Golongan IVA Si

Silikon

(Latin, silex, silicis, flint). Davy pada tahun 1800 menganggap silika sebagai senyawa ketimbang suatu unsur. Sebelas tahun kemudian pada tahun 1811, Gay Lussac dan Thenard mungkin mempersiapkanamorphous sillikon tidak murni dengan cara memanaskan kalium dengan silikon tetrafluorida. Pada tahun 1824 Berzelius, yang dianggap sebagai penemu pertama silikon, mempersiapkan amorphous silikon dengan metode yang sama dan kemudian memurnikannya dengna membuang fluosilika dengan membersihkannya berulang kali. Deville pada tahun 1854 pertama kali mempersiapkan silikon kristal, bentuk alotropik kedua unsur ini.

Ikatan kristal dan padatan silikon

33 g/cm3 4 x 106 ohm-1cm-1 Elektronegativitas Konfigurasi Elektron Formasi Entalpi Konduktivitas Panas 1.151 V 1683 K 4.0856 2630 K Radius Kovalensi Struktur Kristal Massa Jenis Konduktivitas Listrik 1.1 cm3/mol 28.2 kJ/mol 148 Wm-1K-1 Potensial Ionisasi Titik Lebur Bilangan Oksidasi Kapasitas Panas Entalpi Penguapan 8.32 Å 12.7 Jg-1K-1 359 kJ/mol .2 0.11 Å fcc 2.Simbol Radius Atom Volume Atom Massa Atom Titik Didih Si (Silikon) 1.9 [Ne]3s2p2 50.

semen. keramik. granit. yaitu mencapai hampir 25.Pengertian Silikon Menurut Annonymous (2007). Silikon (Latin: silicium) adalah merupakan unsur kimia dalam jadual berkala yang mempunyai simbol Si dan nomor atom 14. Ia merupakan unsur kedua paling berlimpah di dalam kerak Bumi. nama yang diberikan kepada berbagai jenis bahan plastik yang sering disebut sebagai silikon. Silikon di dalam tanah liat. Silikon digunakan secara meluas dalam semikonduktor karena ia mempunyai arus bocoran balikan yang lebih rendah daripada semikonduktor germanium. dan juga karena oksida aslinya mudah dihasilkan di dalam relau dan membentuk antara muka semikonduktor/dielektrik yang lebih baik berbanding dengan hampir semua jenis gabungan bahan. Silikon adalah merupakan bagian utama di dalam kebanyakan peranti semikonduktor. Silikon adalah sejenis metaloid tetravalen yang kurang reaktif dibandingkan dengan analog kimianya. karbon.7%. Ia juga merupakan bagian dalam silikone. kebanyakannya dalam bentuk silikon dioksida (juga dikenali sebagai silika) dan dalam bentuk silikat. dalam kaca. dan sekiranya dalam bentuk silika dan silikat. . feldspar. kuartza dan pasir.

Proses reduksi ini dilangsungkan di dalam tungku listrik pada suhu 3000 °C. Agar diperoleh silikon dalam bentuk murni diawali dengan mereaksikan padatan silikon yang diperoleh melalui cara di atas direaksikan dengan gas klorin (Cl2). berikut reaksinya: SiCl4(g) + 2H2(g) –––→ Si(s) + 4HCl(g) . Namun silikon yang diperoleh dengan cara ini belum dalam keadaan murni. sesuai reaksi berikut: Si(s) + Cl2(g) –––→ SiCl4(g) Gas SiCl4 ini mememiliki titik didih 58 °C.Silikon dibuat dengan mereduksi kuarsa (quartz) atau sering disebut juga dengan silika ataupun silikon dioksida dengan kokas (C). Reaksi yang terjadi adalah: SiO2(l) + 2C(s) –––→ Si(l) + 2CO2 Silikon yang diperoleh kemudian didinginkan sehingga diperoleh padatan silikon. Uap yang terbentuk kemudian dilewatkan melalui sebuah tabung panas berisi gas H2 sehingga terbentuk Si.

seperti pada gambar berikut : Pada pemurnian zona batangan silikon tidak murni secara perlahan dilewatkan ke bawah melalui kumparan listrik pemanas yang terdapat pada zona lebur. Hal ini menyebabkan pengotor cenderung mengumpul disilikon yang mengandung pengotor (bagian atas pada zona peleburan). Pemurnian silikon anolog dengan hal tersebut. . silikon murni di anggap sebagai pelarut sedangkan leburan silikon yang mengandung pengotor dianggap sebagai larutan. Selama permurnian zona berlangsung maka bagian bawah yang merupakan silikon murni akan bertambah banyak sedangkan bagian atas semakin sedikit. Pengotor yang ada akan terkonsentrasi pada bagian yang sedikit tersebut.Padatan Si yang terbentuk berupa batangan yang perlu dimurnikan lebih lanjut dengan cara pemurnian zona (zona refining). Seperti pada sifat koligatif larutan tentang pemurnian titik lebur larutan dimana titik lebut larutan adalah lebih rendah dibandingkan titik lebur pelarut murni. Berdasarkan sifat koligatif larutan maka titik lebur silikon murni akan akan lebih tinggi dibanding titik lebur silikon yang tidak murni (bagian yang mengandung pengotor). Setelah leburan mengalami pembekuan maka akan diperoleh suatu batangan dimana salah satu ujung merupakan silikon paling murni sedangkan silikon yang lain merupakan silikon yang dipenuhi dengan pengotor atau bagian silikon yang paling tidak murni. Bagian yang tidak murni dan tidak murni dapat dipisahkan dengan cara pemotongan. Karena pemanasan maka batang silikon tidak murni akan mengalami peleburan. Walaupun demikian terkadang bagian yang paling murni dari silikon ada pada bagian atas sedangkan bagian yang paling tidak murni berada pada bagian bawah.

Reaksi untuk membentuk SiHCl3 adalah sebagai berikut: Si + 3HCI --------> SiH3 + H2 1250o C [hasil reaksi lain +SiCiH4] Fraksinasi terpisah SiHCl3 merupakan hasil utama dari reaksi SiCl3 (silicon tetracloride). doping pengotor klorida (seperti fosfor. yaitu pasir (silikon dioksida) dan zat karbon yang telah dibersikan (dari arang. dan lain-lain). batu bara. Reaksi kimia ini terjadi dalam suatu kamar yang disebut "decomposer". yaitu dengan cara fraksinasi sederhana (atau bisa juga dengan distilasi) sehingga bahan silikon menjadi bahan semikonduktor yang standar. Proses pembersihan Metallurgical grade silicon diselesaikan dengan pengubahan material ini ke dalam Trichlorosilane (SiHCl3). Dalam reaksi ini elemen silikon merupakan asap yang terjadi dalam reaksi pada temperatur tersebut. Kemudian dikondensasi sehingga kira-kira memberikan hasil 98% bahan silikon bersih yang dikenal dengan istilah Silikon Tingkat Metalurgi (metalurgical grade silicon).SiO2 + 2-------> Si + 2CO Dengan hanya berupa sebagian kecil fraksi dari metallurgical grade silicon yang telah dibersihkan maka bahan ini dapat digunakan dalam berbagai macam terapan dalam perakitan piranti-piranti untuk industri semikonduktor. Jika dkedua bahan tersebut bereaksi bersama pada temperatur tinggi dalam tungku elektronik maka silikon dioksida akan terpisah dari oksidanya menjadi silikon saja. Reaksi pengurangan yang merupakan reaksi balik dari reaksi di atas adlah sebagai berikut : SiHCl3 + H2 --------> Si + 3HCl 100oC Reaksi pada silikon . Silikon tingkat semikonduktor (yaitu silikon yang kurang lebih terdiri dari 1 bagian per satu milyar impurotas/pengotor) sekarang bisa diproduksi dengan pengurangan temperatur tinggi dari SiHCl3 yang telah bersih.Bahan permulaan untuk produksi silikon umumnya ada 2 macam bahan yang berasal dari bumi. Trichlorosilane kemudian dikurangi dengan H2 supaya sekali lagi memberikan hasil suatu polycrystalline silicon. boron dan galium) dan klorida logam (seperti besi dan tembaga). serpih-serpihan kayu.

dapat membentuk empat ikatan secara serentak silikon dalam susunan petrahedral. silikon bersifat semi konduktor.B. Kuarsa mempunyai titik leleh tinggi dan bersifat insulator. Dalam siloka SiO2. Susunan struktur tersebut membentuk jaringan yang sangat besar. yaitu struktur kristal kovalen raksasa (seperti intan). tetrahedral ini dapat berupa: Unit terpisah · Bergabung menjadi rantai atau cincin dari 2. Sifat umum dari mineral silikat adalah kekomplekan anion silikatnya. Sebagian besar silika tidak larut dalam air. sehingga umumnya disebut mineral silika. sesungguhnya bentuk-bentuk silika lain banyak. setiap atom Si terikat pada empat atom O dan tiap atom O terikat pada dua atom Si.3. Hanya silikat dari logam alkali yang dapat diperoleh sebagai senyawa yang larut dalam air.4 atau 6 gugus · Bergabung membentuk rantai tunggal yang panjang atau rantai ganda · Tersusun dalam lembaran · Terikat menjadi kerangka tiga dimensi SiO44-(aq) + 4H+(aq) → Si(OH)4(aq) . Karakteristik silikon Atom silikon seperti halnya atom karbon. namun struktur dasarnya merupakan tetrahedral sederhana dari empat atom O disekitar atom pusat Si. unsur Si mengkristal dengan struktur kubus pusat muka (fcc) seperti intan. Kuarsa merupakan bentuk umum untuk silika namun.

8. 5909 °F −1 50. 1420 °C. nomor silikon. Si.789 J·mol ·K .57 g·cm 1687 K. lambang. 14 Jenis unsur metaloid Golongan. 2577 °F 3538 K. periode. TItik lebur Titik didih Kalor peleburan Kalor penguapan Kapasitas kalor solid −3 2.33 g·cm −3 2.Penampilan Sebagai lempengan: kristal dengan permukaan sedikit biru gelap dan mengkilap Ciri-ciri umum Nama. p Massa atom standar 28. 3. 2355 °C.0855(3) 2 2 Konfigurasi elektron [Ne] 3s 3p Elektron per kelopak 2. blok 14.l.21 kJ·mol −1 359 kJ·mol −1 −1 19. 4 (Image) Sifat fisika Fase Massa jenis (mendekatisuhu kamar) Massa jenis cairan pada t.

Tekanan uap P (Pa) 1 at T 1908 (K) 10 2102 100 2339 1k 2636 10 k 100 k 3021 3537 Struktur kristal Pembenahan magnetik Konduktivitas termal Ekspansi termal Kecepatan suara (batang ringan) Modulus Young Bulk modulus Kekerasan Mohs Nomor CAS Energi sela pita pada 300 K Kubus intan nonmagnetic −1 −1 149 W·m ·K −1 −1 (25 °C) 2.12 eV .6 µm·m ·K −1 (20 °C) 8433 m·s 150 GPa 100 GPa 7 7440-21-3 1.

Penggunaan Silikon adalah merupakan unsur yang sangat berguna dan juga adalah amat penting dalam bidang perusahaan. (fungsi silikon dalam pembuatan semikonduktor baca disini sedangkan kegunaan semikonduktor di sini) . • Pelelas .Silikon karbida adalah antara bahan las yang terpenting Silikon sering digunakan untuk membuat serat optik dan dalam operasi plastik digunakan untuk mengisi bagian tubuh pasien dalam bentuk silikone. Selain itu silikon juga berguna dalam : • Pembinaan: Silikon dioksida atau silika dalam bentuk pasir dan tanah liat adalah merupakan ramuan penting dalam konkrit dan batu-bata dan juga dalam penghasilan semen Portland. Silika digunakan sebagai bahan asas dalam pembuatan kaca tingkap.Ia adalah sejenis bahan refraktori yang digunakan dalam pembuatan bahan bersuhu tinggi dan silikatnya digunakan dalam penghasilan enamel dan tembikar. penebat.Silika daripada pasir adalah merupakan bagian utama dalam kaca. • Tembikar/Enamel . • Kaca . bekas. dan barang-baranga berguna yang lain. Kaca bisa dihasilkan menjadi beraneka jenis bentuk yang menarik dan berbagai jenis sifat fisika.

Kaca d. Donny V. Bahan-bahan yang mengandung silikon yang dikenal baik a. Penyuntikan silikon cair tidak mengakibatkan kematian. Silikon juga digunakan dalam berbagai jenis alise dengan besi (baja). dibuat dengan melepas sebagian air dari asam silikat (H2SiO3) atau (SiO2H2O). yang disebut water glass. menurut dr. suatu zat padat amorf yang sangat berfori. Zeolit A. chips. kata silikon bukan lagi hal yang tabu terutama di bidang kecantikan. Silica dan silikat digunakan untuk membuat gelas.tempat tertentu sehingga membentuk benjolan. tetapi dapat mengakibatkan kerusakan jaringan yang bersifat permanen. digunakan dalam operasi retina. Silikon bentuk cair dalam dunia medis. Silica gel. Kerusakan tersebut terjadi karena silikon cair yang disuntikkan langsung ke dalam tubuh seperti sifat cairan umumnya akan mencari tempat yang rendah. Sebagian silikon mungkin berkumpul di tempat. suatu zat padat amorf yang tidak berwarna. porselin dan semen. Penyalahgunaan Silikon Di masyarakat. merupakan zat padat yang sangat keras digunakan untuk ampelas (abrasive) dan pelindung untuk pesawat ulang alik terhadap suhu yang tinggi sewaktu kembali kebumi. Silikon karbida (SiC). Istiantoro dari Jakarta Eye Center. . Penggunaan silikon khususnya yang cair sudah di larang oleh pemerintah sejak tahun 1970. Silikon e. komputer dan sel surya. Keramik. keramik. Retina dapat lepas dari posisinya karena berbagai faktor. Hal ini di lakukan karena kurangnya pengetahuan terhadap silikon itu sendiri. b. Namun hingga kini masih saja terjadi penyalahgunaan penyuntikan untuk tujuan mempercantik bagian tubuh tertentu para wanita. digunakan untuk pengawetan telur dan sebagai perekat. Larutan pekat natrium silikat (Na2SiO3). silica gel bersifat higroskopis (mengikat air) sehingga digunakan sebagai pengering dalam berbagai macam produk. sehingga perlu dibantu perlekatannya dengan silikon cair. juga sebagai bahan pengisi (fillir) dalam detergent.Penggunaan penting silikon Penggunaan penting dari silikon adalah dalam pembuatan transistor. Untuk tujuan itu diperlukan silikon ultra murni. Sedangkan senyawa silikon digunakan dalam industri. Semen c.

Sejarah Germanium Ciri Fisik Germanium Ciri Kimia Germanium Senyawa* Germanium Pembuatan dan Langkah Kegunaan Bahaya .

Sejarah Germanium  Germanium pertama kali ditemukan oleh Clemens A. Winkler di Freiberg Jerman pada tahun 1886. Germanium dalam sistem periodik unsur diletakkan pada golongan IV A periode k4. Nama Germanium sendiri diambil dari bahasa latin yaitu GermaniaI. .

94 kJ/mol : 334 kJ/mol : (25 °C) 23.85 °E) : 3106 C(2833 °C. germanium adalah semikonduktor listrik.60 g/cm³ :1211. memiliki keharuman logam dan struktur kristal yang sama seperti berlian. 5131 °E) : 36. keras.25 °C. 1720.323 g/cm³ : 5. putih keabu-abuan. Sifat Fisik Fase Penampilan Massa jenis (sekitar suhu kamar) Massa jenis cair pada titik lebur Titik lebur Titik Didih Kalor Peleburan Kalor Penguapan Kapasitas Kalor :soloid : Putih keabu-abuan : 5.Germanium padat berbentuk kristal.40K (938.222 J/(mol·K) . Selain itu.

01 (skala pauling) : ke-1: 762 kJ/moll ke-2: 1537.5 kJ/mol Jari-jari atom :125 pm Jari-jari atom(terhitung) : 125 pm Jari-jari kovalen : 122 mp Jenis-jenis Senyawa unsur: * GeO2 * GeCl4 * GeS2 * SiGe .Ciri Kimia Stuructur kristal Bilangan oksidasi elektrogenativitas Energi ionisasi(detil) : cubic face centered : 4 (amphoteric oxide) : 2.

Germanium terjadi terutama di bilangan oksidasi +4.Senyawa-senyawa Germaniun    Germanium tidak larut dalam asam dan basa encer. mendidih pada 83º C dengan pemanasan logam dengan klorin. Disulfide ini lumayan larut dalam air dan dalam larutan alkali kaustik atau sulfida basa. dan telluride GeTe. Germanium klorida diperoleh sebagai cairan berwarna merah. Senyawa-senyawa . Dua germanium oksida dikenal yaitu Germanium dioksida (Germania) dan monoksida germanium GEO. tetapi larut perlahan dalam asam sulfat pekat dan bereaksi keras dengan alkali cair untuk menghasilkan germinates ( 2-. kalkogen juga dikenal seperti disulpida . Bentuk sebagai endapan putih ketika hydrogen sulfide dilewatkan melalui larutan asam kuat yang mengandung Ge (IV). diselenide dan monosulfida GES. oksida germaous dapat diperoleh dengan reaksi suhu tinggi dari dengan logam Ge. Tetapi tidak larut dalam air asam. selenide GeSe. Monoksida. Senyawa biner lainnya. meskipun banyak senyawa yang dikenal dengan keadaan oksidasi +2. Oksidasi lainnya jarang terjadi seperti +3 ditemukan dalam senyawa. Dioksida ini dapat diperoleh dengan pemanggangan sulfide germanium dan merupakan bubuk putih yang hanya sedikit larut dalam air tetapi bereaksi dengan alkali untuk membentuk germinates.

Pembuatan Germanium Logam ini dapat ditemukan: • • • • • Argirodite. dan sebagai produk sampingan beberapa pembakaran batubara. Biji seng Batu bara Mineral-mineral lainnya Unsur ini diambil secara komersil dari debu-debu pabrik pengolahan bijih-bijih seng. Germanium dapat dipisahkan dari logam-logam lainnya dengan cara distilasi fraksi tetrakloridanya yang sangat reaktif. Tehnik ini dapat memproduksi germanium dengan kemurnian yang tinggi. . sulfide germanium dan perak Germanite. yang mengandung 8% dari elemen.

dengan oksigen membentuk GeO2 dan dengan alkali membentuk germanite. GeCl2.+ 2H2 Seperti SiO2. Tetrahalida gan GeS2 diperoleh melalui reaksi langsung dengan element dan kemudian bereaksi dengan Ge. Ge + 2OH.Langkah-langkah Germanium dapat dipisahkan dari logam lain dengan penyulingan pecahan dari Tetraklorida stabil.+ H2O GeO32. Halida GeF2. Ge + GeCl4 2GeCl2 Ge + GeS2 2GeS . Germanium hidrida/ germanes dioksidasi menjadi GeO2 dan H2O oleh O2 tetapi tidak flammable seperti silanes. GeO2 merupakan asam oksida lemah. GeBr2 dan GeI2dan sulfida GeS diketahui tetapi mereka tidak stabil dan merupakan agen pereduksi kuat. bereksi langsung dengan halogen membentuk tetrahalida volatile. Seperti silikon.

2)sebagai bahan pencampur logam. 3)sebagai fosfor di bola lampu pijar dan sebagai katalis. Kegunaan umum germanium adalah 1)sebagai bahan semikonduktor. galium atau unsurunsur lainnya. .Kegunaan Germanium Ketika germanium didoping dengan arsenik. termasuk pendeteksi infra merah yang sensitif 5)sebagai lensa kamera wide-angle dan microscope objectives dan sebagai agen kemoterapi. 4)Germanium dan germanium oksida tembus cahaya sinar infra merah dan digunakan dalam spekstroskopi infra mera dan barang-barang optik lainnya. ia digunakan sebagai transistor dalam banyak barang elektronik.

5) untuk meningkatkan fungsi system kekebalan tubuh pada pasien kanker. 2)dalam elektronika termasuk posfor di lampu neon. . 3)digunakan di beberapa pedal efek oleh musisi yang ingin memproduksi karakter nada khas 4)Germanium dioksida juga digunakan dalam katalis untuk polimerisasi dalam produksi polyethylene terephtalate.Kegunaan Germanium transistor 1) sebagai pengganti potensial untuk silicon pada chip mini.

2)Germanium organik melindungi diri dari akumulasi amyloid.Kegunaan Germanium anorganik Bahaya 1). Dilihat dari bentuk gasnya. sebagi salah satu logam berat. Germanium dibutuhkan oleh tubuh. yang lebih berat dari pada udara sehingga dapat berpindah dengan cepat sepanjang permukaan bumi. germanium organik juga melindungi sistein (suatu asam amino sulfhidril) dari oksidasi. suatu produk oksidatif radikal bebas (berdasarkan riset pada tikus). Selain itu.Mampu melindungi tubuh dari pertumbuhan tumor dan kanker ganas dengan jalan memperkuat sistem imun. Seperti halnya selenium. germanium juga termasuk ke dalam golongan trace mineral. dalam satu hari minimal 1 mg. 3). germanium juga memiliki dampak negatif apabila terakumulasi dalam sistem perairan .

Sifat fisik .

365 g/cm3 (Sn putih) 5. 6. Fasa :padatan Densitas :7. 2. 5.03 kJ/mol Kalor jenis :27.93 C Titik didih :2602 C Panas fusi :7. 4.769 g/cm3 (Sn abu-abu) Titik didih : 231. 3.112 J/molK .1.

.71 Elektronegatifitas :1.Sifat kimia Bilangan oksidasi :+4. Nomor atom :50 Nomor massa :118. dan warnanya abu-abu metalik.96 (skala pauli) imah merupakan logam lunah.+2. fleksibel.

Energi ionisasi 1 :708.0 kJ/mol Jari-jari atom : 140 pm Jari-jari ikatan kovalen : 139 pm Jari-jari van der waals : 217 pm Struktur kristal : tetragonal (Sn putih) kubik diamond (Sn abu-abu) Konduktifitas termal : 66.8 kJ/mol Energi ionisasi 3 : 2943.6 kJ/mol Energi ionisasi 2 : 1411.8 W/mK .

Timah umumnya memiliki bilangan oksidasi +2 dan +4. . Timah(II) cenderung memiliki sifat logam dan mudah diperoleh dari pelarutan Sn dalam HCl pekat panas.Timah ada dalam dua alotrop yaitu timah alfa dan beta.

ditambahkan mineral lain yang dapat mengikat pengotor atau impurities sehingga logam berharga dalam hal ini timah akan terbebas dari impurities atau hanya memiliki impurities yang amat sedikit. Pyrorefining Yaitu proses pemurnian dengan menggunakan panas diatas titik lebur sehingga material yang akan direfining cair. . karena afinitas material yang ditambahkan terhadap pengotor lebih besar dibanding Sn.

.99%( produk PT. Proses ini melakukan prinsip elektrolisis atau dikenal elektrorefining. Eutectic Refining Yaitu proses pemurnian dengan menggunakan crystallizer dengan bantuan agar parameter proses tetap konstansehingga dapat diperoleh kualitas produk yang stabil.  Electrolitic Refining Yaitu proses pemurnian logam timah sehingga dihasilkan kadar yang lebih tinggi lagi dari pyrorefining yakni 99. Timah: Four Nine ).

 Timah digunakan sebagai bahan pembentuk paduan. dipakai sebagai material dasar untuk sintesis senyawaan di. dipakai sebagai stabilisator panas dalam pembuatan PVC.Timah digunakan sebgai campuran bahan pada beberapa pasta gigi yaitu SnF2.dan tributil.  Dialkil atau monoalkil-timah.  .  Tetrabutiltimah.  SnO2 digunakan sebagai bahan ampelas atau penggosok permata  SnS digunakan pada industry pewarnaan serta proses penyepuhan atau bahan imitasi  SnCl4 bersama-sama SnO2 digunakan sebagai pelapis permukaan botol.

.

650 J/molK .34 g/cm3  · Titik leleh : 327.5 kJ/mol  · Kalor jenis : 26.· Fasa pada suhu kamar : padatan  · Densitas :11.5 0C  · Titik didih : 17490C  · Panas Fusi : 4.77 kJ/mol  · Panas Penguapan : 179.

33 (skala pauli)  · Energi ionisasi 1 : 715. .5 kJ/mol  · Jari-jari atom : 175 pm  · Radius ikatan kovalen : 146 pm  · Jari-jari Van Der Waals : 202 pm     · Struktur Krista l : kubik berpusat muka · Sifat kemagnetan : diamagnetik · Resistifitas termal : 208 nohm.3 W/mK · Timbal larut dalam beberapa asam · Bereaksi secara cepat dengan halogen · Bereaksi lambat dengan alkali dingin tetapi bereaksi cepat dengan alkali panas menghasilkan plumbit.6 kJ/mol  · Energi ionisasi 2 : 1450.m · Konduktifitas termal : 35. Bilangan oksidasi : 4.5 kJ/mol  · Energi ionisasi 3 : 3081.-4     · Elektronegativitas : 2.2.

 . Reduksi bijih timbal dengan besi sulfit (FeSO3)  Metode ini merupakan dasar peleburan (smelting proses) disini dihasilkan timbal dan metal sulfida untuk mendapatkan timbal murni dapat dilakukan dengan metode yang lain. Metode ini jarang digunakan karena cukup mahal dan cukup rumit.

 Reduksi antara timbal sulfida (PbS) dan timbal sulfate/oxide (PbO) Reduksi udara atau reaksi pemanggangan menghasilkan bentuk timbal dan oksida belerang.  Reduksi oksida timbal dengan karbon atau Carbon mono oxide Dalam proses ini meliputi pengerjaan pendahuluan oksida timbal. . Sistim ini merupakan dasar peleburan (ore-hearth-smelting) yang digunakan sejak jaman dahulu. timbal silikat atau senyawa oksida lainnya dengan Cara pemanggangan dan sintering.

. Timbal (IV) oksida PbO2. Digunakan dalam pembuatan kaca dan email. Satu-satunya senyawa timbal lazim yang larut. Tetraetil timbal Pb(C2H5)4. Oksida yang terbentuk dalam akumulator timbal asam. Juga merupakan sumber pencemaran udara dari knalpot kendaraan. Timbal monoksida. suatu oksida berwarna kuning. Bahan “antiketuk” yang ditambahkan pada bensin agar mesin kendaraan berjalan halus. Timbal (II) oksida PbO.        Timbal (II) nitrat Pb(NO3) 2.

Sign up to vote on this title
UsefulNot useful