Applied Electroplating

21 Juli 2009

UNIT 1 DASAR-DASAR PROSES ELEKTROPLATING

Dasar-dasar Proses Elektroplating

Page 1 of 20

I.

PENDAHULUAN Jika suatu logam dipajang (expose) kelingkungannya maka akan terjadi

interaksi antara logam dengan lingkungan. Berdasarkan teori, mekanisme interaksi akan melibatkan pertukaran ion antara permukaan logam dengan lingkunyannya. Karakteristik pertukaran ion sangat dipacu antara lain oleh adanya perbedaan potensial diantara keduanya. Hasil dari adanya pertukaran ion terhadap logam yang dipajang adalah timbulnya kerusakan pada logam serta terbentuknya produk korosi. Jadi konsep yang sangat mendasar dalam rangka melindungi logam adalah mengupayakan agar tidak terjadi pertukaran ion antara logam dengan lingkungannya. Kalaupun tidak bisa memutus sama sekali pertukaran ion tersebut, diupayakan agar pertukaran ion berlangsung dengan laju yang relatif rendah. Berdasarkan kriteria ini maka muncullah pengertian pengendalian, artinya pertukaran ion yang terjadi dikendalikan lajunya agar tidak berlangsung terlalu cepat. Upaya pengendalian yang lazim diterapkan dalam rangka perlindungan terhadap logam yang digunakan adalah sebagai berikut :       Pemilihan material/logam yang tepat Perancangan/design konstruksi yang memadai (appropriate) Penambahan Inhibitor Penerapan Pelapisan (Coating) Penerapan system Proteksi Katodik dan Anodik Pengkondisian lingkungan

Metoda perlindungan logam yang banyak digunakan dan paling mudah dilakukan serta dari aspek biaya lebih murah adalah penerapan pelapisan. Perlindungan terhadap logam dengan cara menerapkan pelapisan pada hakekatnya adalah melindungi logam dari lingkungan sehingga pertukaran ion antara permukaan logam dengan sekeliling lingkungan dapat dikendalikan. Sistem perlindungan yang memisahkan kontak antara logam dan lingkungan sangat banyak dijumpai. Lapisan pemisah ini dapat digolonbgkan sebagai berikut : Lapisan hasil reaksi kimia atau elektrokimia pada permukaan logam . Lapisan anorganik : cat, resin, plastik, karet dan lain sebaginya. Lapisan organik : enamel, semen dan lain sebagainya. Lapisan logam : logam murni, logam paduan. Page 2 of 20

Dasar-dasar Proses Elektroplating

Selama proses pengendapan/deposit berlangsung terjadi reaksi kimia pada elektroda dan elektrolit baik reaksi reduksi maupun reaksi oksidasi dan diharapkan berlangsung terus menerus menuju arah tertentu secara tetap.Kelemahan :  Adanya keterbatasan dalam usuran lapisan dan desain dari benda kerja yang dilapangan. Terjadinya sutau endapan pada proses ini adalah karena adanya ion-ion bermuatan listrik berpindah dari suatu elektroda melelui elektrolit yang mana hasil dari elektrolisa tersebut akan mengendap pada elektroda lain (katoda). proses lapis listrik mempunyai beberapa keuntungan dan kelemahan : .Proses pelapisan logam sendiri dapat diklasifikasikan sebagai berikut : Secara Pelelehan ( celup panas/hot dip) Secara Endap Vakum Secara Sherardizing Secara Rich Coating Secara Listrik (Electroplating) Bila dibandingkan dengan proses-proses pelapisan logam dengan cara lain.Keuntungan :  Suhu/temperatur operasi rendah yaitu berkisar 60 – 700C  Ketebalan lapisan mudah dikendalikan  Permukaan halus dan mengkilap  Hemat dalam pemakaian logam pelapis . kelemahan-kelemahan diatas dapat diatasi yaitu dengan cara lapis listrik selektif dan proses electroless. II. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 3 of 20 akan dilapis.  Terbatas dengan bahan yang bersifat konduktor. Endapan yang terjadi bersifat adhesive terhadap logam dasar. PENGERTIAN PROSES LAPIS LISTRIK (ELECTROPLATING) Lapis listrik (electroplating) adalah suatu proses pengendapan zat (ion-ion logam) pada elektroda (katoda) dengan cara elektrolisa. Dengan adanya kemajuan teknologi lapis listrik. tidak bisa dilakukan .  Hanya bisa dilakukan dibengkel ( harus ada listrik). Untuk itu diperlukan/digunakan arus listrik searah (direct current) dan tegangan yang konstan/tetap.

500 Coloumb yaitu jumlah arus listrik yang diperlukan untuk membebaskan 1 grek suatu zat. Jumlah zat-zat (unsur-unsur) yang dihasilkan oleh arus listrik yang sama selama elektrolisa adalah sebanding dengan berat ekivalen masing-masing zat tersebut. e = Berat ekivalen zat yang dibebaskan (berat atom suatu unsur dibagi I V R Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 4 of 20 . Bila diatas dijelaskan bahwa tegangan/arus dalam proses lapis listrik diinginkan dalam kondisi yang konstan. Hukum Faraday sangat erat kaitannya dengan efisiensi arus yang terjadi pada proses pelapisan secara listrik.Prinsip dasar dari proses lapis listrik adalah berpedoman atau berdasarkan HUKUM FARADAY yang menyatakan : Jumlah zat-zat (unsur-unsur) yang terbentuk dan terbebas pada elektroda selama elektrolisa sebanding dengan jumlah arus listrik yang mengalir dalam larutan elektrolit. Effisiensi arus adalah perbandingan berat endapan yang terjadi dengan berat endapan secara teoritis dan dinyatakan dalam persen (%). 1 F = 96. Pernyataan tersebut diatas dapat ditulis dengan rumus sebagai berikut : B Keterangan : I t e F B = Berat zat yang terbentuk (gram) I t = Jumlah arus yang mengalir (Ampere) = Waktu (detik) valensi unsur tersebut) F = Jumlah arus yang diperlukan untuk membebaskan sejumlah gram ekivalen suatu zat. maksud dari pernyataan tersebut adalah tegangan tidak akan berubah/terpengaruh oleh besar kecilnya Ampere.

.Elektrolit Zat-zat yang molekul-molekulnya dapat larut dalam air dan terurai menjadi zat-zat (atom-atom) yang bermuatan negatif dan negatif. maka yang divariabelkan hanyalah tahanannya saja. dalam pelapisan secara listrik (electroplating) banyak istilah-istilah yang digunakan dan perlu diketahui. . . sedangakan voltagenya tetap. karena jelas perbedaan satu sama lainnya.Anoda (Anode) Elektroda negatif yang padanya terjadi pelepasan ion negatif dan membentuk ion negatif (reaksi oksidasi). . ISTILAH-ISTILAH DALAM PROSES LAPIS LISTRIK Seperti pada proses-proses metal finishing lainnya. Istilah-istilah dalam lapis listrik antara lain : . III.Lumpur anoda Sisa zat yang tidak larut dihasilkan dianoda dan mengotorinya.Katoda ( cathhode) Elektorda negatif yang padanya terjadi pelepasan ion Negatif dan membentuk ion negatif (reaksi reduksi).Ion Zat-zat yang terurai yang mana atom atau molekul-molekulnya bermuatan listrik negatif dan negatif. sehingga dalam pnerapannya/prakteknya tidak akan menemui kesulitan. Zat yang bermatan negatif disebut anion (ion negatif) dan yang bermuatan Negatif disebut kation (ion negatif).Keterangan : I = Banyaknya arus (Ampere) V = Tegangan (Volt) R = Tahanan Sehingga untuk memvariabelkan ampere. .Lepuh (blister) Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 5 of 20 . .Electroda Suatu terminal dalam larutan elektrolit yang mana aliran listriknya mengalir ke dan darinya.

Rapat arus (Current Density) Jumlah arus yang mengalir perluas unit elektroda. . .Polarisasi katodik (Cathodic Polarization) Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 6 of 20 . .Cuci asam (Pickling) Suatu cara menghilangkan karat (korosi) pada benda kerja dengan larutan asam.Cuci lemak (Degreasing) Pembersihan permukaan logam dari lemak.Efisiensi arus (Current Efficiency) Perbandingan antara jumlah teoritis arus listrik yang akan terpakai dengan jumlah arus listrik yang sebenarnya terpakai. . pada permukaan logam agar menjadi lebih aktif.Polarisasi anodic (Anodic Polarization) Penggeseran potensial elektroda katodik akibat adanya aliran listrik. . .pH Derajat keasaman suatu asam dalam larutan yang merupakan logaritma dari konsentrasi asam dengan tanda negatif. .Pembengkakan pada bagian tertentu dari hasilpelapisan karena daya lekat (adhesif) lapisan yang kurang baik. . .Inhibitor Bahan yang dapat mengurangi pemakanan atau pengrusakan oleh asam pada benda kerja. . . . minyak atau zat organik lainnya dengan larutan alkalin.Kerapuhan hidrogen (Hydrogen Embritlement) Suatu kegetasan pada benda kerja akibat penyerapan gas hidrogen pada proses pencucian dan pelapisan.Stop of material Suatu bahan yang berfungsi menutupi hasil pelapisan.Bahan pengkilat (Brightener) Zat tambahan yang bersifat membentuk lapisan agar lebih mengkilap atau yang memperbaiki kecemerlangan diatas endapan/lapisan.Pengaktifan (Activation) Pembersihan dari keadaan pasif.

kondisi operasi. .Throwing power Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan lapisan yang sama tebalnya pada benda kerja yang rumit atau biasa.Covering power Kemampuan suatu elektrolit untuk mengendapkan logam keseluruh permukaan katoda yang bagimanapun bentuknya. .Proses elektroles (Electroless Plating) Pengendapan lapisan logam secara reaksi reduksi tanpa listrik. . . Difusi ion logam merupakan hal yang terpenting bagi micro throwing power. kebutuhan diperlukan untuk mengubah larutan pelapis menjadi seperti logam yang termasuk garam Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 7 of 20 .Micro throwing power Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan endapan/lapisan yang sama tebalnya pada setiap titik permukaan benda kerja. Covering power tergantung pada proses persiapan permukaan dan kondisi dari proses lapis listriknya sendiri. .Zat aktif permukaan (Surface active agent/Surfactant) Zat kimia yang dimasukkan kedalam larutan sebagai zat pengaktip permukaan.Macro throwing power Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan endapan yang kurang lebih sama tebalnya pada benda kerja yang tidak beraturan bentuknya.Penggeseran potensial elektroda kearah anodic akibat adanya aliran listrik. Faktor yang mempengaruhi macro throwing power adalah distribusi arus.Pembilasan (Rinsing) Suatu busaha pencucian atau penetralan permukaan benda kerja dari asam atau alkali dengan air bersih.Free cyanide Banyak cyanide yang melebihi daripada cyanide kompleks. efisiensi arus dan konduktivtas. . . bertujuan untu merubah bahan menjadi konduktif. .

Chromat process (Chromating) Teknik pengerjaan lapis lindung yang dilakuka secra kimia dengan mencelupkan benda kerja yang sudah dilapisi seng kedalam larutan encer yang terdiri dari chromat atau bichromat sebagai bahan utama. . Anoda dan Katoda direndamkan dalam larutan elektrolit.. PRINSIP KERJA LAPIS LISTRIK Pada prinsipnya pelapisan logam dengan cara lapis listrik adalah merupakan rangkaian dari : arus listrik.Levelling Kemampuan untuk menghasilkan lapisan yang lebih tebal pada lekukan dari pada permukaan yang rata. Sementara ion bermuatan negatif berpindah kearah elektroda bermuatan negatif. Untuk lebih jelasnya rangkaian dan prinsip kerja proses lapis listrik dapa dilihat pada gambar 1 dan 2 berikut ini: Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 8 of 20 . Hasil yang terbentuk/terjadi adalah lapisan logam dan gas hidrogen. sehingga membentuk suatu sistim lapis listrik dengan rangkaian sebagai berikut : Anoda dihubungkan dengan kutub positip dari sumber listrik. Katoda dihubungkan pada kutub negatif dari sumber listrik.Solvent cleaning Suatu cara pembersihan gemuk. larutan elektrolit dan katoda (benda kerja). anoda. lemak dengan menggunakan bahan organik (pelarut organik). maka muatan ion negatif ditarik oleh elektoda katoda. IV. Keempat gugusan ini disusun sedemikian rupa. . Bila arus listrik (potensial) searah dialirkan antara kedua elektroda anoda dan katoda dalam larutan elektrolit. Ion-ion tersebut dinetralisir oleh kedua elektroda dan larutan elektrolit yang hasilnya diendapkan pada elektroda katoda.

Gambar 1. Gambar 2. Oleh karena pada anoda dan katoda terjadi perbedaan potensial setelah dialiri listrik. Rangkaian proses lapis listrik Sebagai contoh misalkan pelat baja yang akan dilapis dengan tembaga/cupper (Cu). ion-ion tembaga (Cu2+) akan terbawa kemudian mengendap pada permukaan katoda (pelat baja) dan berubah menjadi atomatom tembaga. Larutan yang digunakan adalah garam cupper sulfat (CuSO4). Prinsip kerja proses lapis listrik Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 9 of 20 . Melalui larutan elektrolit. maka logam tembaga akan terurai didalam larutan elektrolit yang juga mengandung ion-ion tembaga.

Reaksi yang terjadi sewaktu pelapisan. larutan elektrolitnya berbeda-bea Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 10 of 20 . LARUTAN ELEKTROLIT Telah diuraikan diatas bahwa suatu proses lapis listrik memerlukan larutan elektrolit sebagai media proses berlangsung.Di sini terjadi reaksi reduksi ion tembaga menjadi logam tembaga sebagai berikut : CuSO4 ↔ Cu 2+ + SO42H2O ↔ H+ Cu2+ + + OH2 e ↔ Cu↓ terjadinya reaksi tersebut sewaktu proses pelapisan Fenomena berlangsung dan dapat dilihat pada gambar 3 berikut ini: Katoda (-) CuSO4 Anoda (+) Cu++ Cu H + ++ Cu++ Cu++ Cu + SO4 SO4 Cu H+ H 2O H + OH- Cu++ H2 (Gas) H + + OH - O2 (Gas) Gambar 3. Larutan elektrolit dapat dibuat dari larutan asam. Tiap jenis pelapisan. basa dan garam logam yang dapat membentuk muatan ion-ion negatif dan ion-on negatif. V.

derajat disosiasi dan konsentrasi unsur-unsur lain yang ada didalam larutan. akan terjadi endapan/lapisan yang terbakar pada rapat arus yang relatip rendah. Sebagai contoh pelapisan tembaga. Adanya ion klorida dalam larutan yang bersifat asam berfungsi : Mempercepat terkorosi/terkikisnya anoda atau mencegah pasipasi anoda. Bila konsentrasi logamnya tidak mencukupi untuk diendapkan. larutn yang dipAkai dibuat dari garam logam cupper sulfat (CuSO4) dan H2O yang akan terurai seperti berikut : CuSO4 ↔ Cu 2+ + SO42H2O ↔ H+ + OH- Oleh karena larutan elektrolit selalu mengandung garam dari logam yang akan dilapis. throwing power dan levelling ” yang baik. Walau anion tidak ikut langsung dalam proses terbentuknya lapisan. Kemampuan/aktivitas dariion logam ditentukan oleh konsentrasi dri garam logamnya. tapi jika menempel pada permukaan katoda akan menimbulkan gangguan bagi terbentuknya microstructur lapisan. Garam-garam tersebut sebaiknya dipilih yang mudah larut. larutan elektrolit harus mempunyai sifat-sifat seperti ”Covering power. Fungsi natrium hydroksida dan kalsium hydroksida pada larutan yang brsifat basa adalah untu memperbaiki konduktivitas dan mencegah leberasi dari asam hydrocyanat oleh karbon dioksida (CO2) yang masuk kedalam larutan dari udara. Sedangkan larutan yang bersifat basa (alkali) yang banyak digunakan pada proses lapis listrik adalah garam komplek cyanida.tergantung pada sifat-sifat elektrolit yang diinginkan. Menaikkan koefisien difusi dari ion logamnya atau menaikkan batas rapat arus (limiting current density). SifatDasar-dasar Proses Elektroplating Page 11 of 20 . tetapi anionnya tidak mudah tereduksi. karena cyanid komplek terekomposisi oleh asam. Beberapa bahan/zat kimia sengaja dimasukkan/ditambahkan kedalam larutan elektrolit bertujuan untuk mendapatkan sifat-sifat lapisan tertentu. Selain itu.

mengurangi kontaminasi laruitan. platina-titanium dan lain sebaginya. Peristiwa ini dikenal sebagai proses pelapisan dengan anoda terlarut (soluble anoda). selanjutnya ion logam tersebut dan gas hydrogen diendapkan pada elerktroda katoda. peranan anoda sangat penting dalam menghasilkan kualitas lapisan. VI. Adanya arus listrik yang mengalir melalui larutan elektrolit diantara kedua elektroda. misalnya pada larutan nickel digunakan asam borat dan sodium hydroksida pada larutan yang bersifat basa. paduan timbal-tin. Anoda ini diutamakan selain sebagai penghantar yang baik juga tidak mudah terkikis oleh larutan dengan atau tanpa aliran listrik. anoda ini disebut anoda tak larut (unsoluble anoda). Dari anoda terlarut akan terbentuk ion logam sewaktu atom logam dioksidasi dan melepaskan elektron-elektron yang sebanding dengan elektronelektron dari katoda. kekerasan (hardness) dan struktur mikro lapisan yang terjadi (microstructur). menurunkan biaya bahan kimia yang dipakai. Dengan perhitungan/pertimbangan yang cermat dalam menentukan anoda pada proses pelapisan dapat memberikan keuntungan yaitu meningkatkan distribusi endapan. Pengaruh kemurnian/kebersihan anoda terhadap elektrolit dan penentuan optimalisasi ukuran serta bentuk anoda perlu dipikirkan/diperhatikan. keuletan (ductility). Anoda tidak larut adalah paduan dari bahan-bahan baja nickel.sifat tersebut antara lain tampak rupa (appearance). maka ditambah/dimasukkan unsur yang berfungsi sebagai penyangga (buffer/pengatur pH). Untuk mengatur pH. maka pada anoda akan terjadi pelepasan ion logam dan oksigen (reduksi). Tujuan dipakainya anoda tidak larut adalah untuk: Mencegah terbentuknya logam yang berlebihan dalam larutan Page 12 of 20 Dasar-dasar Proses Elektroplating . selanjutnya diendapkan pada katoda. karbon. tetapi bila anoda tersebut hanya dipakai sebagai penghantar arus saja (conductor of current). kegetasan lapisan (brittlness). meningkatkan efisiensi produksi dan mengurangi timbulnya masalah-masalah dalam proses pelapisan. ANODA Pada proses pelapisan secara listrik. Ion logam direduksi kembali secara kontinyu dalam atom logam.

Pengotor dalam anoda juga dapat menyebabkan terjadi pasivasi dan mengurangi effisiensi anoda secara drastis. tetapi rapat arus yang tinggi pada saat pelapisan berlangsung akan menyebabkan pasivasi pada anoda. Spesifikasi kemurnian anoda yang disarankan dapat dilihat pada tabel berikut ini: Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 13 of 20 . Kemurnian anoda terlarut dapat meningkatkan effisiensi anoda. maka usahakan penggunaan anoda yang semurni mungkin. anoda tidak larut kurang bagitu disenangi. mereka lebih menyukai memakai anoda terlarut. Bagi industri pelapisan. Hal ini dikarenakan harga anoda terlarut 2-4 kali lebih murah dibandingkan harga jumlah logam equivalen yang diserap/diambil dari larutan garam logam. Pada proses lapis listrik yang umum dipakai perbandingan anida dengan katoda adalah 2 : 1. karena kontaminasi anoda adalah penyebab/sumber utama pengotor. Oleh karena itu anoda jenis ini tidak bisa digunakan dfalam larutan yang mengandung bahan-bahan organik (organic agent) atau cyanid.- Mengurangi nilai investasi peralatan Menghindari dari kehilangan Kerugian penggunaan anoda tidak larut adalah cenderung teroksidasinya unsur-unsur tertentu dari anoda tersebut kedalam larutan. Beberapa kriteria yang perlu diperhatikan dalam memilih anoda terlarut antara lain adalah: Effisiensi anoda yang akan dipakai Jenis larutan elektrolit Kemurnian bahan anoda Bentuk anoda Rapat dan kapasitas arus yang disuplay Cara pembuatan anoda Effisiensi anoda akan turun/berkurang akibat adanya logam pengotor (metallic impurities) dan kekasaran butiran yang terdapat dalam larutan. sehingga perlu diperhitungkan besarnya rapat arus terhadap luas permukaan anoda. Garam logam sering ditambahkan dalam larutan bertujuan untuk menjaga kestabilan komposisi larutan dari pengaruh unsur-unsur yang larut dari anoda tidak larut.

Pb. Cd. Untuk bentuk bulat.Tabel 1 Spesifikasi anoda terlarut No. Cu. Cd. Gambar 4. Zn Ag. sehingga dapat mengasilkan lapisan yang seragam dan rata.97 99. Bentuk-bentuk anoda. As.95 99.Sn.93 99. Ti dan Zn Ag. Cd. Pb. Zn Cu. As. Jarak dan luas permukaan anoda di atur sedemikian rupa. 2. Fe. Zn Ag. Cd Ag. S. 4.Bentuk=bentuk anoda dapat dilihat pada gambar 4. Pb. sedangkan ukiuran sesuai dengan bentuk anoda tersebut. Fe. Fe.92 99. As. Si. S.92 99. Sn. 1.bulat. Cu. kubus dan palet biasanya digunakan dengan memakai keranjang yang berfungsi sebagai tempat penampung anoda. Zn Bi. Sn Sedapat mungkin menggunakan anoda sesuai bentuk yang akan di lapis. 5. Fe. 7. Cu. 8. Bentuk-bentuk anoda terdiri dari beberapa macam. Anoda dan gantunganya dapat menyupley arus dengan sempurna tanpa menimbulkan panas yang berlebihan. Sb Ag. Fe. ada yang berbentuk balok. Cu. Pb. Bi. Rapat arus anoda usahakan dalam range yang dikehendaki agar mudah di kendalikan.98 99. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 14 of 20 . Cd. 3. Cu. S.palet lempengan dan kubus. Bi. 6. Pb. Sb.98 Unsur-Unsur Pengotor Ag. Fe. Sb.95 99. Anoda Cadmium Copper Lead Alloy Nickel Tin Tin – Lead Silver Zinc Kemurnian (%) 99.

Kecuali pada larutan lapis nikel. AIR Pada industri pelapisan secara listrik.VII. Air ledeng/kota di pakai untuk proses pembilasan. chlorid dan nitrat. gores (streakness). Karena akan menaikan arus listrik (throwing power). sulfat. Air suling (aquadest) dengan ukuran spesifikasi konduktifitasnya tidak melebihi dari 50 microhos. siler cyanid dan senyawa-senyawa lainya. pencucian. jika tercampur dengan ion-ion dalam larutan akan menyebabkan turunya efisiensi endapan/lapisan. cupper cyanid. air merupakan salah satu unsur pokok yang selalu harus tersedia. Adanya logam-logam berat seperti besi dan mangan sebagai pengotor menimbulkan cacat-cacat antara lainkekasaran ( roughness). proses etsa (etching) dan pendingin. Sedangkan air bebas mineral (aquadest DM) di pakai khusus ubtuk pembuatan larutan. porous. Unsur-unsur garam lokal alkali (sodium/potasium) tidak begitu mempengaruhi konsentrasi larutan sewaktu operasi pelapisan berlangsung. Pada proses pelapisan air yang digunakan harus berkualitas baik. Air ledeng/kota yang masih mengandung anion dan kation. Umumnya unsur-unsur yang terdapat dalam air adalah kandungan dari garam-garam seperti bicarbonat. warna yang suram (iridensceat) atau Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 15 of 20 . Biasanya penggunaan air pada proses lapis listrik di kelompokan dalam empat macam yaitu : air untuk pembuatan larutan elektrolit air untuk menambah larutan elektrolit yang menguap air untuk pembilasan dan air untuk proses pendingin Dari fungsi air tersebut dapat ditentukan kualitas air yang dibutuhkan untuk suatu proses. analisa larutan dan pembuatan larutan penambah . sehingga akan mempercepat kejenuhan larutan. karena mudah bereaksi dengan cadnium cyanid. Unsur-unsur yang tidak diinginkan dalam larutan adalah unsur kalsium dan magnesium. bisa di pakai pengganti aqua DM. Tetapi akan menghasilkan lapisan lapisan yang getas (brittle). noda-noda hitam (staining).

Pembersihan secara mekanik: Pekerjaan benda kerja. Mendapatkan kondisi fisik permukaan yang lebih baik dan lebih aktif. brigthening dan lain sebagainya. bebas dari bermacam-macam pengotor. Hal ini mutlak agar bisa di dapat hasil lapisan dengan cara listrik yang baik.2. Selain dari pengerjaan seperti tersebut diatas. kadang-kadang diperlukan proses lain misalnya brushing. modular dan keropos.1. tetapi roda/wheel polesnya yang berbeda yaitu terbuat dari bahan katun. laken dan sebagainya. Proses pengerjaan persiapan/tahap pendahuluan (pre treatment) Sebelum lapis listrik dilakukan. Biasanya untuk menghilangkan goresan-goresan dan geram-geram tersebut dilakukan dengan mesin gerindra. Untuk itu maka diperlukan air murni (reagent water) untuk membuat larutan dan menggantikan larutan yang menguap. anorganik / oksida dan lain-lainya. Untuk mendapatkan kondisi seperti tersebut perlu di lakukan pengerjaan pendahuluan dengan tujuan: Menghilangkan semua pengotor yang ada di permukaan benda kerja seperti pengotor organik. tetapi secara umum dapat diklasifikasikan sebagai berikut: 8. ini betujuan untuk menghaluskan permukaan dan menghilangkan goresan-goresan serta geram-geram yang masih melekat pada Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 16 of 20 . sedangkan untuk menghaluskan permukaannya dilakukan dengan proses buffing.mengkristal. Prinsipnya sama seperti proses gerindra. VIII PROSES LAPIS LISTRIK Secara garis besarnya proses lapis listrik dapat di kelompokan dalam tiga tahap pengerjaan yaitu: 8. permukaan benda kerja yang akan di lapis harus dalam kondisi benar-benar bersih. kulit. Teknik pengerjaan pendahuluan ini tergantung dari pengotoran.

karena mengurangi kontak antara lapisan dengan logam dasar/benda kerja. Pembersihan ini perlu sekali.4. garam dan kotoran-kotoran lainnya dengan pelarut organik. 8.3. maka prosesnya disebut anoda cleaning/degreasing. Pembersihan secara electro bertujuan selain akan didapatkan hasil pembersihan yang lebih bersih juga meningkatkan kecepatan pencucian. Prinsip kerjanya dengan menggunakan arus listrik dan katoda dipakai dengan lempengan carbon. Pembersihan secara biasa hádala meredamkan benda kerja dalam larutan alkalin dalam keadaan panas selama 5-10 menit. Pembersihan dilakukan dengan cara:  Vapour degreasing yaitu proses pembersihan dengan pelarut yang tidak mudah terbakar. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 17 of 20 . Pembersihan/pencucian dengan alkalin (Degreasing): Pekerjaan ini bertujuan untuk membersihkan benda kerja dari lemak atau minyak-minyak yang menempel. minyak. kemudian kotoran akan mengembun/menguap karena adanya reaksi dari bahan pelarut.  Proses pembersihan pada temperatur kamar yaitu dengan menggunakan pelarut organik. tetapi dilakukan pada temperatur kamar dengan cara diusap/dipoles.8. Bila benda kerja yang akan dibersihkan ditempatkan pada arus listrik negatif. karena lemak maupun minyak tersebut akan mengganggu pada proses pelapisan. Prinsipnya benda kerja diuapkan dengan pelarut tersebut dalam keadaan panas. Lamanya perendaman harus disesuaikan dengan kondisi permukaan benda kerja. Pembersihan/pencucian dengan pelarut (solvent): Proses ini bertujuan untuk membersihkan lemak. maka dianjurkan lamanya perendaman ditambah hinga permukaan bersih dari noda-noda tersebut. begitu pula sebaliknya. Pencucian dengan alkalin digolongkan dalam dua cara yaitu dengan cara biasa (alkalin degreasing) dan dengan cara electro (electrolitic degreasing). Seandainya lemak atau minyak yang menempel lebih banyak.

Woodtar dan sebagainya. sulfonate. Larutan asam ini terbuat dari pencampuran air bersih dengan asam antara lain: Asam chlorid (HCl) Asam sulfat (H2SO4) Asam sulfat dan asam fluorid ( HF) Reaksi proses pickling sebetulnya adalah proses electro kimia dalam sel galvanis antara logam dasar (anoda) dan oksida (katoda). Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 18 of 20 . quinidine.5. pyridine. Bahan organik sintetis (synthetic organic) yaitu thio aldehyd. Dalam reaksi ini biasanya diberikan inhibitor agar reaksi tidak terlalu cepat dan menghasilkan pembersihan yang merata. Pencucian dengan asam (pickling): Pencucian dengan asam bertujuan untuk membersihkan permukaan benda kerja dari oksida atau karat dan sejenisnya secara kimia melalui perendaman. Adapun keuntungan menggunakan larutan asam chlorid adalah : Menghasilkan keseragaman permukaan benda kerja Mudah dibilas Terjadinya over pickling lebih kecil Operasinya lebih mudah Ongkos lebih rendah Pencemar bau rendah/kecil Keuntungan menggunakan asam sulfat yaitu: Untuk barang/benda kerja dari besi/baja cor yang maíz mengandung sisasisa pasir dapat digunakan larutan campuran dari asam sulfat dan asam fluorid.8. coaltar. Gas H2 yang timbul dapat mereduksi ferri oksida yang mudah larut. aldehyde dan sebagainya. lumpur minyak. Ada dua jenis bahan inhibitor yang dikenal yaitu: Bahan organik alam (natural organic) yaitu glatine. sebab larutan tersebut dapat berfungsi selain untuk menghilangkan oksida/serpih juga dapat membersihkan sisa-sisa pasir yang menempel pada benda kerja. asfaltum.

IX.Terbagi dalam 2 macam yaitu rapat arus yang di perhitungkan ialah rapat arus katoda yaitu banyakna arus listrik yang di perlukan untuk mendapatkan atom-atom logam pada tiap satuan luas benda yang akan di lapis.1. Gambar 5. Karena kondisi tersebut menentukan berhasil atau tidaknya proses pelapisan serta mutu pelapisan yang dihasilkan. Rangkaian sistem pelapisan dapat dilihat seperti yang digambarkan pada gambar 5. Kondisi operasi yang perlu di perhatikan tersebut antara lain: 9. Dalam operasi pelapisan. Skematis rangkaian proses pelapisan. Proses lapis listrik Setelah benda kerja betul-betul bebas dari pengotor. kondisi operasi perlu/penting sekali untuk diperhatikan. maka benda kerja tersebut sudah siap untuk dilapis. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 19 of 20 . Rapat arus (current density): Rapat arus adalah bilangan yang menyatakan jumlah arus listrik yang mengalir perluas unit elektroda.

Temperatur/Suhu larutan: Temperatur larutan dapat mempengaruhi hasil lapisan. Satuan arus dinyatakan dalam Amp/dm2 atau Amp/ft2 atau Amp/in2.Tetapi bila rapat arus terlalu tinggi akan mengekibatkan lapisan kasar.Biasanya tegangan yang digunakan pada operasi lapis listrik adalah 6-12 volt. tetapi viscositas jadi berkurang. bersisik dan akan terbakar/hitam. pH berarti juga pOH-. sehingga endapan ion logam pada katoda akan lebih cepat sirkulasinya. daya larut bertambah besar dan terjadi: penguraian garam loga yang menjadikan tingginya konduktifitas serta menambah mobilitas ion logam. Pada temperatur yang tingi. Tegangan arus (Voltage): Seperti di jelaskan sebelumnya bahwa pada proses lapis listrik. 9.Tujuan menentukan derajat keasaman ini adalah untuk melihat atau mengecek kemampuan dari larutan dalam menghasilkan lapisan yang lebih baik. tegangan yang digunakan harus konstan sehingga yang di variablekan hanyalah ampere saja.6 A/dm2. maka rapat aruslah yang di variasikan sesuai dengan ketentuan. Umumnya untuk larutan yang Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 20 of 20 .4. voltage 6 volt. Sebagai contoh pada pelapisan tembaga. Hal ini dikarenakan lapisan terbakar. tetapi hasil lapisan tampak suram juga. rapat arus ditentukan 3. Bila temperatur larutan pada pelapisan chromium decorative lebih rendah dari 45 C rapat arus sama (20 A/Dm2).2. pH Larutan: pH di pakai untuk menentukan derajat keasaman suatu larutan elektrolit dan dalam operasi lapis listrik. 9. Sebagai contoh dari pengaruh temperatur terhadap lapisan dapat dijelaskan sebagai berikut.sedangkan voltagenya tetap. makin tinggi raat arus. pH larutan dapat diatur /diukur dengan alat ukur pH meter atau colorimeter. Kenaikan temperatur larutan menyebabkan bertambahnya ukuran kristal. tetapi tegangan tetap 6 volt.Rapat arus dapat di atur . makin meningkat kecepatan pelapisan dan dapat memperkecil ukuran/bentuk kristal.3. Maksudnya adalah bila Luas Permukaan benda kerja bervariasi. 9. sedangkan luas benda yang akan dilapisi 10 dm2 maka rapat arus adalah 36 A/dm2.

Proses ini dilakukan dengan cara dipping biasa. pH-nya berkisar 4. tetapi untuk apis lindung dengan lacquar biasa secara electro dan dipping. digunakan sodium atau potassium hydroksida dan atau asam sulfat untuk larutan yang bersifat asam. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 21 of 20 . 9.derajat keasaman (pH) nya berkisar antara 11-14. sedangkan untuk larutan asam.5-5. Untuk mengatur nilai pH sesuai dengan yang diinginkan. Proses pengerjaan akhir ( Post Treatment) Benda kerja yang telah dilakukan proses lapis listrik biasanya di bilas dan di keringkan.5.bersifat basa/alkali. Tetapi kadang-kadang perlu juga dilakukan pengerjaan lanjut seperti misalnya dipasipkan atau di beri lapis pelindung chromat (chromatting) atau lapis lindung transparan yaitu dengan Iaquar.6.

UNIT 2 PERALATAN PROSES ELEKTROPLATING Peralatan Proses Elektroplating Page 1 of 9 .

Peralatan Proses Elektroplating Page 2 of 9 . karena rusaknya rectifier ini bukan disebabkan oleh arus listrik yang terjadi. 9.2. Dalam hal operasi dan pemeliharaannya perlu diperhatikan antara lain: Gambar 2.1 Rectifier untuk proses elektroplating.1 Peralatan Utama Peralatan utama yang diperlukan pada proses lapis listrik (elektroplating) yaitu: 2. putus dan lain sebagainya). 12 volt dan jumlah arus (ampere) relatif rendah yaitu sampai 3000 ampere. Output tegangan yang keluar: 6. peralatan ini berfungsi sebagai sumber arus searah (DC). maka rectifier perlu dilengkapi dengan pendingin berupa: Konveksi udara biasa Konveksi udara dengan menggunakan tenaga blower Menggunakan sirkulasi oli Menggunakan sirkulasi air Menggunakan air dan udara Rectifier dapat dioperasikan terus menerus pada kapasitas yang maksimal bila panas yang terjadi tidak berlebihan. Untuk mengurangi panas yang berlebihan.1 Rectifier Merupakan salah satu peralatan utama dalam proses elektroplating.1. tetapi oleh adanya panas yang berlebihan. Faktor yang dapat merusakkan rectifier antara lain korosi dan macetnya komponen listriknya (korsluiting.

1. Untuk memenuhi persyaratan tersebut diatas. Peralatan Proses Elektroplating Page 3 of 9 . terkadang bak tersebut harus dilapis.1.2). sehingga kemungkinan kerusakkan sebagai akibat basahnya lantai dapat dikurangi.2. Bak Larutan.2. Jenis bahan bak dan pelapisnya untuk setiap jenis larutan yang akan ditampung dapat dilihat pada tabel 2. Dudukan bak diperlukan agar bak terdukung lebih kuat dan tidak adanya kontak langsung dengan lantai. Tidak mencemari larutan yang ditampungnya. Selain memperhatikan bahan bak. bibir bak. larutan pencuci. Bahan bak tergantung dari jenis dan kondisi larutan yang ditampungnya dengan persyaratan sebagai berikut: Tahan terhadap korosi yang ditimbulkan oleh larutan. maka dalam merancang suatu bak (Gambar 2. Setelah ditentukan jenis bahan bak dan pelapis serta bentuk dan ukurannya. penguat dan dasar bak. dan air pembilas. Tahan terhadap suhu/temperatur larutan. maka hal lain yang juga diperhatikan adalah dudukan bak. Gambar 2.2 Bak Larutan Bak larutan merupakan salah satu peralatan utama yang berfungsi untuk menampung larutan elektrolit. perlu diperhatikan konsrtuksi bak yang dikaitkan dengan bentuk dan ukuran benda kerja yang akan dilapis.

1 Jenis bahan dan pelapis bak larutan. Jenis Larutan Kuningan Kadmium (asam) Kadmium (alkalin) Chromium Tembaga (asam) Tembaga (alkalin) Emas (asam) Emas (alkalin) Timbal (asam) Nikel Perak Timah (asam) Timah (alkalin) Seng (asam) Seng (alkalin) Anodizing (asam chromium) Anodizing (asam sulfat) Pelat Baja Stainless S TD TD TD TD TD TD S TD TD TD TD TD TD TD TD TD Pelat Baja B TD B TD TD B TD TD TD TD TD TD B TD B B TD Pelat Baja Lapis Karet S B TD TD B TD TD TD B B B B TD B S TD S Pelat Baja Lapis Plastik B B B B B S B B B B B B TD B B TD S Pelat Baja Lapis Timbal TD TD TD B S TD TD TD TD TD TD TD TD TD TD TD B Pelat Baja Lapis Bata Tahan Asam TD S TD S S TD TD TD S TD TD S TD S TD S S Bahan Plastik B B B S B S B B S B B B TD B S TD S Plastik Fiber Glass S S S S B B S S S S S S TD S TD TD S Bahan Keramik S S TD TD S TD S S TD TD S S TD S TD TD S Peralatan Proses Elektroplating Page 4 of 9 .Tabel 2.

karena apabila terlalu besar. Setelah bahan rak.2 Peralatan Tambahan Rak benda kerja merupakan salah satu peralatan tambahan yang berfungsi sebagai tempat mengantungkan barang (benda kerja) yang akan dilapis dan sebagai penghantar arus listrik yang diperlukan oleh barang yang akan dilapis. sehingga memudahkan pengerjaan proses pembersihan atau pengeringan larutan. arus terdistribusi dengan baik dan dapat mencegah penumpukkan udara/gas. pembilasan dan proses pelapisannya.1 Rak Benda kerja . diusahakan agar tidak menimbulkan gas sekitar bagian yang terbuka. Untuk menentukan rapat arus yang akan dialirkan. bentuk dan ukuran serta jenis bahan rak perlu diketahui/dirancang sedemikia rupa. Penguat diperlukan untuk menjaga agar bak tidak bengkak (swelling) akibat tekanan larutan. setiap sebelum dan setelah selesainya operasi: pembersihan.5 cm dari sisi bak dan harus terendam sekurang-kurangnya 58 cm dari permukaan atas larutan. Pada bagian yang terendah biasanya dibuat lubang pipa yang dilengkapi denga kran untuk jalan keluar larutan. Benda kerja pada rak. hal ini akan menurunan kualitas lapisan.2. Bentuk kaitan tersebut perlu didesain sedemikian rupa agar kontak listrik sebaik mungkin.Bibir bak diperlukan untuk menguatkan bak sehingga bagian sisi bak akan lebih kaku dan sebagai tempat dudukan batang penggantu anoda dan katoda (rak atau benda kerja). Seabagai contoh Peralatan Proses Elektroplating Page 5 of 9 2. Rak (Gambar 2. pelindung rak hal lain yang perlu diperhatikan adalah sistem kaitan gantungan rak pada batang gantungan katoda dan anoda. sehingga tidak menimbulkan panas yang berlebihan. Panjang rak setelah ditempati benda kerja tidak melebihi 15 cm dari dasar bak. sehingga cukup kuat untuk menahan berat benda kerja serta tidak menimbulkan panas yang berlebihan baik pada benda kerja maupun pada rak itu sendiri. 12. maka pada barang akan tampak bekas gantungan. penguat bak biasanya dipasang pada bagian pinggang bak dengan bibir bak. Ukuran dan jumlah titik kontak antara barang dan rak diusahakan sekecil mungkin.3) harus mudah diangkat dari dan ke dalam bak. 2. Dasar bak sebaiknya direncanakan sedemikian rupa. biasanya dasar bak direncanakan miring atau bercelah.

4 ditunjukkan rak jenis keranjang. Peralatan Proses Elektroplating Page 6 of 9 .pada gambar 2. Gambar 2.4 Bentuk rak keranjang (basket).3 Beberapa jenis rak untuk gantungan benda kerja.3 diperlihatkan bentuk kaitan dan hubungan antara rak dan bendakerja serta pada gambar 2. Gambar 2.

2. Bentuk dan ukuran barrel telah mempunyaistandar tertentu sesuai kapasitas dan ukuran produk (benda kerja) yang akan dilapis. baut. biasanya digunakan untuk proses pelapisan dari barang atau produk-produk yang berukuran kecil misalnya mur. Gambar 2.5 Jenis dan bentuk barrel untuk proses pelapisan. Kontak arus listrik didalam barrel. Dinding silinder yang berlubang dan mempunyai pintu yang dapat dilepaskan. dan lain-lain. juga sebagai agitasi larutan dalam usaha menghindari penumpukkan logam pelapis. Peralatan Proses Elektroplating Page 7 of 9 . dan anoda terletak diluar barrel tersebut b.5. timbul sebagai akibat adanya kontak antara benda kerja dengan poros barrel yang fleksibel dan antar benda kerja itu sendiri.2 Barrel Barrel berfungsi selain sebagai tempat menampung barang akan dilapis.2. Horizontal Barrel. dengan ketentuan: a. Barrel dapat diklasifikasikan sebagai berikut: 1. sehingga dapat mencegah terjadinya penimbunan udara pada daerah benda kerja. Putaran barrel menyebabkan sirkulasi larutan berjalan dengan sempurna. Dinding yang berlubang dan dilengkapi dengan pintu dan anoda berada pada bagian dalam silinder barrel. yaitu sebagian dari barrel atau seluruhnya direndamkan dalam bak yang berisi larutan. Barrel seperti yang ditunjukkan pada gambar 2.

b. air panas dan listrik. Sistem pemanasan dan pendinginan dapat dilakukan dengan dua cara yaitu dari dalam bak atau dari luar bak. sedangkan media pendingin yang biasa digunakan adalah gas atau air. untuk mencapai hasil lapisan yang diinginkan. Jumlah pemanasan atau pendingan yang dibutuhkan.6) dapat dilakukan dengan pemanas celup (immersion heater) dan akan efektif bila luas permukaan heater ± 4 cm2. Oblique barrel yang berbentuk tabung silinder dengan posisi 45o.2. pemanasan atau pendinginan larutan elektrolit adalah berfungsi untuk mencapai kondisi operasi yang dipersyaratkan. yaitu uap air. Peralatan Proses Elektroplating Page 8 of 9 . sedangkan anodanya berada pada bagian luar barrel.6 Pemanas listrik (heater). Bagian oblique barrel terendam dalam bak dan mempunyai dinding yang berlubang-lubang dengan diameter: 3-5 mm. Gambar 2. tergantung pada volume dan jenis larutan. Media yang biasa digunakan untuk mengalirkan pemanas.2. Pemanasan atau pendinginan dari dalam bak (gambar 2. sedangkan sistim pemanasan dan pendiginan dari luar bak dapat dilakukan dan tidak tergantung pada luas permukaan bak. Oblique Barrel a. 2.3 Pemanas (Heater) Dalam proses lapis listrik atau elektroplating. larutan dan anodanya berada dibagian luar barrel.

7) atau dengan cara menggunakan bak penyaring atau bak pembantu. debu. Laju aatau kecepatan penggantian larutan akibat kantaminan. menggunakan alat penyaring (gambar 2.2. pengotor kimia atau logam serta dari udara agitasi. Kriteria yang diperlukan untuk menentukan sistim penyeringan adalah sebagai berikut: 1. 2.5 Saringan (Filter) Penyaringan adalah suatu proses pemisahan pengotor padat dalam larutan dengan cara memasukkan bahan kimia melalui suatu media yang dapat menahan lajunya pengotor padat tersebut.2. Kejadian ini disebut konveksi natural dan akan menyebabkan ketebalan lapisan menjadi berkurang dan rapat arus menjadi bertambah. Sistim agitasi dapat dilakukan dengan cara disemprot udara atau dengan cara sirkulasi larutan dengan menggunakan pompa ataupun secara mekanik dengan menggunakan propeller. Oleh karena itu untuk mendapatkan hasil lapisan yang tebal dan merata.2. larutan sekitar katoda menjadi kurang pekat (encer). udara kotor. Teknik penyaringan ini dapat dilakukan dengan cara langsung. 3. Mencegah terjadinya gelembung udara pada permukaan benda kerja. Frekwensi penyaringan yang diperlukan dalam menjaga kondisi larutan. 2.perlu dilakukan sistim agitasi dengan tujuan sebagai berikut: 1. Peralatan Proses Elektroplating Page 9 of 9 . 3. Pengisian kembali ion-ion logam yang berkurang didekat katoda atau bendakerja. Menghindari penumpukkan ion-ion logam dalam larutan. 2.4 Agitator Selama proses pelapisan berlangsung. Sumber utama terjadinya kontaminasi dalam larutan adalah berasal dari anoda. Jenis dan jumlah tingkat kontaminasi yang hendak dibersihkan. karena sebagian ion logam terendapkan pada benda kerja sehingga menyebabkan arus listrik akan bergerak ke bagian atas larutan.

7 Peralatan penyaring (filter).Gambar 2. Peralatan Proses Elektroplating Page 10 of 9 .

Ni-Cr dan Zn Page 1 of 26 .UNIT 3 PROSES ELEKTROPLATING: Cu. Ni-Cr DAN Zn Proses Elektroplating Cu.

• Sebagai cetakan dalam proses electroforming. • Sebagai lapisan tahan korosi. • Sebagai lapisan penghantar listrik (sirkuit elektronik). • Sebagai pelindung terhadap pengaruh electromagnetic. • Sebagai pencegah thermal shock.3.1 Elektroplating Tembaga (Cu) Manfaat Lapisan Cu: • Sebagai lapisan antara. • Sebagai stop-offs dalam proses perlakuan panas. Jenis elektrolit pelapisan tembaga: • Larutan Sianida • Larutan non Sianida • Larutan Alkalin Pyrophosphat • Larutan Sulfat • Larutan Fluoborat Komposisi & kondisi operasi proses elektroplating Cu dalam larutan Sianida Proses Elektroplating Cu. Ni-Cr dan Zn Page 2 of 26 . • Sebagai lapisan dekoratif.

3 to 3.0 to 3. pH larutan harus diturunkan sekitar 9. • Untuk benda kerja seng hasil die castings.0 mikron).5 A/dm2 dan voltase bak normalnya antara 4 dan 6 V • Pengadukan larutan akan menghasilkan komposisi elektrolit yang seragam. korosi apada anoda yang lebih seragam dan meningkatkan rapat arus sehingga lapisan Cu yang terbentuk akan lebih mengkilap Proses Elektroplating Cu.710 dengan penambahan sodium bicarbonate dan selalu ditambahkan tartaric acid atau sodium bicarbonate pada larutan untuk mempertahankan pH antara10-10. benda kerja harus dilakukan pelapisan Cu-strike terlebih dahulu dengan ketebalan sekitar 1. • Untuk benda kerja baja penambahan NaOH atau KOH akan meningkatkan konduktivitas larutan dan mencegah korosi pada wadah (baja) anoda. konstruksi dan bak larutan. Ni-Cr dan Zn Page 3 of 26 . • Larutan Sianida Rochelle konsentasi tinggi digunakan untuk menghasilkan ketebalan diatas 8 mikron.• Larutan Sianida Rochelle umumnya digunakan untuk menghasilkan lapisan Custrike (ketebalan: 1.3 mikron dengan jenis larutan Sianida. rendahnya konsentrasi sianida dapat menyebabkan hasil lapisan menjadi kasar dan tipis tetapi peningkatan konsentrasi sianida akan berpengaruh pula terhadap: laju korosi anoda yang semakin tinggi dan menurunkan efisiensi katoda.5 • Jenis larutan Sianida dapat dioperasikan pada temperatur kamar tatapi umumnya antara 32 and 49 °C untuk meningkatkan laju pelapisan dan meningkatkan pelarutan anoda • Jenis larutan Sianida umumnya dioperasikan pada rapat arus katoda dari 1-1. konsentrasi hidroksida harus dipertahankan antara1. • Pada jenis larutan Sianida. • Jenis larutan Sianida Rochelle dapat digunakan untuk jenis proses barrel plating. • Pada Cu-plating dengan menggunakan larutan jenis efisiensi tinggi akan menghasilkan kecepatan proses pelapisan Cu yang 3-5 kali lebih tinggi dibandingkan jenis Sianida Rochelle.8 g/L • Untuk benda kerja paduan aluminium. • Proses Cu-plating dengan larutan jenis efisiensi tinggi.

Ni-Cr dan Zn Page 4 of 26 .3.6 dan 12.0.• Rapat arus yang lebih dari 5 A/dm2 dapat diterapkan dengan jenis pengadukan udara dan agitasi pada benda kerja • Penambahan additive dapat dilakukan untuk meningkatkan efisiensi larutan (menurunkan efek pengotor dalam larutan) dengan penambahan complexing agents (tartrate salts). • Peningkatan temperatur pada larutan Sianida Rochelle. • Untuk proses Cu-plating material paduan seng die castings. • pH Larutan Sianida Rochelle sebaiknya dipertahankan antara 12. Tingginya konsentrasi karbonat akan menurunkan efisiensi anoda serta menghasilkan lapisan yang kasar dan berpori. hal ini dapat meningkatkan pemakaian rapat arus yang tinggi sampai 6 A/dm2.akan meningkatkan efisiensi anoda tetapi akan meningkatkan pembentukan karbonat (karena oksidasi sianida dan juga penyerapan CO2 bereaksi dengan larutan alkali dalam larutan). Karbonat dapat diambil dengan cara pendinginan larutan. potassium salts dapat diganti dengan sodium salts pada konsentrasi logam Cu tinggi sampai 38 g/L. dapat dioperasikan pada temperatur yang lebih tinggi sampai diatas 77 °C (170 °F). reducing agents (hexavalent chromium) dan wetting agents (surfactants) • Pada jenis larutan Sianida Rochelle. elektrolitnya paling baik dioperasikan pada temperatur 60-71 °C dan pH antara 11. akan meningkatkan efisiensi anoda dan katoda • Peningkatan pengadukan larutan.2 dan 13. • Jenis larutan Sianida Rochelle umumnya dioperasikan pada temperatur antara 54 and 71 °C yang dapat menghasilkan efisiensi terbaik yang dpat menghasilkan laju pelpisan yang lebih tinggi • Pada larutan Sianida jenis efisiensi tinggi. Proses Elektroplating Cu.

atau magnesium (larutan dapat terkontaminasi oleh seng dan dapat diambil secara elektrolisis larutan pada temperatur kamar dengan rapat arus 0. • Kontaminasi dari besi. Sodium hidroksida sebaiknya diturunkan jika larutan tersebut dioperasikan untuk proses pelapisan: zinc-base die castings.2-0. • Perlu pengontrolan larutan dan penyaringan larutan secara periodik dengan pemberian karbon aktif. Proses Elektroplating Cu. Ni-Cr dan Zn Page 5 of 26 .Kurva pengaturan pH larutan elektrolit Rochelle • Konduktivitas larutan Sianida Rochelle dapat ditingkatkan dengan penambahan sodium hidroksida 2-15 g/L ( to 2 oz/gal). aluminum. Untuk mencegahnya perlu ditambahkan wetting agents.3 A/dm2 yang menghasilkan lapisan warna kuningan. tidak dapat diambil dari larutan dan menyebabkan penurunan efisiensi arus.

Kurva hubungan antara waktu proses elektroplating Cu dengan efisiensi siklus pelapisan Kurva hubungan antara efisiensi siklus pelapisan dengan ketebalan lapisan hasil elektroplating Cu Proses Elektroplating Cu. Ni-Cr dan Zn Page 6 of 26 .

dan pada pH diatas 10 dapat menyebabkan lapisan buram •Kontaminan pada jenis larutan non sianida lebih rendah.0 A/dm2 •pH larutan jenis non sianida adalah antara 9-10. akan menghasilkan lapisan yang lebih mengkilap tetapi daya lekatnya relatif lebih rendah. •Pada operasi dengan rapat arus antara 0.5-3. efisiensi katoda mendekati 100%. sehingga dapat digunakan untuk Cu-plating strike ataupun akhir •Tidak ada pengaturan awalterhadap pelapisan benda kerja sengc die cast dan zincated aluminum •Pada operasi dengan pH dibawah 9. Perlakuan terhadap kotoran pada larutan dilakukan dengan menggunakan hidrogen peroksida dan karbon aktif Proses Elektroplating Cu. dan hasil lapisan lebih stabil (karena tidak ada dekomposisi sianid yang menghasilkan karbonat).Batasan konsentrasi & kondisi operasi pada elektroplating Cu dalam larutan alkaline non cyanide •Jenis larutan non sianida dioperasikan dengan konsentrasi logam Cu yang relatif lebih rendah yaitu antara 7. •Kurangnya pengadukan larutan dapat menghasilkan lapisan yang buram dan terbakar pada arus antara1. •Kelebihan jenis larutan ini adalah tidak menghasilkan gas sianid (beracun). Ni-Cr dan Zn Page 7 of 26 .5 A/dm2. pengolahan limbah lebih murah.5 to 2.5-13.5 g/L.

dan pada lapisan stopoff. •Pada jenis larutan pyrophosphate. •Karakteristik larutan jenis ini adalah diantara larutan sianid dan jenis asam (lebih mendekati larutan sianid jenis efisiensi tinggi). •Lapisan yang dihasilkan semi mengkilat.5 A/dm2 •Pengontrolan dan penyaringan larutan terhadap kontaminan dilakukan dengan menggunakan karbon aktif. •Larutan jenis ini mudah dioperasikan dan dikontrol. •Jika pengadukan larutan atau agitasi benda kerja rendah. maka rapat arus tidak boleh lebih dari 4. Ni-Cr dan Zn Page 8 of 26 . Proses Elektroplating Cu.Batasan konsentrasi & kondisi operasi pada eletroplating Cu dalam larutan copper pyrophosphate •Jenis larutan alkalin pyrophosphate digunakan untuk aplikasi dlapisan dekoratif termasuk pelapisan pada plastik papan sirkuit elektronik. •Larutan jenis asam sulfat menghasilkan efisiensi katoda antara 95-100%. rapat arus anoda dipertahankan antara 2-4 A/dm2. •Menghasilkan lapisan yang halus. mengkilat rata dan lebih ulet. •Efisiensi katoda hampir 100%. •Larutan ini dapat dioperasikan pada pH netral.

Spesifikasi dan standar untuk elektroplating Cu Perkiraan waktu elektroplating Cu (valensi 1) untuk menghasilkan ketebalan tertentu pada efisiensi 100% Proses Elektroplating Cu. Ni-Cr dan Zn Page 9 of 26 .

Pengotor. maa waktu proses elektroplatingnya manjadi 2 kalinya dari watu pada tabel tersebut. Ni-Cr dan Zn Page 10 of 26 . pyrophosphate.5 (besi tidak dapat mengendap). Proses Elektroplating Cu. dan besi yang mengendap pada larutan dan material organik dapat menyebabkan pitting pada lapisan. dan fluoborate). •Untuk larutan yang mengandung Cu valensi-2 (non Sianida. •Perlu penambahan waktu hasil koreksi sebagai akibat adanya kehilangan dari efisiensi katoda yaitu sebesar nilai perbedaan antara efisiensi aktual dengan efisiensi 100%. maka ditambahkan 30%nya dari perkiraan waktu yang terdapat pada tabel tersebut.•Jenis larutan Sianida mengandung Cu valensi-1.05 oz/gal) dapat menyebabkan pembentukan lapisan yang tidak rata (globular). magnesium.44 g/L (0. Contoh untuk efisiensi katoda sebesar 70%. Calcium. antara lain dari: benda kerja selesai proses cleaner sehingga membentuk silikat pada larutan anoda yang terkorosi pengotor sulfida dari bendakerja yang larut material organik yang terbawa dan tidak larut dalam air karbonat yang terbawa dan tidak larut dalam air oli partikel halus ataupun debu Faktor lain yang mempengaruhi kualitas lapisan Cu:     Kemurnian air yang digunakan. Klorida diatas 0.         Menyebabkan kasarnya lapisan Cu yang dihasilkan. Sulfat. Besi yang terlarut dalam air dapat menyebabkan lapisan menjadi kasar pada diatas 3.

Sumber logam pada pelapisan nikel berasal dari garam nikel. lapisan nikel suram dan lapisan nikel hitam.Jenis pengadukan pada elektroplating Cu Grafik ketebalan dan berat lapisan tembaga terhadap luas yang dilapis 3. Ni-Cr dan Zn Page 11 of 26 . Proses Elektroplating Cu. Tabel dibawah ini memperlihatkan komposisi dan kondisi operasi dari beberapa jenis eletrolit Nikel. ada juga yang bertujuan teknik yaitu untuk meningkatkan kekerasan permukaan komponen misalnya lapis nikel keras (hard nickel). Jika konsentrasi garam nikel rendah maka permukaan lapisan akan “terbakar“ jika rapat arus yang digunakan tinggi dan efesiensi katoda menjadi rendah. Bila konsentrasi garam nikel tinggi maka rapat arus semakin tinggi dan kecepatan pelapisan semakin meningkat.2 PELAPISAN NIKEL Jenis pelapisan ini selain ada yang bertujuan untuk dekoratif seperti lapisan nikel mengkilap.

Beberapa masalah yang mungkin timbul dalam pelapisan Nikel adalah sebagai berikut : 1.Nickel electroplating solutions Penambahan Nikel klorida dimaksudkan untuk mempercepat pengkorosian pada anoda dan meningkatkan konduktivitas larutan sehingga struktur kristal lapisan lebih halus dan kekerasan lapian meningkat. maupun penggoyangan pada katoda. Proses Elektroplating Cu. konsentrasi logam nikel dan derajat agitasi. udara. Untuk mencegah stratifikasi larutan elektrolit dan menjaga agar temperatur dalam larutan seragam. maka perlu dilakukan pengadukan (agitasi) baik dengan cara mekanik. sirkulasi larutan. Efesiensi katoda menjadi rendah jika: • Konsentrasi garam Nikel terlalu rendah • Rapat arus terlalu rendah • Rapat arus terlalu tinggi jika dibandingkan dengan temperatur larutan. Ni-Cr dan Zn Page 12 of 26 . Penambahan asam borat bertujuan untuk penyangga (buffer) sehingga mudah dalam pengontrolan pH larutan.

Brightener kelas I digunakan untuk mendapatkan lapisan putih mengkilap. biasanya dilakukan penambahan bahan pemengkilap (brightener) ke dalam larutan elektrolit. tetapi hal ini sangat tidak ekonomis. Lapisan Tidak sempurna / tidak menempel • Larutan bersifat alkalin (biasanya terlihat dari tampilan larutan yang keruh dan hasil pelapisan yang suram) • Larutan terlalu asam (pada katoda timbul gelembung gas/evolusi hydrogen yang berlebihan sehingga lapisan keras dan mengkilap) • Adanya lemak pada permukaan benda kerja Jenis pelapisan nikel yang banyak dijumpai di lapangan sebenarnya jenis pelapisan nikel mengkilap (lihat komposisi pada tabel sebelumnya). sedangkan brightener kelas II dimaksudkan untuk memperoleh permukaan Proses Elektroplating Cu. Untuk menghasilkan lapisan yang mengkilap. Ni-Cr dan Zn Page 13 of 26 .• Temperatur larutan terlalu rendah • Jumlah hydrogen peroksida atau bahan anti pitting terlalu tinggi • pH larutan terlalu rendah 2. Dijumpai adanya pitting jika: • Kurangnya bahan tambahan anti pitting • Jumlah asam borat terlalu rendah • Sumber logam pelapis terlalu sedikit • Keasaman terlalu tinggi • Pengadukan tidak sesuai • Adanya pengotor dalam elektrolit 3. Sebenarnya lapisan yang mengkilap dapat dihasilkan dari lapisan nikel biasa (suram) yang digosok-gosok. sehingga biaya produksi menjadi meningkat. Rendahnya kecepatan pelapisan jika: • Sumber logam pelapis sedikit • Temperatur larutan terlalu rendah • Konsentrasi hydrogen peroksida terlalu tinggi • Rapat arus terlalu rendah 4.

Selain itu. Ni-Cr dan Zn Page 14 of 26 . Oleh karena itu perlu dilakukan pembungkusan anoda dengan bahan polypropilene. selama proses pelapisan. sedangkan brightener kelas II biasanya mengandung garam logam atau senyawa organik tak jenuh. Kedua brightener tersebut harus bersama-sama digunakan dalam elektrolit sebab jika hanya brightener kelas I saja yang digunakan. anoda akan mengeluarkan kotoran (berupa endapan).kilapan seperti cermin. penyaringan larutan juga harus dilakukan secara kontinyu. Nickel electrodeposition data Proses Elektroplating Cu. Untuk menjaga agar kualitas lapisan tetap mengkilap maka selain pengadukan (agitasi). maka akan timbul tegangan sisa yang cukup tinggi dan kerapuhan pada lapisan. Brightener kelas I biasanya berupa napthalena disulfonic acid atau alkyl napthalena disulfonic acid.

ASTM B 456 Other nickel plating solutions and some properties of the deposits Proses Elektroplating Cu. Ni-Cr dan Zn Page 15 of 26 .Decorative nickel-plus-chromium coatings on steel Standards and Recommended Thicknesses.

Larutan Seng Sianida Larutan seng sianida. • Proses pelapisan seng dilakukan dengan menggunakan listrik. dibagi menjadi empat klasifikasi yang berbasis pada sianida. atau fasilitas proses pelapisan kontinyu. yaitu: • larutan sianida • larutan alkalin non sianida • dan larutan asamklorid. • Jika dibandingkan dengan logam lain adalah pelapisan seng relatif murah dan dapat diterapkan di/dalam barrel. Jenis Larutan: Pelapisan seng komersial.3. maka sesudah proses pelapisan (plating) diberikan suatu lapisan konversi (kromatasi) atau pernis bening (atau keduanya). Proses Elektroplating Cu.3 to 0.3 PELAPISAN ZN Karakteristik: • Seng bersifat anodik terhadap besi & baja. walaupun lebih tidak tahan lama dibandingkan lapisan nikel. • Lapisan seng. Ni-Cr dan Zn Page 16 of 26 . medium • Larutan sianida-rendah • dan latutan seng Microcyanide Tabel 1 menunjukkan komposisi umum dan syarat-syarat operasi untuk sistem ini. yaitu: • Larutan seng sianida reguler • Larutan midcyanide atau larutan dengan konsentrasi sianida. oleh karena itu dapat menjadi lapisan protektif dengan ketebalan antara 7 to 15 mikron (0. Untuk menghasilkan lapisan seng yang terang sebagai lapisan dekoratif. tangki/tank. dan terlihat abuabu setelah pelapisan. tetapi cukup memberikan suatu perlindungan terhadap karat (korosi) dan biaya proses yang jauh lebih murah.5 mil) setara dengan ketebalan lapisan nikel atau lapisan katodik lainnya. dapat menggunakan sistem larutan yang cukup berbeda.

Tabel 1. Komposisi dan prameter operasi dari larutan seng sianida

Proses Elektroplating Cu, Ni-Cr dan Zn

Page 17 of 26

Standar Larutan Seng Sianida • Perlu pembersihan permukaan yang lebih baik dari pada sistem lain. • Larutan seng Sianida adalah benar-benar fleksibel, dan berbagai macam komposisi larutan dapat memenuhi persyaratan pelapisan seng. Sistem larutan seng sianida tidak bersifat merusak ke/pada peralatan, sehingga tangki/tank dan keranjang anoda yang terbuat dari baja dapat digunakan untuk sistim larutan ini, pada hakekatnya dapat mengurangi investasi awal pabrik. • Sistem sianida juga mempunyai sejumlah kerugian, mencakup tingkat keracunan. (dengan kekecualian larutan perak atau cadmium sianida), larutan seng sianida standar yang berisi 90 g/L (12 oz/gal) dari total sodium sianida merupakan larutan yang berpotensi paling beracun dalam industri pelapisan. Bahaya terhadap kesehatan dari larutan sianida konsentrasi tinggi ini memerlukan biaya tambahan dalam memperlakukan limbah sianida, sehingga alasan primer inilah untuk menggunakan larutan sianida dengan konsentrasi lebih rendah atau diganti dengan menggunakan larutan non sianida atau asam, walaupun teknologi untuk penanganan limbah larutan sianida sangat telah berkembang, tetapi memerlukan biaya untuk awal penanganan pabrik mungkin saja lebih besar dari biaya instalasi proses pelapisannya. • Kerugian Lain adalah konduktivitas larutan yang relatif lebih rendah. Konduktivitas larutan sianida pada hakekatnya lebih rendah dari larutan asam. • Efisiensi proses pelapisan dari sistem sianida, sangat bervariasi tergantung pada beberapa faktor-faktor seperti temperatur larutan, konsentrasi sianida, dan kerapatan arus. Di/dalam instalasi proses sistim barrel, kerapatan arusnya sampai dengan 2.5 A/dm2 (25 A/ft2 ) dengan efisiensi dapat mencapai 75 sampai 90%. Di/dalam instalasi proses sistim rak, efisiensinya di bawah 50% pada kerapatan arus di atas 6 A/dm2 (60 A/ft2 ). Larutan Seng Midcyanide Larutan sianida standar menghasilkan throwing and covering power yang baik sekali. Kemampuan larutan melapisi bahan pada kerapatan arus yang sangat rendah adalah lebih baik dari sistim larutan seng lainnya. Kemampuan ini tergantung pada komposisi larutan, temperatur, logam dasar (jenis bahan), dan penggunaan aditip. Konsentrasi jenis larutan ini ditunjukkan pada tabel 1.

Proses Elektroplating Cu, Ni-Cr dan Zn

Page 18 of 26

Karakteristik penyepuhan dari larutan midcyanide dan larutan sianida reguler, pada kenyataannya adalah sama. Kelemahan Satusatunya dari larutan midcyanide ini dibandingkan dengan larutan standar, adalah toleransi terhadap pengotor yang sangat rendah dan preparasi permukaan yang harus sangat baik. Kelemahan ini adalah jarang ditemui dalam praktek di pabrik. Lebih besar proses pembilasan, pada hakekatnya adalah lebih sedikit dragout, dan menghemat persiapan larutan, biaya pemeliharaan, dan biaya proses sehingga menjadi keunggulan dari jenis larutan ini. Larutan Seng Low-cyanide • Dioperasikan pada kira-kira 6 sampai 12 g/L (0.68 sampai 1.36 oz/gal) sianida sodium dan logam seng. Larutan ini karakteristiknya berbeda dengan jenis midcyanide dan sianida standar. Aditip, secara normal digunakan di/dalam larutan reguler dan sianida midstrength, tetapi tidak berfungsi dengan baik pada larutan sianida rendah, sehingga brighteners untuk larutan Sianidarendah menggunakan brightener khusus. • Larutan seng sianida rendah, lebih sensitif temperatur dibandingkan larutan reguler atau midcyanide. Efisiensi larutan jenis ini adalah sama dengan larutan sianida reguler pada awalnya, tetapi itu cenderung menyebabkan pengelupasan (terutama pada/di kerapatan arus yang lebih tinggi). Jenis larutan ini memiliki throwing power and covering power yang sedikit lebih rendah dibandingkan dengan larutan midcyanide standar. Larutan lowcyanide lebih tidak sensitif terhadap pengotor dibandingkan larutan standar atau midcyanide. Pengotor dari logam lebih banyak tidak larut pada larutan dengan konsentrasi sianida yang lebih rendah. Larutan jenis ini banyak digunakan secara ekstensif untuk proses pelapisan seng sistim rak barang-barang kawat. Tidak seperti sistem sianida lain, larutan sianidarendah tidak sensitif terhadap penambahan sulfida untuk mengurangi pengotor bahkan dapat mengurangi kecerahan lapisan dan kecepatan proses pelapisan. Larutan Seng Microcyanide secara esensial merupakan larutan seng alkalin noncyanide. Proses pelapisan seng dengan lmenggunakan larutan alkalin ini relatif cukup sulit, Proses Elektroplating Cu, Ni-Cr dan Zn Page 19 of 26

penambahan aditip perlu dilakukan untuk menyelesaikan masalah ini. 1.26 oz/gal). sebagai suatu aditip yang dapat meningkat kecerahan hasil lapisan.6 oz/gal) digunakan pada3 A/dm2 (30 A/ft2 ) yang dapat menghasilkan suatu lapisan seng yang terang/cerah dengan efisiensi kira-kira 80%. Ni-Cr dan Zn Page 20 of 26 . Noncyanide Alkalin seng adalah satu larutan yangrelatif praktis. Proses Elektroplating Cu.0 g/L (0. Larutan ini menggunakan logam seng: 7. rapat arus menurun. Bagaimanapun. 2.sehingga ditambahkan sedikit sianida minimal 1.5 sampai 12 g/L (1. seperti diperlihatkan pada Gambar. Meningkatnya konsentrasi logam hingga di atas 17 g/L (2.3 oz/gal) akan menghasilkan lapisan berwarna abu-abu dop dan tidak rata. sehingga. itu bertujuan untuk dapat meniadakan atau sepenuhnya mengeliminasi sianida. Table 2 Komposisi & parameter proses dari larutan seng alkaline noncyanide Larutan alkalin noncyanide relatif murah proses & pemeliharaannya. Jika. seperti yang diperlihatkan pada Gambar. konsentrasi yang terlalu tinggi maka akan menyebabkan penumpukkan lapisan pada daerah sudut atau sisi. maka efisiensi turun sampai dibawah 60% pada kerapatan arus ini.0 sampai 1.13oz/gal). Jika konsentrasi logam turun hingga 2 g/L (0. Meningkatkan konsentrasi hidroksida sodium akan meningkatkan efisiensi.

1 Effisiensi arus pada katoda katoda sebagai fungsi dari konsenrasi logam seng dari larutan seng alkalin noncyanide. 75 g/L (10 oz/gal) NaOH.5 oz/gal) Zn. 150 g/L (20 oz/gal) NaOH. Segitiga Kosong. Proses Elektroplating Cu. NaOH. 150 g/L (20 oz/gal) NaOH. : Lingk-7. Temperature: 26 °C (77 °F).5 g/L (1.Gambar. Na2 CO3 . Segitiga Pejal.5 g/L (1 oz/gal). •: 7.0 oz/gal) Zn. 80 g/L (11oz/gal).5 oz/gal) Zn.15 g/L (2. Segi Empat 11 g/L (1.11 g/L (1.0 oz/gal) Zn. Ni-Cr dan Zn Page 21 of 26 .Zn. 150 g/L (20 oz/gal) NaOH. 15 g/L (2 oz/gal) Gambar. 110 g/L (15 oz/gal) NaOH. 2 Pengaruh konsentrasi logam seng & sodium hidroksida terhadap efisiensi katoda dari larutan noncyanide.

hidroksida sodium. Proses Elektroplating Cu. permukaan akhir yang diinginkan dan karakteristik larutannya. dan perbandingan cyanideseng terhadap efisiensi adalah diperlihatkan pada Gambar. tergantung pada temperatur dan kerapatan arus. 3.Temperatur Larutan seng Sianida dapat dioperasikan pada temperatur 12 sampai 55 °C (54 sampai 130 °F). sehingga temperatur optimum perlu ditentukan. Pengaruh adari konsentrasi logam seng. Effisiensi Arus Pada proses pelapisan dengan larutan seng sianida sistim barrel. hal ini dapat menyebabkan rendahnya throwing power dari larutan. dan berbagai kesulitan pemeliharaan larutan. Temperatur operasi ini diberikan tergantung pada jenis benda kerja. konsumsi brightener lebih tinggi. biaya operasional lebih tinggi. Peningkatan efisiensi dapat diperoleh dengan menggunakan Larutan dengan konsentrasi sianida yang lebih tinggi. Ni-Cr dan Zn Page 22 of 26 . Pada sistim rak efisiensi arusnya akan sangat bervariasi pada kerapatan arus yang relatif tinggi. pemakaian umum adalah antara 23 sampai 32 °C (73 sampai 90 °F).5 /dm2 (25 A/ft2 ) 50% pada 5 A/dm2 (50 A/ft2 ). effisiensi kira-kira 90% pada 2. Temperatur larutan sangat berpengaruh dalam sistem seng sianida. terutama di atas 3 A/dm2 (30 A/ft2 ). Umumnya. tetapi. Mengoperasikan larutan pada temperatur yang relatif tinggi. effisiensi arusnya bervariasi antara 75 dan 93%. akan memberikan konduktivitas dan efisiensi pelapisan yang optimum. Pengaruh meningkatnya temperatur Larutan:          Meningkatkan efisiensi katode Meningkatkan konduktivitas larutan Meningkatkan karat (korosi) pada anoda Menghasilkanlapisan yang buram Mengurangi daya liput (covering power) Mengurangi throwing power Meningkatkan penguraian sianida dan agen penambahan Menurunkan temperatur larutan akan mempunyai efek kebalikan.

82 oz/gal) NaCN. 60. 17. terutama pada kerapatan arus yang lebih tinggi. Rasio 2.7. 2.   Mempunyai konduktivitas yang jauh lebih tinggi dibandingkan larutan alkalin. 43. 75. (a) Pengaruh dari rasio NaCN/Zn. 60.5 g/L (5.75-sampai-1 Rasio dari NaCN terhadap seng.2.6 g/L (5. dan 65. yang akan cukup sulit atau mustahil dilakukan dengan menggunakan larutan alkalin. Ni-Cr dan Zn Page 23 of 26 . 60 g/L (8 oz/gal) Zn (CN). Temperatur: 30 °C (86 °F). 10. Proses Elektroplating Cu.82.5 sampai 43.7 g/L (2.2 g/L (10 oz/gal) NaOH.1 g/L (8 oz/gal) Zn(CN). Temperatur: 30 °C (86 F). 43. keuntungan dari jenis larutan ini adalah: Merupakan satu-satunya larutan seng yang memiliki kemampuan untuk menghasilkan lapisan dengan tingkat kecerahan cukup baik dan paling brilian.27. Efisiensi larutan mencapai 95 sampai 98%. besi malleable. secara normal jauh lebih tinggi dibandingkan larutan sianida atau proses alkalin.75-sampai-1 rasio dari NaCN terhadap seng.0-sampai-1 sampai 2. 5. 3 Pengaruh komposisi larutan & rapat arus terhadap effisiensi dari larutan plating seng sianida.4 dan 75. seperti diperlihatkan pada Gambar.6. 150. dan 12 oz/gal) Zn (CN). dan 90. Dapat diterapkan pada jenis bahan besi cor. 2.Gambar.2 g/L (10 oz/gal) NaOH.1. 54. Temperatur: 30 °C (86 °F) Larutan Asam Larutan seng asam berbasis pada seng klorid yang saat ini 40 sampai 50% dipergunakan di seluruh dunia.2 g/L (20 and 10 oz/gal) NaOH. dan 8.8 oz/gal) NaCN. dan komponen yang di-carbonitrided. (b) Pengaruh konsentrasi logam seng.75-sampai-1 rasio dari NaCN terhadap seng. Komposisi dan parameter proses dari larutan seng Asam ditunjukkan pada tabel 5. 75. (c) Pengaruh dari konsentrasi NaOH. sehingga lebih effisien. 7. 75.2 g/L (8.33 sampai 5.72 oz/gal) NaCN.

seperti tangki/tank dan lainnya. Semua peralatan yang berhubungan dengan larutan. harus dilapisi dengan bahan anti-karat. dan pegendapan logam seng jika diperlukan. Pengaruh negatif dari larutani asam chloride adalah larutan asam klorid adalah bersifat korosif. Ni-Cr dan Zn Page 24 of 26 . hanya terutama pada netralisasi pada pH 8.  Penggetasan hidrogen lebih rendah dibandingkan dengan jenis larutan seng lainnya. Tabel 5 Komposisi & parameter operasi dari larutan seng asam chloride Proses Elektroplating Cu. Prosedur-prosedur penanganan limbahnya lebih rendah.5 sampai 9. karena efisiensi arusnya relatif tinggi.

Gambar. Ni-Cr dan Zn Page 25 of 26 . 5 Perbandingan effisiensi arus dari larutan plating seng Proses Elektroplating Cu.

temperatur rendah. biasanya di bawah 21 °C (70 °F). sirkulasi larutan biasanya terpenuhi oleh adanya filter. direkomendasikan dalam pemakaian larutan asam klorid untuk mencapai kerapatan arus operasi yang praktis. yaitu biasanya 35 °C (95 °F). maka aditip perlu segera dalam larutan untuk menghindari perubahan larutan seperti susu atau berawan yang menyebabkan ketidakseimbangan larutan. Tabel 6 memperlihatkan komposisi dan kondisi operasi dari beberapa larutan seng fluoborate dan sulfate. menyebabkan larutan Proses Elektroplating Cu. Ni-Cr dan Zn Page 26 of 26 . Parameter : Pengadukkan (agitasi).Tabel 6 Komposisi dan parameter operasi dari larutan Seng Fluoborate dan sulfate Sejumlah larutan seng berbasis seng sulfate dan seng fluoborate banyak digunakan terutama untuk proses pelapisan seng produksi tinggi. Pada sistim rak. Pengadukkan ini dapat dilakukan melalui tiupan udara. Mengoperasikan larutan asam klorid di atas temperatur yang direkomendasikan dapat menyebabkan kecerahan lapisannya menjadi rendah. direkomendasikan dalam proses pelapisan sistim barrel. Ketika larutan asam mencapai temperatur yang cukup panas. Sebaliknya. sehingga pendinginan harus disediakan untuk mempertahankan temperatur larutannya tetap sesuai dengan rekomendasi. pelapisan kontinyu dari kawat dan batang. Sirkulasi larutan. Pengontrolan Temperatur dalam larutan asam cukup diperlukan dibandingkan dalam larutan seng sianida.

ketika memerlukan. Ni-Cr dan Zn Page 27 of 26 .6 mil) atau filter yang lebih kecil lagi. Metoda Elektrometris adalah dengan menggunakan kertas pengujian. Tidak ada larutan seng lainnya yang benar-benar berefisiensi tinggi pada kerapatan arus tinggi yang dapat meningkatkan produktivitas 15 sampai 50%. Endapan besi hidroksida disaring dengan menggunaka filter 15 mikron (0. Dalam sistim barrel. Pencemaran larutan oleh unsur besi adalah suatu masalah umum pada larutan seng asam klorid.4 gal. Pengontrolan pH pada larutan seng asam biasanya dimonitor sehari-hari. Effisiensi Arus Katoda. beban arus bisa berlipat ganda. Larutan seng asam klorid menghasilkan efisiensi arus katode yang tinggi seperti diperlihatkan pada Gambar. 5. pH ditingkatkan dengan penambahan kalium atau ammonium hidroksida. Proses Elektroplating Cu. biasanya kira-kira 10 mL (0.) dari larutan. 30% peroksida hidrogen harus digunakan untuk setiap 100 L (26. Penghilangan pengotor besi dalam larutan asam klorid dilakukan dengan cara mengoksidasi besi dengan menambahkan hidrogen peroksida pada larutan. efisiensi arus katode rata-rata untuk larutan ini adalah kira-kira 95 sampai 98%. di/dalam sistim barrel akan tampak sebagai bintik hitam pada lapisan.34 fl oz) . Kalium permanganat dapat digunakan sebagai pengganti peroksida. di atas itu dapat diperoleh dengan larutan sianida. Penurunan konsentrasi peroksida adalah dengan penambahan 4 sampai 5 air.meng-kristal dan menyebabkan aditip organik memisahkan diri ke luar dari larutan. pH diturunkan dengan penambahan larutan asam hidroklorik. Pencemaran oleh besi biasanya tampak sebagai endapan gelap pada lapisan dengan kerapatan arus tinggi.

Tabel 8 Perkiraan umur pakai komponen yang dilapis seng pada berbagai kondisi lingkungan Tabel 9 Applikasi dari plating seng pada ketebalan 7 sampai 13 mikron (0.5 mil) Proses Elektroplating Cu. Ni-Cr dan Zn Page 28 of 26 .3 sampai 0.

UNIT 4 ANODIZING DAN PEWARNAAN ALUMINIUM Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 1 of 10 .

Banyaknya pemakaian tersebut maka untuk penggunaan-penggunaan khusus Aluminium tersebut diproses kembali misalnya untuk diperlukan tahan oksidasi maka Aluminium tersebut direaksikan dengan bahan kimia yang sering disebut proses Anodizing. Dengan semakin majunya teknologi serta bahan-bahan teknik sehingga penggunaan bahan yang mempunyai kekuatan dan keuletan yang tinggi semakin banyak digunakan sekarang ini. Tujuan dari pada proses anodizing ini agar pada Aluminium dapat: Meningkatkan ketahanan korosi. misalnya yang paling banyak digunakan adalah Aluminium (Al). Bertitik tolak dari hal tersebut maka penulis menyajikan karya tulis tentang teknologi proses anodizing pada Aluminium berdasarkan pada studi pustaka (teori dasar) dan nara sumber yang telah melakukan proses anodizing secara lengkap dan baik. Bersifat dielektrik. Sebagai dekoratif.1 Warna daripada Aluminium Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 2 of 10 . 4. Meningkatkan ketahanan abrasi. Dari mulai alat-alat rumah tangga sampai pada bagian-bagian pesawat terbang. Selain mempunyai kekuatan dan keuletan juga harus mempunyai berat jenis yang rendah dengan kata lain sifatnya ringan.2 Maksud dan Tujuan. Gambar 4. Maksud dari pada proses ini adalah untuk mengetahui sampai sejauh mana pengaruh dari parameter yang ada pada Aluminium setelah diproses dengan cara anodizing. Untuk keperluan dekoratif maka Aluminium yang telah diproses anodizing dilakukan proses pewarnaan (Colouring). Oleh karena itu penggunaan bahan-bahan yang ringan banyak sekali.4.1 Latar Belakang.

2 Skema Prisip Kerja Proses Anodizing. Warna yang dihasilkan dari proses ini berbeda tergantung pada waktu. Larutan elektrolit yang digunakan yaitu asam sulfat (H2SO4) dan menggunakan listrik arus searah (Direct Current/DC). Anodizing merupakan suatu proses untuk menghasilkan lapisan pelindung dan untuk keperluan dekoratif. Dan sebagai dekoratif. makin lama proses pencelupan warna yang diperoleh akan semakin gelap atau hitam. Lapisan oksida Aluminium ini berfungsi sebagai pelindung dan akan tahan terhadap beberapa faktor antara lain: Tahan korosi. V Sumber Listrik A (+) (-) Aluminium Pb Elektrolit Gambar 4.4. Proses lanjutan dari anodizing adalah proses pewarnaan secara elektrolitik. Dilain pihak anodizing adalah suatu proses elektrolisis untuk menebalkan dan menstabilkan lapisan oksida pada logam dasar. Isolasi listrik. Dengan warna yang berbeda maka akan mempengaruhi ketebalan dari lapisan tersebut.3 Teknologi Proses Anodizing. Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 3 of 10 . lapisan anodis yang dihasilkan oleh proses anodizing bersifat dielektrik. Tahan abrasi. Dari proses anodizing ini akan dihasilkan lapisan anodis yang merupakan lapisan tipis oksida Aluminium pada permukaan Aluminium. Proses anodizing merupakan proses elektrolisa didalam suatu larutan elektrolit.

3.3 Pengaruh Waktu Terhadap Lapisan Anodis yang dihasilkan Tabel 4. Dalam proses anodizing pengaruh waktu sangat menentukan terhadap tebal tipisnya lapisan yang dihasilkan seperti yang terlihat pada gambar 4. Pengaruh Temperatur dan Waktu Anodizing pada Warna 35 0C 30 60 90 120 180 43 0C 30 60 90 120 52 0C 30 60 Warna yang dihasilkan Abu-abu mengkilap Abu-abu Tua Kehitam-hitaman Hitam Hitam Pekat Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 4 of 10 . Hard Anodizing Conventional anodizing 7075 2014 2024 Gambar 4.dimana: V A : Voltmeter : Ampermeter Proses anodizing ini membentuk suatu lapisan oksida Aluminium pada permukaan batang-batang profil Aluminium dan lapisan ini dapat melindungi terhadap reaksi oksidasi.1.

Dalam mengerjakan proses anodizing ini ada 3 macam bagian operasi yang dilakukan.Variasi antara ketebalan anodik dan waktu anodizing dapat berhubungan pula dengan temperatur larutan yang dipakai seperti pada gambar 4. b. c. Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 5 of 10 .4. garpu dan klem Semua terbuat dari Aluminium dan digunakan untuk mengikat batang-batang profil Aluminium pada rak penggantung.4. yaitu: 1. Racking 2. Over Head Crane Over head crane ini digunakan untuk mengangkat rak penggantung dari satu tangki proses ke tangki proses lainnya.4 Proses Produksi. Rak penggantung (hanger) Rak penggantung ini terbuat dari Aluminium dan digunakan sebagai tempat dari batang-batang profil Aluminium. Unracking Peralatan pembantu untuk mengerjakan proses anodizing ini terdiri dari: a. Kawat. Anodizing 3. Hubungan Antara Ketebalan Anodik dengan Waktu Terhadap Temperatur 4. Anodic film wt 50 0F (10 0C) 70 0F (21 0C) 122 0F (50 0C) Anodizing time Gambar 4.

Sealing Tank : 1 buah : 1 buah : 3 buah : 1 buah : 3 buah Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 6 of 10 .Anodizing Tank .Desmuting Tank .Water Rinse Tank : 12 buah .Colouring Tank .Etching Tank . Prinsip kerja dari proses ini adalah batangbatang profil yang akan dianodizing diikatkan pada bagian sebelah kiri dan kanan rak penggantung dengan menggunakan kawat aluminium. Pada proses ini jenis dan jumlah bak (tangki) yang digunakan adalah sebagai berikut : . Racking. 2. Racking adalah proses pemasangan batang-batang profil Aluminium pada rak penggantung (hangaer).Penjelasan masing-masing operasi : 1.Degreasing Tank : 1 buah . Anodizing.

Degreasing. oli dan lemak yang melekat pada batang profil Aluminium. Degresing adalah proses penghilangan kotoran. Proses pengikisan kotoran pada batang profil Aluminium ini diakibatkan desakan uap panas sehingga Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 7 of 10 .5 Skema Proses Anodizing Urutan proses anodizing secara umum adalah sebagai berikut: a.Degreasing Pencucian Coastic Etch Pencucian Desmuting Pencucian Anodizing Pencucian Colouring Pencucian Sealing Produk Gambar 4. Dengan menggunakan larutan alkaline clean yang dipanaskan sehingga uap panas yang dialirkan melalui pipa yang berada didasar tangki. seperti minyak.

menggerakkan larutan alkaline clean mengikis kotoran yang ada pada batang-batang profil Aluminium tersebut. f. Pencucian. Perbandingan dengan kedua larutan tersebut 1 : 5. Pencucian. Proses anodizing ini membentuk suatu lapisan oksida Aluminium pada permukaan batang-batang profil Aluminium dan lapisan ini dapat melindungi terhadap reaksi oksidasi. Lapisan tersebut terdiri dari partikel antar logam berat atau oksida yang larut dalam alkaline. Anodizing Anodizing adalah proses elektrolisa didalam larutan elektrolit. Air yang digunakan adalah air bersih. Untuk menghilangkan goresan tersebut digunakan larutan soda api (NaOH) dengan temperatur pada tangki proses yaitu 55 0C. Sebagai kutub positif pada proses adalah batang-batang profil Aluminium dan katodanya terbuat dari logam Aluminium atau timah hitam. Tujuan pencucian adalah untuk menghilangkan larutan NaOH yang masih ada pada permukaan. Tujuan pencucian adalah untuk menghilangkan larutan yang tertinggal pada permukaan. Penghilangan goresan-goresan ini. Desmuting Desmuting merupakan proses untuk menghilangkan lapisan smut yang diakibatkan oleh proses sebelumnya. g. Etching Fungsi dan proses ini adalah menghilangkan bagian-bagian yang kasar dan goresan-goresan yang ada pada permukaan batang profil tersebut. e. dimaksudkan agar batang-batang profil Aluminium ini mudah dialiri arus listrik pada waktu proses anodizing berlangsung. b. Tujuan proses ini untuk menghilangkan zat pembersih yang tertinggal pada permukaan. Untuk menghilangkan oksida-oksida logam berat tersebut digunakan larutan asam nitrat (HNO3) dengan konsentrasi 50 % atau asam sulfat (H2SO4) yang mempunyai konsentrasi 15 %. Larutan yang digunakan untuk proses anodizing ini adalah Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 8 of 10 . Bahan pencuci yang digunakan adalah air bersih. d. c. Pencucian. bahan pencuci yang digunakan adalah air bersih.

i. Pewarna (Colouring). Pada proses elekrolisa ini digunakan: . H2SO4. oksigen yang terikat pada senyawa Aluminium Al2O3 akan berpindah kebatang profil Aluminium yang sebelah dalam untuk membentuk Al2O3 yang baru.Tegangan . h. j.asam sulfat (H2SO4) dengan konsentrasi 20 % ditambah aditive.Daya : 130 Ohm : 30 Volt : 3 Watt : 20 0C . Pencucian. semakin lama proses pewarnaan berlangsung maka menghasilkan warna yang semakin gelap atau hitam. Bahan pencuci yang digunakan adalah air bersih. Tin Sulfat dan additive dengan temperatur proses 20 0C. Pencucian. Proses ini dilakukanuntuk menghilangkan larutan H2SO4 yang masih ada pada permukaan batang-batang profil Alluminium. Colouring merupakan proses pewarnaan secaara elektrolitik. Warna yang dihasilkan dariproses ini tergantung pada waktu. Larutan yang digunakan dalam proses ini adalah Cobalt. Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 9 of 10 .Temperatur proses Reaksi kimia pada proses ini berlangsung sebagai berikut : H2SO4 Katoda : Anoda : 2H+ + 2e SO422SO4 4 Al + 3O2 2H+ + SO42H2 SO4 + 2e 2SO3 + O2 2Al2O3 Pelapisan Aluminium denngan oksidanya berlangsung terus menerus selama proses elektrolisa dijalankan sebab Al2O3 yang terbentuk tidak menghalangi reaksi dengan oksida aktif. Tujuan dari pewarnaan ini adalah untuk memperindah batang-batang profil Aluminium. karena selama proses elektrolisa berlanngsung.Hambatan .

Bagian terakhir dari proses anodize adalah sealing. Sealing adalah proses penyempitan pori-pori dari logam Aluminium yang telah dianodize. Prinsip dari proses sealing ini adalah proses antara oksida Aluminium dengan air yang membentuk oksida Aluminium mono hidrat. Lamanya proses sealing ini tergantung tebalnya batang aluminium yang dianodize. Unracking.6 Mekanisme Penyempitan Akibat dari Proses Sealing 3. Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 10 of 10 . Karena hidrasi yang terjadi pada proses ini akan merubah oksida Aluminium anhidrat menjadi oksida Aluminium hidrat. Bahan pencuci yang digunakan adalah air bersih. Proses sealing ini dimaksudkan untuk menstabilkan lapisan anodize (Al2O3).Tujuan proses ini adalah untuk menghilangkan kotoran-kotoran yang masih ada pada permukaan. Sealing. H2O Temperatur pemanasan pada tangki proses digunakan 98 0C. k. Reaksi kimia dari proses sealing dapat dilihat sebagai berikut : Al2O3 + H2O Al2O3 . Unracking adalah proses melepaskan batang-batang profil Aluminium yang telah dianodizing dari rak penggantung. Sebelum di-sealing Sesudah di-sealing Gambar 4.

Masukkan air sesuai dengan larutan yang akan kita buat Tambahkan larutan asam sulfate sesuai dg komposisi yg telah ditentukan Tambahkan additive 14 – 18gr Pasangkan katoda dengan menggunakan logam inert Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 11 of 10 .CARA MELARUTKAN LARUTAN ANODISASI Siapkan gelas ukur sesuai dengan ukuran larutan yang akan kita buat. Siapkan larutan asam sulfate 20% dari larutan yang akan di buat. Siapkan additive (Asam Oksalat) 14 – 18 gr/lt.

Sign up to vote on this title
UsefulNot useful