Aluminium hidrat. Prinsip dari proses
sealing ini adalah proses antara oksida Aluminium dengan air yang
membentuk oksida Aluminium mono hidrat. Reaksi kimia dari proses
sealing dapat dilihat sebagai berikut :
Al2O3 + H2O Al2O3 . H2O
Temperatur pemanasan pada tangki proses digunakan 98 0C. Lamanya
proses sealing ini tergantung tebalnya batang aluminium yang dianodize.
Sebelum di-sealing Sesudah di-sealing
Gambar 4.6 Mekanisme Penyempitan Akibat dari Proses Sealing
3. Unracking.
Unracking adalah proses melepaskan batang-batang profil Aluminium
yang telah dianodizing dari rak penggantung.

CARA MELARUTKAN LARUTAN ANODISASI
- Siapkan gelas ukur sesuai dengan ukuran larutan yang akan kita buat.
- Siapkan larutan asam sulfate 20% dari larutan yang akan di buat.
- Siapkan additive (Asam Oksalat) 14 – 18 gr/lt.
- Masukkan air sesuai dengan larutan yang akan kita buat
- Tambahkan larutan asam sulfate sesuai dg komposisi yg telah ditentukan
- Tambahkan additive 14 – 18gr
- Pasangkan katoda dengan menggunakan logam inert

Pelapisan Logam

Uploaded by

Document Information

Copyright

Available Formats

Share this document

Share or Embed Document

Sharing Options

Did you find this document useful?

Is this content inappropriate?

Copyright:

Available Formats

Pelapisan Logam

Uploaded by

Copyright:

Available Formats

Applied Electroplating

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 1 of 20

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 2 of 20

II. PENGERTIAN PROSES LAPIS LISTRIK (ELECTROPLATING)

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 3 of 20

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 4 of 20

Sehingga untuk memvariabelkan ampere, maka yang divariabelkan hanyalah

III. ISTILAH-ISTILAH DALAM PROSES LAPIS LISTRIK

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 5 of 20

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 6 of 20

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 7 of 20

IV. PRINSIP KERJA LAPIS LISTRIK

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 8 of 20

Sebagai contoh misalkan pelat baja yang akan dilapis dengan

Gambar 2. Prinsip kerja proses lapis listrik

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 9 of 20

Fenomena terjadinya reaksi tersebut sewaktu proses pelapisan

Katoda (-) Anoda (+)

Gambar 3. Reaksi yang terjadi sewaktu pelapisan.

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 10 of 20

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 11 of 20

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 12 of 20

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 13 of 20

No. Anoda Kemurnian (%) Unsur-Unsur Pengotor

1. Cadmium 99,95 Ag, As, Cu, Fe, Pb, Sb, Ti dan Zn

Gambar 4. Bentuk-bentuk anoda.

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 15 of 20

VIII PROSES LAPIS LISTRIK

8.1. Proses pengerjaan persiapan/tahap pendahuluan (pre treatment)

8.2. Pembersihan secara mekanik:

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 16 of 20

8.4. Pembersihan/pencucian dengan alkalin (Degreasing):

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 17 of 20

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 18 of 20

Gambar 5. Skematis rangkaian proses pelapisan.

Dalam operasi pelapisan, kondisi operasi perlu/penting sekali untuk

9.1. Rapat arus (current density):

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 19 of 20

9.2. Tegangan arus (Voltage):

9.3. Temperatur/Suhu larutan:

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 20 of 20

9.5. Proses pengerjaan akhir ( Post Treatment)

Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 21 of 20

PERALATAN PROSES ELEKTROPLATING

Peralatan Proses Elektroplating Page 1 of 9

Gambar 2.1 Rectifier untuk proses elektroplating.

Peralatan Proses Elektroplating Page 2 of 9

Gambar 2.2. Bak Larutan.

Peralatan Proses Elektroplating Page 3 of 9

Peralatan Proses Elektroplating Page 4 of 9

2.2 Peralatan Tambahan

Peralatan Proses Elektroplating Page 5 of 9

Gambar 2.3 Beberapa jenis rak untuk gantungan benda kerja.

Gambar 2.4 Bentuk rak keranjang (basket).

Peralatan Proses Elektroplating Page 6 of 9

Gambar 2.5 Jenis dan bentuk barrel untuk proses pelapisan.

Barrel dapat diklasifikasikan sebagai berikut:

Peralatan Proses Elektroplating Page 7 of 9

2.2.3 Pemanas (Heater)

Gambar 2.6 Pemanas listrik (heater).

Peralatan Proses Elektroplating Page 8 of 9

2.2.5 Saringan (Filter)

Peralatan Proses Elektroplating Page 9 of 9

Peralatan Proses Elektroplating Page 10 of 9