Golongan IVA Si

Silikon

(Latin, silex, silicis, flint). Davy pada tahun 1800 menganggap silika sebagai senyawa ketimbang suatu unsur. Sebelas tahun kemudian pada tahun 1811, Gay Lussac dan Thenard mungkin mempersiapkanamorphous sillikon tidak murni dengan cara memanaskan kalium dengan silikon tetrafluorida. Pada tahun 1824 Berzelius, yang dianggap sebagai penemu pertama silikon, mempersiapkan amorphous silikon dengan metode yang sama dan kemudian memurnikannya dengna membuang fluosilika dengan membersihkannya berulang kali. Deville pada tahun 1854 pertama kali mempersiapkan silikon kristal, bentuk alotropik kedua unsur ini.

Ikatan kristal dan padatan silikon

1 cm3/mol 28.33 g/cm3 4 x 106 ohm-1cm-1 Elektronegativitas Konfigurasi Elektron Formasi Entalpi Konduktivitas Panas 1.0856 2630 K Radius Kovalensi Struktur Kristal Massa Jenis Konduktivitas Listrik 1.Simbol Radius Atom Volume Atom Massa Atom Titik Didih Si (Silikon) 1.32 Å 12.9 [Ne]3s2p2 50.11 Å fcc 2.2 0.7 Jg-1K-1 359 kJ/mol .151 V 1683 K 4.2 kJ/mol 148 Wm-1K-1 Potensial Ionisasi Titik Lebur Bilangan Oksidasi Kapasitas Panas Entalpi Penguapan 8.

Silikon (Latin: silicium) adalah merupakan unsur kimia dalam jadual berkala yang mempunyai simbol Si dan nomor atom 14. dan sekiranya dalam bentuk silika dan silikat. dalam kaca. feldspar. Ia merupakan unsur kedua paling berlimpah di dalam kerak Bumi. kebanyakannya dalam bentuk silikon dioksida (juga dikenali sebagai silika) dan dalam bentuk silikat. karbon. semen. . keramik. Silikon adalah sejenis metaloid tetravalen yang kurang reaktif dibandingkan dengan analog kimianya.Pengertian Silikon Menurut Annonymous (2007). Silikon adalah merupakan bagian utama di dalam kebanyakan peranti semikonduktor. Silikon di dalam tanah liat. yaitu mencapai hampir 25. Silikon digunakan secara meluas dalam semikonduktor karena ia mempunyai arus bocoran balikan yang lebih rendah daripada semikonduktor germanium. granit. nama yang diberikan kepada berbagai jenis bahan plastik yang sering disebut sebagai silikon. Ia juga merupakan bagian dalam silikone. dan juga karena oksida aslinya mudah dihasilkan di dalam relau dan membentuk antara muka semikonduktor/dielektrik yang lebih baik berbanding dengan hampir semua jenis gabungan bahan. kuartza dan pasir.7%.

Silikon dibuat dengan mereduksi kuarsa (quartz) atau sering disebut juga dengan silika ataupun silikon dioksida dengan kokas (C). berikut reaksinya: SiCl4(g) + 2H2(g) –––→ Si(s) + 4HCl(g) . Uap yang terbentuk kemudian dilewatkan melalui sebuah tabung panas berisi gas H2 sehingga terbentuk Si. Namun silikon yang diperoleh dengan cara ini belum dalam keadaan murni. Agar diperoleh silikon dalam bentuk murni diawali dengan mereaksikan padatan silikon yang diperoleh melalui cara di atas direaksikan dengan gas klorin (Cl2). Reaksi yang terjadi adalah: SiO2(l) + 2C(s) –––→ Si(l) + 2CO2 Silikon yang diperoleh kemudian didinginkan sehingga diperoleh padatan silikon. Proses reduksi ini dilangsungkan di dalam tungku listrik pada suhu 3000 °C. sesuai reaksi berikut: Si(s) + Cl2(g) –––→ SiCl4(g) Gas SiCl4 ini mememiliki titik didih 58 °C.

Karena pemanasan maka batang silikon tidak murni akan mengalami peleburan. Seperti pada sifat koligatif larutan tentang pemurnian titik lebur larutan dimana titik lebut larutan adalah lebih rendah dibandingkan titik lebur pelarut murni. Berdasarkan sifat koligatif larutan maka titik lebur silikon murni akan akan lebih tinggi dibanding titik lebur silikon yang tidak murni (bagian yang mengandung pengotor). . Bagian yang tidak murni dan tidak murni dapat dipisahkan dengan cara pemotongan. Pemurnian silikon anolog dengan hal tersebut. silikon murni di anggap sebagai pelarut sedangkan leburan silikon yang mengandung pengotor dianggap sebagai larutan.Padatan Si yang terbentuk berupa batangan yang perlu dimurnikan lebih lanjut dengan cara pemurnian zona (zona refining). Selama permurnian zona berlangsung maka bagian bawah yang merupakan silikon murni akan bertambah banyak sedangkan bagian atas semakin sedikit. Walaupun demikian terkadang bagian yang paling murni dari silikon ada pada bagian atas sedangkan bagian yang paling tidak murni berada pada bagian bawah. Setelah leburan mengalami pembekuan maka akan diperoleh suatu batangan dimana salah satu ujung merupakan silikon paling murni sedangkan silikon yang lain merupakan silikon yang dipenuhi dengan pengotor atau bagian silikon yang paling tidak murni. seperti pada gambar berikut : Pada pemurnian zona batangan silikon tidak murni secara perlahan dilewatkan ke bawah melalui kumparan listrik pemanas yang terdapat pada zona lebur. Hal ini menyebabkan pengotor cenderung mengumpul disilikon yang mengandung pengotor (bagian atas pada zona peleburan). Pengotor yang ada akan terkonsentrasi pada bagian yang sedikit tersebut.

SiO2 + 2-------> Si + 2CO Dengan hanya berupa sebagian kecil fraksi dari metallurgical grade silicon yang telah dibersihkan maka bahan ini dapat digunakan dalam berbagai macam terapan dalam perakitan piranti-piranti untuk industri semikonduktor. yaitu dengan cara fraksinasi sederhana (atau bisa juga dengan distilasi) sehingga bahan silikon menjadi bahan semikonduktor yang standar. Kemudian dikondensasi sehingga kira-kira memberikan hasil 98% bahan silikon bersih yang dikenal dengan istilah Silikon Tingkat Metalurgi (metalurgical grade silicon). Jika dkedua bahan tersebut bereaksi bersama pada temperatur tinggi dalam tungku elektronik maka silikon dioksida akan terpisah dari oksidanya menjadi silikon saja. dan lain-lain). boron dan galium) dan klorida logam (seperti besi dan tembaga). Dalam reaksi ini elemen silikon merupakan asap yang terjadi dalam reaksi pada temperatur tersebut. Reaksi untuk membentuk SiHCl3 adalah sebagai berikut: Si + 3HCI --------> SiH3 + H2 1250o C [hasil reaksi lain +SiCiH4] Fraksinasi terpisah SiHCl3 merupakan hasil utama dari reaksi SiCl3 (silicon tetracloride). doping pengotor klorida (seperti fosfor. Silikon tingkat semikonduktor (yaitu silikon yang kurang lebih terdiri dari 1 bagian per satu milyar impurotas/pengotor) sekarang bisa diproduksi dengan pengurangan temperatur tinggi dari SiHCl3 yang telah bersih. batu bara. yaitu pasir (silikon dioksida) dan zat karbon yang telah dibersikan (dari arang. Trichlorosilane kemudian dikurangi dengan H2 supaya sekali lagi memberikan hasil suatu polycrystalline silicon. Proses pembersihan Metallurgical grade silicon diselesaikan dengan pengubahan material ini ke dalam Trichlorosilane (SiHCl3).Bahan permulaan untuk produksi silikon umumnya ada 2 macam bahan yang berasal dari bumi. serpih-serpihan kayu. Reaksi kimia ini terjadi dalam suatu kamar yang disebut "decomposer". Reaksi pengurangan yang merupakan reaksi balik dari reaksi di atas adlah sebagai berikut : SiHCl3 + H2 --------> Si + 3HCl 100oC Reaksi pada silikon .

Kuarsa merupakan bentuk umum untuk silika namun.B. Karakteristik silikon Atom silikon seperti halnya atom karbon. Dalam siloka SiO2. unsur Si mengkristal dengan struktur kubus pusat muka (fcc) seperti intan. yaitu struktur kristal kovalen raksasa (seperti intan). dapat membentuk empat ikatan secara serentak silikon dalam susunan petrahedral.3. sehingga umumnya disebut mineral silika. setiap atom Si terikat pada empat atom O dan tiap atom O terikat pada dua atom Si.4 atau 6 gugus · Bergabung membentuk rantai tunggal yang panjang atau rantai ganda · Tersusun dalam lembaran · Terikat menjadi kerangka tiga dimensi SiO44-(aq) + 4H+(aq) → Si(OH)4(aq) . silikon bersifat semi konduktor. Hanya silikat dari logam alkali yang dapat diperoleh sebagai senyawa yang larut dalam air. Susunan struktur tersebut membentuk jaringan yang sangat besar. Sifat umum dari mineral silikat adalah kekomplekan anion silikatnya. Kuarsa mempunyai titik leleh tinggi dan bersifat insulator. sesungguhnya bentuk-bentuk silika lain banyak. Sebagian besar silika tidak larut dalam air. tetrahedral ini dapat berupa: Unit terpisah · Bergabung menjadi rantai atau cincin dari 2. namun struktur dasarnya merupakan tetrahedral sederhana dari empat atom O disekitar atom pusat Si.

1420 °C. Si. TItik lebur Titik didih Kalor peleburan Kalor penguapan Kapasitas kalor solid −3 2. 8. blok 14.789 J·mol ·K .l. 5909 °F −1 50. 3. 2577 °F 3538 K. 14 Jenis unsur metaloid Golongan.21 kJ·mol −1 359 kJ·mol −1 −1 19. periode. p Massa atom standar 28. lambang.33 g·cm −3 2. nomor silikon.57 g·cm 1687 K. 4 (Image) Sifat fisika Fase Massa jenis (mendekatisuhu kamar) Massa jenis cairan pada t.0855(3) 2 2 Konfigurasi elektron [Ne] 3s 3p Elektron per kelopak 2.Penampilan Sebagai lempengan: kristal dengan permukaan sedikit biru gelap dan mengkilap Ciri-ciri umum Nama. 2355 °C.

12 eV .Tekanan uap P (Pa) 1 at T 1908 (K) 10 2102 100 2339 1k 2636 10 k 100 k 3021 3537 Struktur kristal Pembenahan magnetik Konduktivitas termal Ekspansi termal Kecepatan suara (batang ringan) Modulus Young Bulk modulus Kekerasan Mohs Nomor CAS Energi sela pita pada 300 K Kubus intan nonmagnetic −1 −1 149 W·m ·K −1 −1 (25 °C) 2.6 µm·m ·K −1 (20 °C) 8433 m·s 150 GPa 100 GPa 7 7440-21-3 1.

Silika digunakan sebagai bahan asas dalam pembuatan kaca tingkap. bekas. • Kaca .Penggunaan Silikon adalah merupakan unsur yang sangat berguna dan juga adalah amat penting dalam bidang perusahaan. (fungsi silikon dalam pembuatan semikonduktor baca disini sedangkan kegunaan semikonduktor di sini) .Silika daripada pasir adalah merupakan bagian utama dalam kaca. Selain itu silikon juga berguna dalam : • Pembinaan: Silikon dioksida atau silika dalam bentuk pasir dan tanah liat adalah merupakan ramuan penting dalam konkrit dan batu-bata dan juga dalam penghasilan semen Portland. penebat. Kaca bisa dihasilkan menjadi beraneka jenis bentuk yang menarik dan berbagai jenis sifat fisika. • Tembikar/Enamel .Silikon karbida adalah antara bahan las yang terpenting Silikon sering digunakan untuk membuat serat optik dan dalam operasi plastik digunakan untuk mengisi bagian tubuh pasien dalam bentuk silikone. dan barang-baranga berguna yang lain.Ia adalah sejenis bahan refraktori yang digunakan dalam pembuatan bahan bersuhu tinggi dan silikatnya digunakan dalam penghasilan enamel dan tembikar. • Pelelas .

dibuat dengan melepas sebagian air dari asam silikat (H2SiO3) atau (SiO2H2O). Sebagian silikon mungkin berkumpul di tempat. Larutan pekat natrium silikat (Na2SiO3). Silica gel. sehingga perlu dibantu perlekatannya dengan silikon cair. Kaca d. Silikon juga digunakan dalam berbagai jenis alise dengan besi (baja). merupakan zat padat yang sangat keras digunakan untuk ampelas (abrasive) dan pelindung untuk pesawat ulang alik terhadap suhu yang tinggi sewaktu kembali kebumi. digunakan untuk pengawetan telur dan sebagai perekat. Zeolit A. Retina dapat lepas dari posisinya karena berbagai faktor. Penggunaan silikon khususnya yang cair sudah di larang oleh pemerintah sejak tahun 1970. Semen c. digunakan dalam operasi retina. porselin dan semen.Penggunaan penting silikon Penggunaan penting dari silikon adalah dalam pembuatan transistor. Silica dan silikat digunakan untuk membuat gelas. Sedangkan senyawa silikon digunakan dalam industri. Hal ini di lakukan karena kurangnya pengetahuan terhadap silikon itu sendiri. Silikon bentuk cair dalam dunia medis. Namun hingga kini masih saja terjadi penyalahgunaan penyuntikan untuk tujuan mempercantik bagian tubuh tertentu para wanita. Penyuntikan silikon cair tidak mengakibatkan kematian. suatu zat padat amorf yang tidak berwarna. Silikon karbida (SiC). keramik. .tempat tertentu sehingga membentuk benjolan. menurut dr. Untuk tujuan itu diperlukan silikon ultra murni. juga sebagai bahan pengisi (fillir) dalam detergent. Penyalahgunaan Silikon Di masyarakat. Istiantoro dari Jakarta Eye Center. chips. Kerusakan tersebut terjadi karena silikon cair yang disuntikkan langsung ke dalam tubuh seperti sifat cairan umumnya akan mencari tempat yang rendah. komputer dan sel surya. Bahan-bahan yang mengandung silikon yang dikenal baik a. yang disebut water glass. Silikon e. silica gel bersifat higroskopis (mengikat air) sehingga digunakan sebagai pengering dalam berbagai macam produk. tetapi dapat mengakibatkan kerusakan jaringan yang bersifat permanen. Keramik. b. kata silikon bukan lagi hal yang tabu terutama di bidang kecantikan. suatu zat padat amorf yang sangat berfori. Donny V.

Sejarah Germanium Ciri Fisik Germanium Ciri Kimia Germanium Senyawa* Germanium Pembuatan dan Langkah Kegunaan Bahaya .

Nama Germanium sendiri diambil dari bahasa latin yaitu GermaniaI.Sejarah Germanium  Germanium pertama kali ditemukan oleh Clemens A. Winkler di Freiberg Jerman pada tahun 1886. Germanium dalam sistem periodik unsur diletakkan pada golongan IV A periode k4. .

keras.25 °C. 5131 °E) : 36.94 kJ/mol : 334 kJ/mol : (25 °C) 23. Sifat Fisik Fase Penampilan Massa jenis (sekitar suhu kamar) Massa jenis cair pada titik lebur Titik lebur Titik Didih Kalor Peleburan Kalor Penguapan Kapasitas Kalor :soloid : Putih keabu-abuan : 5.85 °E) : 3106 C(2833 °C.323 g/cm³ : 5.60 g/cm³ :1211. Selain itu.222 J/(mol·K) . putih keabu-abuan. memiliki keharuman logam dan struktur kristal yang sama seperti berlian.Germanium padat berbentuk kristal.40K (938. 1720. germanium adalah semikonduktor listrik.

5 kJ/mol Jari-jari atom :125 pm Jari-jari atom(terhitung) : 125 pm Jari-jari kovalen : 122 mp Jenis-jenis Senyawa unsur: * GeO2 * GeCl4 * GeS2 * SiGe .01 (skala pauling) : ke-1: 762 kJ/moll ke-2: 1537.Ciri Kimia Stuructur kristal Bilangan oksidasi elektrogenativitas Energi ionisasi(detil) : cubic face centered : 4 (amphoteric oxide) : 2.

meskipun banyak senyawa yang dikenal dengan keadaan oksidasi +2. kalkogen juga dikenal seperti disulpida . Germanium klorida diperoleh sebagai cairan berwarna merah. Senyawa-senyawa . Tetapi tidak larut dalam air asam. Dua germanium oksida dikenal yaitu Germanium dioksida (Germania) dan monoksida germanium GEO. Bentuk sebagai endapan putih ketika hydrogen sulfide dilewatkan melalui larutan asam kuat yang mengandung Ge (IV). oksida germaous dapat diperoleh dengan reaksi suhu tinggi dari dengan logam Ge. tetapi larut perlahan dalam asam sulfat pekat dan bereaksi keras dengan alkali cair untuk menghasilkan germinates ( 2-. dan telluride GeTe. Oksidasi lainnya jarang terjadi seperti +3 ditemukan dalam senyawa. mendidih pada 83º C dengan pemanasan logam dengan klorin. selenide GeSe. Germanium terjadi terutama di bilangan oksidasi +4.Senyawa-senyawa Germaniun    Germanium tidak larut dalam asam dan basa encer. diselenide dan monosulfida GES. Dioksida ini dapat diperoleh dengan pemanggangan sulfide germanium dan merupakan bubuk putih yang hanya sedikit larut dalam air tetapi bereaksi dengan alkali untuk membentuk germinates. Monoksida. Disulfide ini lumayan larut dalam air dan dalam larutan alkali kaustik atau sulfida basa. Senyawa biner lainnya.

sulfide germanium dan perak Germanite. Germanium dapat dipisahkan dari logam-logam lainnya dengan cara distilasi fraksi tetrakloridanya yang sangat reaktif. . Biji seng Batu bara Mineral-mineral lainnya Unsur ini diambil secara komersil dari debu-debu pabrik pengolahan bijih-bijih seng.Pembuatan Germanium Logam ini dapat ditemukan: • • • • • Argirodite. yang mengandung 8% dari elemen. dan sebagai produk sampingan beberapa pembakaran batubara. Tehnik ini dapat memproduksi germanium dengan kemurnian yang tinggi.

Langkah-langkah Germanium dapat dipisahkan dari logam lain dengan penyulingan pecahan dari Tetraklorida stabil. GeCl2. dengan oksigen membentuk GeO2 dan dengan alkali membentuk germanite.+ H2O GeO32. Tetrahalida gan GeS2 diperoleh melalui reaksi langsung dengan element dan kemudian bereaksi dengan Ge. Germanium hidrida/ germanes dioksidasi menjadi GeO2 dan H2O oleh O2 tetapi tidak flammable seperti silanes. GeBr2 dan GeI2dan sulfida GeS diketahui tetapi mereka tidak stabil dan merupakan agen pereduksi kuat. Ge + GeCl4 2GeCl2 Ge + GeS2 2GeS . Ge + 2OH. bereksi langsung dengan halogen membentuk tetrahalida volatile. Seperti silikon.+ 2H2 Seperti SiO2. Halida GeF2. GeO2 merupakan asam oksida lemah.

galium atau unsurunsur lainnya.Kegunaan Germanium Ketika germanium didoping dengan arsenik. . 2)sebagai bahan pencampur logam. termasuk pendeteksi infra merah yang sensitif 5)sebagai lensa kamera wide-angle dan microscope objectives dan sebagai agen kemoterapi. ia digunakan sebagai transistor dalam banyak barang elektronik. 4)Germanium dan germanium oksida tembus cahaya sinar infra merah dan digunakan dalam spekstroskopi infra mera dan barang-barang optik lainnya. 3)sebagai fosfor di bola lampu pijar dan sebagai katalis. Kegunaan umum germanium adalah 1)sebagai bahan semikonduktor.

. 2)dalam elektronika termasuk posfor di lampu neon.Kegunaan Germanium transistor 1) sebagai pengganti potensial untuk silicon pada chip mini. 5) untuk meningkatkan fungsi system kekebalan tubuh pada pasien kanker. 3)digunakan di beberapa pedal efek oleh musisi yang ingin memproduksi karakter nada khas 4)Germanium dioksida juga digunakan dalam katalis untuk polimerisasi dalam produksi polyethylene terephtalate.

Kegunaan Germanium anorganik Bahaya 1). 3). 2)Germanium organik melindungi diri dari akumulasi amyloid. yang lebih berat dari pada udara sehingga dapat berpindah dengan cepat sepanjang permukaan bumi. germanium juga memiliki dampak negatif apabila terakumulasi dalam sistem perairan . germanium juga termasuk ke dalam golongan trace mineral. dalam satu hari minimal 1 mg. Dilihat dari bentuk gasnya. germanium organik juga melindungi sistein (suatu asam amino sulfhidril) dari oksidasi. Germanium dibutuhkan oleh tubuh. suatu produk oksidatif radikal bebas (berdasarkan riset pada tikus). Selain itu. sebagi salah satu logam berat. Seperti halnya selenium.Mampu melindungi tubuh dari pertumbuhan tumor dan kanker ganas dengan jalan memperkuat sistem imun.

Sifat fisik .

4.365 g/cm3 (Sn putih) 5. 6.93 C Titik didih :2602 C Panas fusi :7.112 J/molK . 5.769 g/cm3 (Sn abu-abu) Titik didih : 231.03 kJ/mol Kalor jenis :27. 2. 3. Fasa :padatan Densitas :7.1.

71 Elektronegatifitas :1. dan warnanya abu-abu metalik. .Sifat kimia Bilangan oksidasi :+4.+2.96 (skala pauli) imah merupakan logam lunah. Nomor atom :50 Nomor massa :118. fleksibel.

8 W/mK .8 kJ/mol Energi ionisasi 3 : 2943.0 kJ/mol Jari-jari atom : 140 pm Jari-jari ikatan kovalen : 139 pm Jari-jari van der waals : 217 pm Struktur kristal : tetragonal (Sn putih) kubik diamond (Sn abu-abu) Konduktifitas termal : 66.6 kJ/mol Energi ionisasi 2 : 1411.Energi ionisasi 1 :708.

. Timah(II) cenderung memiliki sifat logam dan mudah diperoleh dari pelarutan Sn dalam HCl pekat panas.Timah ada dalam dua alotrop yaitu timah alfa dan beta. Timah umumnya memiliki bilangan oksidasi +2 dan +4.

karena afinitas material yang ditambahkan terhadap pengotor lebih besar dibanding Sn. Pyrorefining Yaitu proses pemurnian dengan menggunakan panas diatas titik lebur sehingga material yang akan direfining cair. ditambahkan mineral lain yang dapat mengikat pengotor atau impurities sehingga logam berharga dalam hal ini timah akan terbebas dari impurities atau hanya memiliki impurities yang amat sedikit. .

 Eutectic Refining Yaitu proses pemurnian dengan menggunakan crystallizer dengan bantuan agar parameter proses tetap konstansehingga dapat diperoleh kualitas produk yang stabil. . Proses ini melakukan prinsip elektrolisis atau dikenal elektrorefining.  Electrolitic Refining Yaitu proses pemurnian logam timah sehingga dihasilkan kadar yang lebih tinggi lagi dari pyrorefining yakni 99.99%( produk PT. Timah: Four Nine ).

dan tributil.  SnO2 digunakan sebagai bahan ampelas atau penggosok permata  SnS digunakan pada industry pewarnaan serta proses penyepuhan atau bahan imitasi  SnCl4 bersama-sama SnO2 digunakan sebagai pelapis permukaan botol.Timah digunakan sebgai campuran bahan pada beberapa pasta gigi yaitu SnF2.  Tetrabutiltimah.  .  Dialkil atau monoalkil-timah. dipakai sebagai material dasar untuk sintesis senyawaan di.  Timah digunakan sebagai bahan pembentuk paduan. dipakai sebagai stabilisator panas dalam pembuatan PVC.

.

77 kJ/mol  · Panas Penguapan : 179.· Fasa pada suhu kamar : padatan  · Densitas :11.34 g/cm3  · Titik leleh : 327.5 kJ/mol  · Kalor jenis : 26.5 0C  · Titik didih : 17490C  · Panas Fusi : 4.650 J/molK .

.2.m · Konduktifitas termal : 35.-4     · Elektronegativitas : 2.6 kJ/mol  · Energi ionisasi 2 : 1450.33 (skala pauli)  · Energi ionisasi 1 : 715.5 kJ/mol  · Energi ionisasi 3 : 3081.5 kJ/mol  · Jari-jari atom : 175 pm  · Radius ikatan kovalen : 146 pm  · Jari-jari Van Der Waals : 202 pm     · Struktur Krista l : kubik berpusat muka · Sifat kemagnetan : diamagnetik · Resistifitas termal : 208 nohm.3 W/mK · Timbal larut dalam beberapa asam · Bereaksi secara cepat dengan halogen · Bereaksi lambat dengan alkali dingin tetapi bereaksi cepat dengan alkali panas menghasilkan plumbit. Bilangan oksidasi : 4.

 . Metode ini jarang digunakan karena cukup mahal dan cukup rumit. Reduksi bijih timbal dengan besi sulfit (FeSO3)  Metode ini merupakan dasar peleburan (smelting proses) disini dihasilkan timbal dan metal sulfida untuk mendapatkan timbal murni dapat dilakukan dengan metode yang lain.

 Reduksi antara timbal sulfida (PbS) dan timbal sulfate/oxide (PbO) Reduksi udara atau reaksi pemanggangan menghasilkan bentuk timbal dan oksida belerang. timbal silikat atau senyawa oksida lainnya dengan Cara pemanggangan dan sintering.  Reduksi oksida timbal dengan karbon atau Carbon mono oxide Dalam proses ini meliputi pengerjaan pendahuluan oksida timbal. Sistim ini merupakan dasar peleburan (ore-hearth-smelting) yang digunakan sejak jaman dahulu. .

Timbal (IV) oksida PbO2.        Timbal (II) nitrat Pb(NO3) 2. . Timbal monoksida. Timbal (II) oksida PbO. Juga merupakan sumber pencemaran udara dari knalpot kendaraan. Tetraetil timbal Pb(C2H5)4. suatu oksida berwarna kuning. Bahan “antiketuk” yang ditambahkan pada bensin agar mesin kendaraan berjalan halus. Oksida yang terbentuk dalam akumulator timbal asam. Satu-satunya senyawa timbal lazim yang larut. Digunakan dalam pembuatan kaca dan email.

Sign up to vote on this title
UsefulNot useful