P. 1
34108769-Pelapisan-Logam

34108769-Pelapisan-Logam

|Views: 77|Likes:
Published by Amalia Rizka

More info:

Published by: Amalia Rizka on May 31, 2012
Copyright:Attribution Non-commercial

Availability:

Read on Scribd mobile: iPhone, iPad and Android.
download as PDF, TXT or read online from Scribd
See more
See less

03/23/2013

pdf

text

original

Applied Electroplating

21 Juli 2009

UNIT 1 DASAR-DASAR PROSES ELEKTROPLATING

Dasar-dasar Proses Elektroplating

Page 1 of 20

I.

PENDAHULUAN Jika suatu logam dipajang (expose) kelingkungannya maka akan terjadi

interaksi antara logam dengan lingkungan. Berdasarkan teori, mekanisme interaksi akan melibatkan pertukaran ion antara permukaan logam dengan lingkunyannya. Karakteristik pertukaran ion sangat dipacu antara lain oleh adanya perbedaan potensial diantara keduanya. Hasil dari adanya pertukaran ion terhadap logam yang dipajang adalah timbulnya kerusakan pada logam serta terbentuknya produk korosi. Jadi konsep yang sangat mendasar dalam rangka melindungi logam adalah mengupayakan agar tidak terjadi pertukaran ion antara logam dengan lingkungannya. Kalaupun tidak bisa memutus sama sekali pertukaran ion tersebut, diupayakan agar pertukaran ion berlangsung dengan laju yang relatif rendah. Berdasarkan kriteria ini maka muncullah pengertian pengendalian, artinya pertukaran ion yang terjadi dikendalikan lajunya agar tidak berlangsung terlalu cepat. Upaya pengendalian yang lazim diterapkan dalam rangka perlindungan terhadap logam yang digunakan adalah sebagai berikut :       Pemilihan material/logam yang tepat Perancangan/design konstruksi yang memadai (appropriate) Penambahan Inhibitor Penerapan Pelapisan (Coating) Penerapan system Proteksi Katodik dan Anodik Pengkondisian lingkungan

Metoda perlindungan logam yang banyak digunakan dan paling mudah dilakukan serta dari aspek biaya lebih murah adalah penerapan pelapisan. Perlindungan terhadap logam dengan cara menerapkan pelapisan pada hakekatnya adalah melindungi logam dari lingkungan sehingga pertukaran ion antara permukaan logam dengan sekeliling lingkungan dapat dikendalikan. Sistem perlindungan yang memisahkan kontak antara logam dan lingkungan sangat banyak dijumpai. Lapisan pemisah ini dapat digolonbgkan sebagai berikut : Lapisan hasil reaksi kimia atau elektrokimia pada permukaan logam . Lapisan anorganik : cat, resin, plastik, karet dan lain sebaginya. Lapisan organik : enamel, semen dan lain sebagainya. Lapisan logam : logam murni, logam paduan. Page 2 of 20

Dasar-dasar Proses Elektroplating

 Hanya bisa dilakukan dibengkel ( harus ada listrik). Untuk itu diperlukan/digunakan arus listrik searah (direct current) dan tegangan yang konstan/tetap.  Terbatas dengan bahan yang bersifat konduktor.Proses pelapisan logam sendiri dapat diklasifikasikan sebagai berikut : Secara Pelelehan ( celup panas/hot dip) Secara Endap Vakum Secara Sherardizing Secara Rich Coating Secara Listrik (Electroplating) Bila dibandingkan dengan proses-proses pelapisan logam dengan cara lain. Selama proses pengendapan/deposit berlangsung terjadi reaksi kimia pada elektroda dan elektrolit baik reaksi reduksi maupun reaksi oksidasi dan diharapkan berlangsung terus menerus menuju arah tertentu secara tetap. Endapan yang terjadi bersifat adhesive terhadap logam dasar. Dengan adanya kemajuan teknologi lapis listrik. proses lapis listrik mempunyai beberapa keuntungan dan kelemahan : . Terjadinya sutau endapan pada proses ini adalah karena adanya ion-ion bermuatan listrik berpindah dari suatu elektroda melelui elektrolit yang mana hasil dari elektrolisa tersebut akan mengendap pada elektroda lain (katoda). tidak bisa dilakukan .Kelemahan :  Adanya keterbatasan dalam usuran lapisan dan desain dari benda kerja yang dilapangan.Keuntungan :  Suhu/temperatur operasi rendah yaitu berkisar 60 – 700C  Ketebalan lapisan mudah dikendalikan  Permukaan halus dan mengkilap  Hemat dalam pemakaian logam pelapis . PENGERTIAN PROSES LAPIS LISTRIK (ELECTROPLATING) Lapis listrik (electroplating) adalah suatu proses pengendapan zat (ion-ion logam) pada elektroda (katoda) dengan cara elektrolisa. II. kelemahan-kelemahan diatas dapat diatasi yaitu dengan cara lapis listrik selektif dan proses electroless. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 3 of 20 akan dilapis.

Prinsip dasar dari proses lapis listrik adalah berpedoman atau berdasarkan HUKUM FARADAY yang menyatakan : Jumlah zat-zat (unsur-unsur) yang terbentuk dan terbebas pada elektroda selama elektrolisa sebanding dengan jumlah arus listrik yang mengalir dalam larutan elektrolit. 1 F = 96. Jumlah zat-zat (unsur-unsur) yang dihasilkan oleh arus listrik yang sama selama elektrolisa adalah sebanding dengan berat ekivalen masing-masing zat tersebut. Pernyataan tersebut diatas dapat ditulis dengan rumus sebagai berikut : B Keterangan : I t e F B = Berat zat yang terbentuk (gram) I t = Jumlah arus yang mengalir (Ampere) = Waktu (detik) valensi unsur tersebut) F = Jumlah arus yang diperlukan untuk membebaskan sejumlah gram ekivalen suatu zat. Hukum Faraday sangat erat kaitannya dengan efisiensi arus yang terjadi pada proses pelapisan secara listrik. Effisiensi arus adalah perbandingan berat endapan yang terjadi dengan berat endapan secara teoritis dan dinyatakan dalam persen (%).500 Coloumb yaitu jumlah arus listrik yang diperlukan untuk membebaskan 1 grek suatu zat. Bila diatas dijelaskan bahwa tegangan/arus dalam proses lapis listrik diinginkan dalam kondisi yang konstan. e = Berat ekivalen zat yang dibebaskan (berat atom suatu unsur dibagi I V R Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 4 of 20 . maksud dari pernyataan tersebut adalah tegangan tidak akan berubah/terpengaruh oleh besar kecilnya Ampere.

maka yang divariabelkan hanyalah tahanannya saja. . karena jelas perbedaan satu sama lainnya. Istilah-istilah dalam lapis listrik antara lain : .Katoda ( cathhode) Elektorda negatif yang padanya terjadi pelepasan ion Negatif dan membentuk ion negatif (reaksi reduksi). dalam pelapisan secara listrik (electroplating) banyak istilah-istilah yang digunakan dan perlu diketahui. sedangakan voltagenya tetap. sehingga dalam pnerapannya/prakteknya tidak akan menemui kesulitan. .Ion Zat-zat yang terurai yang mana atom atau molekul-molekulnya bermuatan listrik negatif dan negatif. .Keterangan : I = Banyaknya arus (Ampere) V = Tegangan (Volt) R = Tahanan Sehingga untuk memvariabelkan ampere. III.Anoda (Anode) Elektroda negatif yang padanya terjadi pelepasan ion negatif dan membentuk ion negatif (reaksi oksidasi).Lepuh (blister) Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 5 of 20 .Elektrolit Zat-zat yang molekul-molekulnya dapat larut dalam air dan terurai menjadi zat-zat (atom-atom) yang bermuatan negatif dan negatif.Lumpur anoda Sisa zat yang tidak larut dihasilkan dianoda dan mengotorinya. . Zat yang bermatan negatif disebut anion (ion negatif) dan yang bermuatan Negatif disebut kation (ion negatif). ISTILAH-ISTILAH DALAM PROSES LAPIS LISTRIK Seperti pada proses-proses metal finishing lainnya. . .Electroda Suatu terminal dalam larutan elektrolit yang mana aliran listriknya mengalir ke dan darinya.

Cuci asam (Pickling) Suatu cara menghilangkan karat (korosi) pada benda kerja dengan larutan asam. . . . . .Polarisasi anodic (Anodic Polarization) Penggeseran potensial elektroda katodik akibat adanya aliran listrik.pH Derajat keasaman suatu asam dalam larutan yang merupakan logaritma dari konsentrasi asam dengan tanda negatif.Pengaktifan (Activation) Pembersihan dari keadaan pasif.Cuci lemak (Degreasing) Pembersihan permukaan logam dari lemak. .Efisiensi arus (Current Efficiency) Perbandingan antara jumlah teoritis arus listrik yang akan terpakai dengan jumlah arus listrik yang sebenarnya terpakai. . . .Polarisasi katodik (Cathodic Polarization) Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 6 of 20 .Stop of material Suatu bahan yang berfungsi menutupi hasil pelapisan.Kerapuhan hidrogen (Hydrogen Embritlement) Suatu kegetasan pada benda kerja akibat penyerapan gas hidrogen pada proses pencucian dan pelapisan.Pembengkakan pada bagian tertentu dari hasilpelapisan karena daya lekat (adhesif) lapisan yang kurang baik.Bahan pengkilat (Brightener) Zat tambahan yang bersifat membentuk lapisan agar lebih mengkilap atau yang memperbaiki kecemerlangan diatas endapan/lapisan. .Inhibitor Bahan yang dapat mengurangi pemakanan atau pengrusakan oleh asam pada benda kerja. minyak atau zat organik lainnya dengan larutan alkalin.Rapat arus (Current Density) Jumlah arus yang mengalir perluas unit elektroda. . . pada permukaan logam agar menjadi lebih aktif.

. Covering power tergantung pada proses persiapan permukaan dan kondisi dari proses lapis listriknya sendiri. . . Faktor yang mempengaruhi macro throwing power adalah distribusi arus. . bertujuan untu merubah bahan menjadi konduktif.Zat aktif permukaan (Surface active agent/Surfactant) Zat kimia yang dimasukkan kedalam larutan sebagai zat pengaktip permukaan.Penggeseran potensial elektroda kearah anodic akibat adanya aliran listrik.Covering power Kemampuan suatu elektrolit untuk mengendapkan logam keseluruh permukaan katoda yang bagimanapun bentuknya. kebutuhan diperlukan untuk mengubah larutan pelapis menjadi seperti logam yang termasuk garam Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 7 of 20 . .Free cyanide Banyak cyanide yang melebihi daripada cyanide kompleks. . Difusi ion logam merupakan hal yang terpenting bagi micro throwing power. . efisiensi arus dan konduktivtas. kondisi operasi.Macro throwing power Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan endapan yang kurang lebih sama tebalnya pada benda kerja yang tidak beraturan bentuknya.Pembilasan (Rinsing) Suatu busaha pencucian atau penetralan permukaan benda kerja dari asam atau alkali dengan air bersih.Throwing power Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan lapisan yang sama tebalnya pada benda kerja yang rumit atau biasa.Proses elektroles (Electroless Plating) Pengendapan lapisan logam secara reaksi reduksi tanpa listrik.Micro throwing power Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan endapan/lapisan yang sama tebalnya pada setiap titik permukaan benda kerja. .

. PRINSIP KERJA LAPIS LISTRIK Pada prinsipnya pelapisan logam dengan cara lapis listrik adalah merupakan rangkaian dari : arus listrik. Keempat gugusan ini disusun sedemikian rupa. larutan elektrolit dan katoda (benda kerja)..Solvent cleaning Suatu cara pembersihan gemuk. Bila arus listrik (potensial) searah dialirkan antara kedua elektroda anoda dan katoda dalam larutan elektrolit. maka muatan ion negatif ditarik oleh elektoda katoda. Sementara ion bermuatan negatif berpindah kearah elektroda bermuatan negatif. Ion-ion tersebut dinetralisir oleh kedua elektroda dan larutan elektrolit yang hasilnya diendapkan pada elektroda katoda. Untuk lebih jelasnya rangkaian dan prinsip kerja proses lapis listrik dapa dilihat pada gambar 1 dan 2 berikut ini: Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 8 of 20 . sehingga membentuk suatu sistim lapis listrik dengan rangkaian sebagai berikut : Anoda dihubungkan dengan kutub positip dari sumber listrik.Chromat process (Chromating) Teknik pengerjaan lapis lindung yang dilakuka secra kimia dengan mencelupkan benda kerja yang sudah dilapisi seng kedalam larutan encer yang terdiri dari chromat atau bichromat sebagai bahan utama. .Levelling Kemampuan untuk menghasilkan lapisan yang lebih tebal pada lekukan dari pada permukaan yang rata. anoda. IV. Katoda dihubungkan pada kutub negatif dari sumber listrik. Anoda dan Katoda direndamkan dalam larutan elektrolit. lemak dengan menggunakan bahan organik (pelarut organik). Hasil yang terbentuk/terjadi adalah lapisan logam dan gas hidrogen.

ion-ion tembaga (Cu2+) akan terbawa kemudian mengendap pada permukaan katoda (pelat baja) dan berubah menjadi atomatom tembaga. Melalui larutan elektrolit. Oleh karena pada anoda dan katoda terjadi perbedaan potensial setelah dialiri listrik. maka logam tembaga akan terurai didalam larutan elektrolit yang juga mengandung ion-ion tembaga.Gambar 1. Larutan yang digunakan adalah garam cupper sulfat (CuSO4). Rangkaian proses lapis listrik Sebagai contoh misalkan pelat baja yang akan dilapis dengan tembaga/cupper (Cu). Gambar 2. Prinsip kerja proses lapis listrik Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 9 of 20 .

basa dan garam logam yang dapat membentuk muatan ion-ion negatif dan ion-on negatif. LARUTAN ELEKTROLIT Telah diuraikan diatas bahwa suatu proses lapis listrik memerlukan larutan elektrolit sebagai media proses berlangsung. V. Larutan elektrolit dapat dibuat dari larutan asam. larutan elektrolitnya berbeda-bea Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 10 of 20 . Tiap jenis pelapisan. Reaksi yang terjadi sewaktu pelapisan.Di sini terjadi reaksi reduksi ion tembaga menjadi logam tembaga sebagai berikut : CuSO4 ↔ Cu 2+ + SO42H2O ↔ H+ Cu2+ + + OH2 e ↔ Cu↓ terjadinya reaksi tersebut sewaktu proses pelapisan Fenomena berlangsung dan dapat dilihat pada gambar 3 berikut ini: Katoda (-) CuSO4 Anoda (+) Cu++ Cu H + ++ Cu++ Cu++ Cu + SO4 SO4 Cu H+ H 2O H + OH- Cu++ H2 (Gas) H + + OH - O2 (Gas) Gambar 3.

Menaikkan koefisien difusi dari ion logamnya atau menaikkan batas rapat arus (limiting current density).tergantung pada sifat-sifat elektrolit yang diinginkan. throwing power dan levelling ” yang baik. Beberapa bahan/zat kimia sengaja dimasukkan/ditambahkan kedalam larutan elektrolit bertujuan untuk mendapatkan sifat-sifat lapisan tertentu. Kemampuan/aktivitas dariion logam ditentukan oleh konsentrasi dri garam logamnya. Walau anion tidak ikut langsung dalam proses terbentuknya lapisan. Selain itu. Fungsi natrium hydroksida dan kalsium hydroksida pada larutan yang brsifat basa adalah untu memperbaiki konduktivitas dan mencegah leberasi dari asam hydrocyanat oleh karbon dioksida (CO2) yang masuk kedalam larutan dari udara. karena cyanid komplek terekomposisi oleh asam. SifatDasar-dasar Proses Elektroplating Page 11 of 20 . tetapi anionnya tidak mudah tereduksi. Sebagai contoh pelapisan tembaga. larutan elektrolit harus mempunyai sifat-sifat seperti ”Covering power. larutn yang dipAkai dibuat dari garam logam cupper sulfat (CuSO4) dan H2O yang akan terurai seperti berikut : CuSO4 ↔ Cu 2+ + SO42H2O ↔ H+ + OH- Oleh karena larutan elektrolit selalu mengandung garam dari logam yang akan dilapis. derajat disosiasi dan konsentrasi unsur-unsur lain yang ada didalam larutan. Garam-garam tersebut sebaiknya dipilih yang mudah larut. akan terjadi endapan/lapisan yang terbakar pada rapat arus yang relatip rendah. Sedangkan larutan yang bersifat basa (alkali) yang banyak digunakan pada proses lapis listrik adalah garam komplek cyanida. Bila konsentrasi logamnya tidak mencukupi untuk diendapkan. tapi jika menempel pada permukaan katoda akan menimbulkan gangguan bagi terbentuknya microstructur lapisan. Adanya ion klorida dalam larutan yang bersifat asam berfungsi : Mempercepat terkorosi/terkikisnya anoda atau mencegah pasipasi anoda.

misalnya pada larutan nickel digunakan asam borat dan sodium hydroksida pada larutan yang bersifat basa. kekerasan (hardness) dan struktur mikro lapisan yang terjadi (microstructur). ANODA Pada proses pelapisan secara listrik. Untuk mengatur pH. Dengan perhitungan/pertimbangan yang cermat dalam menentukan anoda pada proses pelapisan dapat memberikan keuntungan yaitu meningkatkan distribusi endapan. selanjutnya ion logam tersebut dan gas hydrogen diendapkan pada elerktroda katoda. Pengaruh kemurnian/kebersihan anoda terhadap elektrolit dan penentuan optimalisasi ukuran serta bentuk anoda perlu dipikirkan/diperhatikan. maka pada anoda akan terjadi pelepasan ion logam dan oksigen (reduksi).sifat tersebut antara lain tampak rupa (appearance). Ion logam direduksi kembali secara kontinyu dalam atom logam. Dari anoda terlarut akan terbentuk ion logam sewaktu atom logam dioksidasi dan melepaskan elektron-elektron yang sebanding dengan elektronelektron dari katoda. Tujuan dipakainya anoda tidak larut adalah untuk: Mencegah terbentuknya logam yang berlebihan dalam larutan Page 12 of 20 Dasar-dasar Proses Elektroplating . maka ditambah/dimasukkan unsur yang berfungsi sebagai penyangga (buffer/pengatur pH). Anoda tidak larut adalah paduan dari bahan-bahan baja nickel. kegetasan lapisan (brittlness). karbon. peranan anoda sangat penting dalam menghasilkan kualitas lapisan. keuletan (ductility). mengurangi kontaminasi laruitan. Peristiwa ini dikenal sebagai proses pelapisan dengan anoda terlarut (soluble anoda). VI. anoda ini disebut anoda tak larut (unsoluble anoda). Anoda ini diutamakan selain sebagai penghantar yang baik juga tidak mudah terkikis oleh larutan dengan atau tanpa aliran listrik. selanjutnya diendapkan pada katoda. meningkatkan efisiensi produksi dan mengurangi timbulnya masalah-masalah dalam proses pelapisan. tetapi bila anoda tersebut hanya dipakai sebagai penghantar arus saja (conductor of current). paduan timbal-tin. platina-titanium dan lain sebaginya. menurunkan biaya bahan kimia yang dipakai. Adanya arus listrik yang mengalir melalui larutan elektrolit diantara kedua elektroda.

Hal ini dikarenakan harga anoda terlarut 2-4 kali lebih murah dibandingkan harga jumlah logam equivalen yang diserap/diambil dari larutan garam logam. Bagi industri pelapisan. Spesifikasi kemurnian anoda yang disarankan dapat dilihat pada tabel berikut ini: Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 13 of 20 .- Mengurangi nilai investasi peralatan Menghindari dari kehilangan Kerugian penggunaan anoda tidak larut adalah cenderung teroksidasinya unsur-unsur tertentu dari anoda tersebut kedalam larutan. Pada proses lapis listrik yang umum dipakai perbandingan anida dengan katoda adalah 2 : 1. anoda tidak larut kurang bagitu disenangi. Pengotor dalam anoda juga dapat menyebabkan terjadi pasivasi dan mengurangi effisiensi anoda secara drastis. Kemurnian anoda terlarut dapat meningkatkan effisiensi anoda. Oleh karena itu anoda jenis ini tidak bisa digunakan dfalam larutan yang mengandung bahan-bahan organik (organic agent) atau cyanid. maka usahakan penggunaan anoda yang semurni mungkin. tetapi rapat arus yang tinggi pada saat pelapisan berlangsung akan menyebabkan pasivasi pada anoda. Beberapa kriteria yang perlu diperhatikan dalam memilih anoda terlarut antara lain adalah: Effisiensi anoda yang akan dipakai Jenis larutan elektrolit Kemurnian bahan anoda Bentuk anoda Rapat dan kapasitas arus yang disuplay Cara pembuatan anoda Effisiensi anoda akan turun/berkurang akibat adanya logam pengotor (metallic impurities) dan kekasaran butiran yang terdapat dalam larutan. sehingga perlu diperhitungkan besarnya rapat arus terhadap luas permukaan anoda. mereka lebih menyukai memakai anoda terlarut. karena kontaminasi anoda adalah penyebab/sumber utama pengotor. Garam logam sering ditambahkan dalam larutan bertujuan untuk menjaga kestabilan komposisi larutan dari pengaruh unsur-unsur yang larut dari anoda tidak larut.

Pb.93 99. kubus dan palet biasanya digunakan dengan memakai keranjang yang berfungsi sebagai tempat penampung anoda.Sn. Bentuk-bentuk anoda.92 99. Fe. Pb. 7. 8. Zn Ag. 1. As. Cu. Anoda Cadmium Copper Lead Alloy Nickel Tin Tin – Lead Silver Zinc Kemurnian (%) 99. 3. Cd Ag. Si. Sb. S.palet lempengan dan kubus. Cd. ada yang berbentuk balok. Zn Bi. Sb.97 99. Bi. sehingga dapat mengasilkan lapisan yang seragam dan rata. Fe. Fe. Zn Cu. 5. S. Jarak dan luas permukaan anoda di atur sedemikian rupa. Anoda dan gantunganya dapat menyupley arus dengan sempurna tanpa menimbulkan panas yang berlebihan. Bi. Ti dan Zn Ag. Cu. Cu. Cd. Sn. As. Pb. Fe. Zn Ag.98 99.92 99. Pb.95 99. Pb.98 Unsur-Unsur Pengotor Ag. Cd. Fe. Cu. Sb Ag.bulat. 6. 2. Untuk bentuk bulat. Cu. Fe.Tabel 1 Spesifikasi anoda terlarut No. As. 4. Rapat arus anoda usahakan dalam range yang dikehendaki agar mudah di kendalikan. sedangkan ukiuran sesuai dengan bentuk anoda tersebut.Bentuk=bentuk anoda dapat dilihat pada gambar 4. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 14 of 20 . Sn Sedapat mungkin menggunakan anoda sesuai bentuk yang akan di lapis. Cd. Gambar 4. S.95 99. Bentuk-bentuk anoda terdiri dari beberapa macam.

pencucian. sulfat. Pada proses pelapisan air yang digunakan harus berkualitas baik. sehingga akan mempercepat kejenuhan larutan. karena mudah bereaksi dengan cadnium cyanid. AIR Pada industri pelapisan secara listrik. chlorid dan nitrat. analisa larutan dan pembuatan larutan penambah . noda-noda hitam (staining). jika tercampur dengan ion-ion dalam larutan akan menyebabkan turunya efisiensi endapan/lapisan. Tetapi akan menghasilkan lapisan lapisan yang getas (brittle). Biasanya penggunaan air pada proses lapis listrik di kelompokan dalam empat macam yaitu : air untuk pembuatan larutan elektrolit air untuk menambah larutan elektrolit yang menguap air untuk pembilasan dan air untuk proses pendingin Dari fungsi air tersebut dapat ditentukan kualitas air yang dibutuhkan untuk suatu proses.VII. cupper cyanid. Umumnya unsur-unsur yang terdapat dalam air adalah kandungan dari garam-garam seperti bicarbonat. porous. proses etsa (etching) dan pendingin. Unsur-unsur garam lokal alkali (sodium/potasium) tidak begitu mempengaruhi konsentrasi larutan sewaktu operasi pelapisan berlangsung. Air suling (aquadest) dengan ukuran spesifikasi konduktifitasnya tidak melebihi dari 50 microhos. siler cyanid dan senyawa-senyawa lainya. Air ledeng/kota yang masih mengandung anion dan kation. Kecuali pada larutan lapis nikel. warna yang suram (iridensceat) atau Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 15 of 20 . gores (streakness). Adanya logam-logam berat seperti besi dan mangan sebagai pengotor menimbulkan cacat-cacat antara lainkekasaran ( roughness). bisa di pakai pengganti aqua DM. Unsur-unsur yang tidak diinginkan dalam larutan adalah unsur kalsium dan magnesium. Karena akan menaikan arus listrik (throwing power). Sedangkan air bebas mineral (aquadest DM) di pakai khusus ubtuk pembuatan larutan. air merupakan salah satu unsur pokok yang selalu harus tersedia. Air ledeng/kota di pakai untuk proses pembilasan.

kulit. Prinsipnya sama seperti proses gerindra.2. laken dan sebagainya. tetapi secara umum dapat diklasifikasikan sebagai berikut: 8. Pembersihan secara mekanik: Pekerjaan benda kerja. ini betujuan untuk menghaluskan permukaan dan menghilangkan goresan-goresan serta geram-geram yang masih melekat pada Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 16 of 20 . Untuk itu maka diperlukan air murni (reagent water) untuk membuat larutan dan menggantikan larutan yang menguap. permukaan benda kerja yang akan di lapis harus dalam kondisi benar-benar bersih. Selain dari pengerjaan seperti tersebut diatas. VIII PROSES LAPIS LISTRIK Secara garis besarnya proses lapis listrik dapat di kelompokan dalam tiga tahap pengerjaan yaitu: 8. anorganik / oksida dan lain-lainya.mengkristal. Proses pengerjaan persiapan/tahap pendahuluan (pre treatment) Sebelum lapis listrik dilakukan. Mendapatkan kondisi fisik permukaan yang lebih baik dan lebih aktif. Untuk mendapatkan kondisi seperti tersebut perlu di lakukan pengerjaan pendahuluan dengan tujuan: Menghilangkan semua pengotor yang ada di permukaan benda kerja seperti pengotor organik. brigthening dan lain sebagainya. bebas dari bermacam-macam pengotor. Biasanya untuk menghilangkan goresan-goresan dan geram-geram tersebut dilakukan dengan mesin gerindra. Hal ini mutlak agar bisa di dapat hasil lapisan dengan cara listrik yang baik. sedangkan untuk menghaluskan permukaannya dilakukan dengan proses buffing. tetapi roda/wheel polesnya yang berbeda yaitu terbuat dari bahan katun. kadang-kadang diperlukan proses lain misalnya brushing. Teknik pengerjaan pendahuluan ini tergantung dari pengotoran.1. modular dan keropos.

Pencucian dengan alkalin digolongkan dalam dua cara yaitu dengan cara biasa (alkalin degreasing) dan dengan cara electro (electrolitic degreasing).4. minyak. Pembersihan secara biasa hádala meredamkan benda kerja dalam larutan alkalin dalam keadaan panas selama 5-10 menit. Prinsipnya benda kerja diuapkan dengan pelarut tersebut dalam keadaan panas. Lamanya perendaman harus disesuaikan dengan kondisi permukaan benda kerja. karena mengurangi kontak antara lapisan dengan logam dasar/benda kerja.3. garam dan kotoran-kotoran lainnya dengan pelarut organik. Pembersihan/pencucian dengan pelarut (solvent): Proses ini bertujuan untuk membersihkan lemak. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 17 of 20 .8. Bila benda kerja yang akan dibersihkan ditempatkan pada arus listrik negatif. tetapi dilakukan pada temperatur kamar dengan cara diusap/dipoles. Pembersihan ini perlu sekali. Pembersihan secara electro bertujuan selain akan didapatkan hasil pembersihan yang lebih bersih juga meningkatkan kecepatan pencucian.  Proses pembersihan pada temperatur kamar yaitu dengan menggunakan pelarut organik. maka prosesnya disebut anoda cleaning/degreasing. Pembersihan dilakukan dengan cara:  Vapour degreasing yaitu proses pembersihan dengan pelarut yang tidak mudah terbakar. Pembersihan/pencucian dengan alkalin (Degreasing): Pekerjaan ini bertujuan untuk membersihkan benda kerja dari lemak atau minyak-minyak yang menempel. Seandainya lemak atau minyak yang menempel lebih banyak. 8. maka dianjurkan lamanya perendaman ditambah hinga permukaan bersih dari noda-noda tersebut. begitu pula sebaliknya. Prinsip kerjanya dengan menggunakan arus listrik dan katoda dipakai dengan lempengan carbon. karena lemak maupun minyak tersebut akan mengganggu pada proses pelapisan. kemudian kotoran akan mengembun/menguap karena adanya reaksi dari bahan pelarut.

aldehyde dan sebagainya. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 18 of 20 . Larutan asam ini terbuat dari pencampuran air bersih dengan asam antara lain: Asam chlorid (HCl) Asam sulfat (H2SO4) Asam sulfat dan asam fluorid ( HF) Reaksi proses pickling sebetulnya adalah proses electro kimia dalam sel galvanis antara logam dasar (anoda) dan oksida (katoda). pyridine. asfaltum. Ada dua jenis bahan inhibitor yang dikenal yaitu: Bahan organik alam (natural organic) yaitu glatine.8. sebab larutan tersebut dapat berfungsi selain untuk menghilangkan oksida/serpih juga dapat membersihkan sisa-sisa pasir yang menempel pada benda kerja. Dalam reaksi ini biasanya diberikan inhibitor agar reaksi tidak terlalu cepat dan menghasilkan pembersihan yang merata.5. Adapun keuntungan menggunakan larutan asam chlorid adalah : Menghasilkan keseragaman permukaan benda kerja Mudah dibilas Terjadinya over pickling lebih kecil Operasinya lebih mudah Ongkos lebih rendah Pencemar bau rendah/kecil Keuntungan menggunakan asam sulfat yaitu: Untuk barang/benda kerja dari besi/baja cor yang maíz mengandung sisasisa pasir dapat digunakan larutan campuran dari asam sulfat dan asam fluorid. coaltar. sulfonate. Gas H2 yang timbul dapat mereduksi ferri oksida yang mudah larut. Woodtar dan sebagainya. quinidine. lumpur minyak. Pencucian dengan asam (pickling): Pencucian dengan asam bertujuan untuk membersihkan permukaan benda kerja dari oksida atau karat dan sejenisnya secara kimia melalui perendaman. Bahan organik sintetis (synthetic organic) yaitu thio aldehyd.

Dalam operasi pelapisan. Skematis rangkaian proses pelapisan. Gambar 5. kondisi operasi perlu/penting sekali untuk diperhatikan.Terbagi dalam 2 macam yaitu rapat arus yang di perhitungkan ialah rapat arus katoda yaitu banyakna arus listrik yang di perlukan untuk mendapatkan atom-atom logam pada tiap satuan luas benda yang akan di lapis. Karena kondisi tersebut menentukan berhasil atau tidaknya proses pelapisan serta mutu pelapisan yang dihasilkan. Rangkaian sistem pelapisan dapat dilihat seperti yang digambarkan pada gambar 5. Kondisi operasi yang perlu di perhatikan tersebut antara lain: 9.IX.1. Proses lapis listrik Setelah benda kerja betul-betul bebas dari pengotor. maka benda kerja tersebut sudah siap untuk dilapis. Rapat arus (current density): Rapat arus adalah bilangan yang menyatakan jumlah arus listrik yang mengalir perluas unit elektroda. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 19 of 20 .

Bila temperatur larutan pada pelapisan chromium decorative lebih rendah dari 45 C rapat arus sama (20 A/Dm2). pH berarti juga pOH-.Biasanya tegangan yang digunakan pada operasi lapis listrik adalah 6-12 volt.6 A/dm2. Sebagai contoh dari pengaruh temperatur terhadap lapisan dapat dijelaskan sebagai berikut. Kenaikan temperatur larutan menyebabkan bertambahnya ukuran kristal. tegangan yang digunakan harus konstan sehingga yang di variablekan hanyalah ampere saja. Pada temperatur yang tingi.3. tetapi hasil lapisan tampak suram juga. makin tinggi raat arus. bersisik dan akan terbakar/hitam. Sebagai contoh pada pelapisan tembaga. tetapi viscositas jadi berkurang. Maksudnya adalah bila Luas Permukaan benda kerja bervariasi.2. tetapi tegangan tetap 6 volt.4.Rapat arus dapat di atur . 9.Tetapi bila rapat arus terlalu tinggi akan mengekibatkan lapisan kasar. Hal ini dikarenakan lapisan terbakar.Tujuan menentukan derajat keasaman ini adalah untuk melihat atau mengecek kemampuan dari larutan dalam menghasilkan lapisan yang lebih baik. maka rapat aruslah yang di variasikan sesuai dengan ketentuan. pH larutan dapat diatur /diukur dengan alat ukur pH meter atau colorimeter. Umumnya untuk larutan yang Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 20 of 20 . voltage 6 volt. 9. makin meningkat kecepatan pelapisan dan dapat memperkecil ukuran/bentuk kristal. daya larut bertambah besar dan terjadi: penguraian garam loga yang menjadikan tingginya konduktifitas serta menambah mobilitas ion logam. pH Larutan: pH di pakai untuk menentukan derajat keasaman suatu larutan elektrolit dan dalam operasi lapis listrik.sedangkan voltagenya tetap. sedangkan luas benda yang akan dilapisi 10 dm2 maka rapat arus adalah 36 A/dm2. rapat arus ditentukan 3. Temperatur/Suhu larutan: Temperatur larutan dapat mempengaruhi hasil lapisan. sehingga endapan ion logam pada katoda akan lebih cepat sirkulasinya. Satuan arus dinyatakan dalam Amp/dm2 atau Amp/ft2 atau Amp/in2. 9. Tegangan arus (Voltage): Seperti di jelaskan sebelumnya bahwa pada proses lapis listrik.

sedangkan untuk larutan asam. tetapi untuk apis lindung dengan lacquar biasa secara electro dan dipping.5.5-5. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 21 of 20 . Proses pengerjaan akhir ( Post Treatment) Benda kerja yang telah dilakukan proses lapis listrik biasanya di bilas dan di keringkan.bersifat basa/alkali.6. 9. digunakan sodium atau potassium hydroksida dan atau asam sulfat untuk larutan yang bersifat asam. Proses ini dilakukan dengan cara dipping biasa. Tetapi kadang-kadang perlu juga dilakukan pengerjaan lanjut seperti misalnya dipasipkan atau di beri lapis pelindung chromat (chromatting) atau lapis lindung transparan yaitu dengan Iaquar. pH-nya berkisar 4. Untuk mengatur nilai pH sesuai dengan yang diinginkan.derajat keasaman (pH) nya berkisar antara 11-14.

UNIT 2 PERALATAN PROSES ELEKTROPLATING Peralatan Proses Elektroplating Page 1 of 9 .

1 Rectifier untuk proses elektroplating. tetapi oleh adanya panas yang berlebihan. Peralatan Proses Elektroplating Page 2 of 9 .1 Peralatan Utama Peralatan utama yang diperlukan pada proses lapis listrik (elektroplating) yaitu: 2.1 Rectifier Merupakan salah satu peralatan utama dalam proses elektroplating. maka rectifier perlu dilengkapi dengan pendingin berupa: Konveksi udara biasa Konveksi udara dengan menggunakan tenaga blower Menggunakan sirkulasi oli Menggunakan sirkulasi air Menggunakan air dan udara Rectifier dapat dioperasikan terus menerus pada kapasitas yang maksimal bila panas yang terjadi tidak berlebihan. 9.2. Untuk mengurangi panas yang berlebihan. Dalam hal operasi dan pemeliharaannya perlu diperhatikan antara lain: Gambar 2. Output tegangan yang keluar: 6. karena rusaknya rectifier ini bukan disebabkan oleh arus listrik yang terjadi. peralatan ini berfungsi sebagai sumber arus searah (DC). Faktor yang dapat merusakkan rectifier antara lain korosi dan macetnya komponen listriknya (korsluiting.1. putus dan lain sebagainya). 12 volt dan jumlah arus (ampere) relatif rendah yaitu sampai 3000 ampere.

Jenis bahan bak dan pelapisnya untuk setiap jenis larutan yang akan ditampung dapat dilihat pada tabel 2.2 Bak Larutan Bak larutan merupakan salah satu peralatan utama yang berfungsi untuk menampung larutan elektrolit. bibir bak. Tahan terhadap suhu/temperatur larutan.2. Bak Larutan. penguat dan dasar bak. Untuk memenuhi persyaratan tersebut diatas.1. Tidak mencemari larutan yang ditampungnya.2. terkadang bak tersebut harus dilapis. maka dalam merancang suatu bak (Gambar 2. larutan pencuci. Bahan bak tergantung dari jenis dan kondisi larutan yang ditampungnya dengan persyaratan sebagai berikut: Tahan terhadap korosi yang ditimbulkan oleh larutan. Peralatan Proses Elektroplating Page 3 of 9 . maka hal lain yang juga diperhatikan adalah dudukan bak. dan air pembilas. sehingga kemungkinan kerusakkan sebagai akibat basahnya lantai dapat dikurangi. Dudukan bak diperlukan agar bak terdukung lebih kuat dan tidak adanya kontak langsung dengan lantai.2). Selain memperhatikan bahan bak. Gambar 2. Setelah ditentukan jenis bahan bak dan pelapis serta bentuk dan ukurannya.1. perlu diperhatikan konsrtuksi bak yang dikaitkan dengan bentuk dan ukuran benda kerja yang akan dilapis.

Jenis Larutan Kuningan Kadmium (asam) Kadmium (alkalin) Chromium Tembaga (asam) Tembaga (alkalin) Emas (asam) Emas (alkalin) Timbal (asam) Nikel Perak Timah (asam) Timah (alkalin) Seng (asam) Seng (alkalin) Anodizing (asam chromium) Anodizing (asam sulfat) Pelat Baja Stainless S TD TD TD TD TD TD S TD TD TD TD TD TD TD TD TD Pelat Baja B TD B TD TD B TD TD TD TD TD TD B TD B B TD Pelat Baja Lapis Karet S B TD TD B TD TD TD B B B B TD B S TD S Pelat Baja Lapis Plastik B B B B B S B B B B B B TD B B TD S Pelat Baja Lapis Timbal TD TD TD B S TD TD TD TD TD TD TD TD TD TD TD B Pelat Baja Lapis Bata Tahan Asam TD S TD S S TD TD TD S TD TD S TD S TD S S Bahan Plastik B B B S B S B B S B B B TD B S TD S Plastik Fiber Glass S S S S B B S S S S S S TD S TD TD S Bahan Keramik S S TD TD S TD S S TD TD S S TD S TD TD S Peralatan Proses Elektroplating Page 4 of 9 .1 Jenis bahan dan pelapis bak larutan.Tabel 2.

3) harus mudah diangkat dari dan ke dalam bak. diusahakan agar tidak menimbulkan gas sekitar bagian yang terbuka. biasanya dasar bak direncanakan miring atau bercelah. sehingga memudahkan pengerjaan proses pembersihan atau pengeringan larutan. Untuk menentukan rapat arus yang akan dialirkan.1 Rak Benda kerja . pembilasan dan proses pelapisannya. maka pada barang akan tampak bekas gantungan. Rak (Gambar 2. Seabagai contoh Peralatan Proses Elektroplating Page 5 of 9 2. hal ini akan menurunan kualitas lapisan.2. 2. Pada bagian yang terendah biasanya dibuat lubang pipa yang dilengkapi denga kran untuk jalan keluar larutan. Panjang rak setelah ditempati benda kerja tidak melebihi 15 cm dari dasar bak. Penguat diperlukan untuk menjaga agar bak tidak bengkak (swelling) akibat tekanan larutan. 12. Dasar bak sebaiknya direncanakan sedemikian rupa. arus terdistribusi dengan baik dan dapat mencegah penumpukkan udara/gas. bentuk dan ukuran serta jenis bahan rak perlu diketahui/dirancang sedemikia rupa. sehingga tidak menimbulkan panas yang berlebihan.2 Peralatan Tambahan Rak benda kerja merupakan salah satu peralatan tambahan yang berfungsi sebagai tempat mengantungkan barang (benda kerja) yang akan dilapis dan sebagai penghantar arus listrik yang diperlukan oleh barang yang akan dilapis. sehingga cukup kuat untuk menahan berat benda kerja serta tidak menimbulkan panas yang berlebihan baik pada benda kerja maupun pada rak itu sendiri. Bentuk kaitan tersebut perlu didesain sedemikian rupa agar kontak listrik sebaik mungkin. Benda kerja pada rak.5 cm dari sisi bak dan harus terendam sekurang-kurangnya 58 cm dari permukaan atas larutan. pelindung rak hal lain yang perlu diperhatikan adalah sistem kaitan gantungan rak pada batang gantungan katoda dan anoda. karena apabila terlalu besar. Setelah bahan rak. penguat bak biasanya dipasang pada bagian pinggang bak dengan bibir bak. setiap sebelum dan setelah selesainya operasi: pembersihan. Ukuran dan jumlah titik kontak antara barang dan rak diusahakan sekecil mungkin.Bibir bak diperlukan untuk menguatkan bak sehingga bagian sisi bak akan lebih kaku dan sebagai tempat dudukan batang penggantu anoda dan katoda (rak atau benda kerja).

4 ditunjukkan rak jenis keranjang. Gambar 2. Peralatan Proses Elektroplating Page 6 of 9 .3 Beberapa jenis rak untuk gantungan benda kerja.3 diperlihatkan bentuk kaitan dan hubungan antara rak dan bendakerja serta pada gambar 2.pada gambar 2.4 Bentuk rak keranjang (basket). Gambar 2.

juga sebagai agitasi larutan dalam usaha menghindari penumpukkan logam pelapis. timbul sebagai akibat adanya kontak antara benda kerja dengan poros barrel yang fleksibel dan antar benda kerja itu sendiri. sehingga dapat mencegah terjadinya penimbunan udara pada daerah benda kerja. Dinding yang berlubang dan dilengkapi dengan pintu dan anoda berada pada bagian dalam silinder barrel. Barrel seperti yang ditunjukkan pada gambar 2.5 Jenis dan bentuk barrel untuk proses pelapisan. Peralatan Proses Elektroplating Page 7 of 9 . dan lain-lain. Barrel dapat diklasifikasikan sebagai berikut: 1. Putaran barrel menyebabkan sirkulasi larutan berjalan dengan sempurna. baut. dan anoda terletak diluar barrel tersebut b. Horizontal Barrel. dengan ketentuan: a. yaitu sebagian dari barrel atau seluruhnya direndamkan dalam bak yang berisi larutan.2. biasanya digunakan untuk proses pelapisan dari barang atau produk-produk yang berukuran kecil misalnya mur.2 Barrel Barrel berfungsi selain sebagai tempat menampung barang akan dilapis.5. Gambar 2. Dinding silinder yang berlubang dan mempunyai pintu yang dapat dilepaskan. Bentuk dan ukuran barrel telah mempunyaistandar tertentu sesuai kapasitas dan ukuran produk (benda kerja) yang akan dilapis. Kontak arus listrik didalam barrel.2.

tergantung pada volume dan jenis larutan. sedangkan anodanya berada pada bagian luar barrel. Peralatan Proses Elektroplating Page 8 of 9 . Media yang biasa digunakan untuk mengalirkan pemanas. pemanasan atau pendinginan larutan elektrolit adalah berfungsi untuk mencapai kondisi operasi yang dipersyaratkan. 2. untuk mencapai hasil lapisan yang diinginkan.6) dapat dilakukan dengan pemanas celup (immersion heater) dan akan efektif bila luas permukaan heater ± 4 cm2. b. sedangkan media pendingin yang biasa digunakan adalah gas atau air.6 Pemanas listrik (heater).2. Pemanasan atau pendinginan dari dalam bak (gambar 2.3 Pemanas (Heater) Dalam proses lapis listrik atau elektroplating. Oblique barrel yang berbentuk tabung silinder dengan posisi 45o. Jumlah pemanasan atau pendingan yang dibutuhkan.2. larutan dan anodanya berada dibagian luar barrel. Sistem pemanasan dan pendinginan dapat dilakukan dengan dua cara yaitu dari dalam bak atau dari luar bak. sedangkan sistim pemanasan dan pendiginan dari luar bak dapat dilakukan dan tidak tergantung pada luas permukaan bak. Gambar 2. air panas dan listrik. Bagian oblique barrel terendam dalam bak dan mempunyai dinding yang berlubang-lubang dengan diameter: 3-5 mm. Oblique Barrel a. yaitu uap air.

Sistim agitasi dapat dilakukan dengan cara disemprot udara atau dengan cara sirkulasi larutan dengan menggunakan pompa ataupun secara mekanik dengan menggunakan propeller. Kriteria yang diperlukan untuk menentukan sistim penyeringan adalah sebagai berikut: 1. Oleh karena itu untuk mendapatkan hasil lapisan yang tebal dan merata.4 Agitator Selama proses pelapisan berlangsung.7) atau dengan cara menggunakan bak penyaring atau bak pembantu. larutan sekitar katoda menjadi kurang pekat (encer). Sumber utama terjadinya kontaminasi dalam larutan adalah berasal dari anoda.2. udara kotor. karena sebagian ion logam terendapkan pada benda kerja sehingga menyebabkan arus listrik akan bergerak ke bagian atas larutan. Jenis dan jumlah tingkat kontaminasi yang hendak dibersihkan. pengotor kimia atau logam serta dari udara agitasi.5 Saringan (Filter) Penyaringan adalah suatu proses pemisahan pengotor padat dalam larutan dengan cara memasukkan bahan kimia melalui suatu media yang dapat menahan lajunya pengotor padat tersebut. 2. 2.2. Peralatan Proses Elektroplating Page 9 of 9 . Pengisian kembali ion-ion logam yang berkurang didekat katoda atau bendakerja. Kejadian ini disebut konveksi natural dan akan menyebabkan ketebalan lapisan menjadi berkurang dan rapat arus menjadi bertambah. debu. 3.2. Laju aatau kecepatan penggantian larutan akibat kantaminan.perlu dilakukan sistim agitasi dengan tujuan sebagai berikut: 1. Menghindari penumpukkan ion-ion logam dalam larutan. menggunakan alat penyaring (gambar 2. Mencegah terjadinya gelembung udara pada permukaan benda kerja. Frekwensi penyaringan yang diperlukan dalam menjaga kondisi larutan. 3. 2. Teknik penyaringan ini dapat dilakukan dengan cara langsung.

Peralatan Proses Elektroplating Page 10 of 9 .7 Peralatan penyaring (filter).Gambar 2.

Ni-Cr DAN Zn Proses Elektroplating Cu.UNIT 3 PROSES ELEKTROPLATING: Cu. Ni-Cr dan Zn Page 1 of 26 .

• Sebagai stop-offs dalam proses perlakuan panas. • Sebagai pelindung terhadap pengaruh electromagnetic. • Sebagai lapisan tahan korosi. Jenis elektrolit pelapisan tembaga: • Larutan Sianida • Larutan non Sianida • Larutan Alkalin Pyrophosphat • Larutan Sulfat • Larutan Fluoborat Komposisi & kondisi operasi proses elektroplating Cu dalam larutan Sianida Proses Elektroplating Cu. • Sebagai lapisan penghantar listrik (sirkuit elektronik). Ni-Cr dan Zn Page 2 of 26 .1 Elektroplating Tembaga (Cu) Manfaat Lapisan Cu: • Sebagai lapisan antara. • Sebagai pencegah thermal shock. • Sebagai cetakan dalam proses electroforming. • Sebagai lapisan dekoratif.3.

• Untuk benda kerja seng hasil die castings. konstruksi dan bak larutan.710 dengan penambahan sodium bicarbonate dan selalu ditambahkan tartaric acid atau sodium bicarbonate pada larutan untuk mempertahankan pH antara10-10. • Untuk benda kerja baja penambahan NaOH atau KOH akan meningkatkan konduktivitas larutan dan mencegah korosi pada wadah (baja) anoda. pH larutan harus diturunkan sekitar 9.• Larutan Sianida Rochelle umumnya digunakan untuk menghasilkan lapisan Custrike (ketebalan: 1.5 • Jenis larutan Sianida dapat dioperasikan pada temperatur kamar tatapi umumnya antara 32 and 49 °C untuk meningkatkan laju pelapisan dan meningkatkan pelarutan anoda • Jenis larutan Sianida umumnya dioperasikan pada rapat arus katoda dari 1-1.0 mikron). • Pada Cu-plating dengan menggunakan larutan jenis efisiensi tinggi akan menghasilkan kecepatan proses pelapisan Cu yang 3-5 kali lebih tinggi dibandingkan jenis Sianida Rochelle. benda kerja harus dilakukan pelapisan Cu-strike terlebih dahulu dengan ketebalan sekitar 1.3 mikron dengan jenis larutan Sianida. rendahnya konsentrasi sianida dapat menyebabkan hasil lapisan menjadi kasar dan tipis tetapi peningkatan konsentrasi sianida akan berpengaruh pula terhadap: laju korosi anoda yang semakin tinggi dan menurunkan efisiensi katoda. Ni-Cr dan Zn Page 3 of 26 . • Larutan Sianida Rochelle konsentasi tinggi digunakan untuk menghasilkan ketebalan diatas 8 mikron.0 to 3. konsentrasi hidroksida harus dipertahankan antara1. • Proses Cu-plating dengan larutan jenis efisiensi tinggi.3 to 3.5 A/dm2 dan voltase bak normalnya antara 4 dan 6 V • Pengadukan larutan akan menghasilkan komposisi elektrolit yang seragam. • Jenis larutan Sianida Rochelle dapat digunakan untuk jenis proses barrel plating.8 g/L • Untuk benda kerja paduan aluminium. korosi apada anoda yang lebih seragam dan meningkatkan rapat arus sehingga lapisan Cu yang terbentuk akan lebih mengkilap Proses Elektroplating Cu. • Pada jenis larutan Sianida.

Karbonat dapat diambil dengan cara pendinginan larutan.3. • Jenis larutan Sianida Rochelle umumnya dioperasikan pada temperatur antara 54 and 71 °C yang dapat menghasilkan efisiensi terbaik yang dpat menghasilkan laju pelpisan yang lebih tinggi • Pada larutan Sianida jenis efisiensi tinggi. reducing agents (hexavalent chromium) dan wetting agents (surfactants) • Pada jenis larutan Sianida Rochelle. dapat dioperasikan pada temperatur yang lebih tinggi sampai diatas 77 °C (170 °F). akan meningkatkan efisiensi anoda dan katoda • Peningkatan pengadukan larutan.• Rapat arus yang lebih dari 5 A/dm2 dapat diterapkan dengan jenis pengadukan udara dan agitasi pada benda kerja • Penambahan additive dapat dilakukan untuk meningkatkan efisiensi larutan (menurunkan efek pengotor dalam larutan) dengan penambahan complexing agents (tartrate salts). • Peningkatan temperatur pada larutan Sianida Rochelle.2 dan 13. Tingginya konsentrasi karbonat akan menurunkan efisiensi anoda serta menghasilkan lapisan yang kasar dan berpori. potassium salts dapat diganti dengan sodium salts pada konsentrasi logam Cu tinggi sampai 38 g/L. • pH Larutan Sianida Rochelle sebaiknya dipertahankan antara 12. hal ini dapat meningkatkan pemakaian rapat arus yang tinggi sampai 6 A/dm2.0. • Untuk proses Cu-plating material paduan seng die castings. Ni-Cr dan Zn Page 4 of 26 . elektrolitnya paling baik dioperasikan pada temperatur 60-71 °C dan pH antara 11. Proses Elektroplating Cu.6 dan 12.akan meningkatkan efisiensi anoda tetapi akan meningkatkan pembentukan karbonat (karena oksidasi sianida dan juga penyerapan CO2 bereaksi dengan larutan alkali dalam larutan).

Proses Elektroplating Cu. Sodium hidroksida sebaiknya diturunkan jika larutan tersebut dioperasikan untuk proses pelapisan: zinc-base die castings. Untuk mencegahnya perlu ditambahkan wetting agents. • Kontaminasi dari besi.2-0. tidak dapat diambil dari larutan dan menyebabkan penurunan efisiensi arus. • Perlu pengontrolan larutan dan penyaringan larutan secara periodik dengan pemberian karbon aktif. Ni-Cr dan Zn Page 5 of 26 . aluminum.3 A/dm2 yang menghasilkan lapisan warna kuningan. atau magnesium (larutan dapat terkontaminasi oleh seng dan dapat diambil secara elektrolisis larutan pada temperatur kamar dengan rapat arus 0.Kurva pengaturan pH larutan elektrolit Rochelle • Konduktivitas larutan Sianida Rochelle dapat ditingkatkan dengan penambahan sodium hidroksida 2-15 g/L ( to 2 oz/gal).

Ni-Cr dan Zn Page 6 of 26 .Kurva hubungan antara waktu proses elektroplating Cu dengan efisiensi siklus pelapisan Kurva hubungan antara efisiensi siklus pelapisan dengan ketebalan lapisan hasil elektroplating Cu Proses Elektroplating Cu.

5 g/L. •Pada operasi dengan rapat arus antara 0. dan pada pH diatas 10 dapat menyebabkan lapisan buram •Kontaminan pada jenis larutan non sianida lebih rendah. pengolahan limbah lebih murah.5 to 2.5-13.0 A/dm2 •pH larutan jenis non sianida adalah antara 9-10. Perlakuan terhadap kotoran pada larutan dilakukan dengan menggunakan hidrogen peroksida dan karbon aktif Proses Elektroplating Cu. akan menghasilkan lapisan yang lebih mengkilap tetapi daya lekatnya relatif lebih rendah.5-3. •Kelebihan jenis larutan ini adalah tidak menghasilkan gas sianid (beracun).5 A/dm2. sehingga dapat digunakan untuk Cu-plating strike ataupun akhir •Tidak ada pengaturan awalterhadap pelapisan benda kerja sengc die cast dan zincated aluminum •Pada operasi dengan pH dibawah 9.Batasan konsentrasi & kondisi operasi pada elektroplating Cu dalam larutan alkaline non cyanide •Jenis larutan non sianida dioperasikan dengan konsentrasi logam Cu yang relatif lebih rendah yaitu antara 7. •Kurangnya pengadukan larutan dapat menghasilkan lapisan yang buram dan terbakar pada arus antara1. dan hasil lapisan lebih stabil (karena tidak ada dekomposisi sianid yang menghasilkan karbonat). Ni-Cr dan Zn Page 7 of 26 . efisiensi katoda mendekati 100%.

mengkilat rata dan lebih ulet. dan pada lapisan stopoff.Batasan konsentrasi & kondisi operasi pada eletroplating Cu dalam larutan copper pyrophosphate •Jenis larutan alkalin pyrophosphate digunakan untuk aplikasi dlapisan dekoratif termasuk pelapisan pada plastik papan sirkuit elektronik. •Larutan jenis asam sulfat menghasilkan efisiensi katoda antara 95-100%. •Larutan ini dapat dioperasikan pada pH netral. •Menghasilkan lapisan yang halus. •Larutan jenis ini mudah dioperasikan dan dikontrol.5 A/dm2 •Pengontrolan dan penyaringan larutan terhadap kontaminan dilakukan dengan menggunakan karbon aktif. •Efisiensi katoda hampir 100%. •Jika pengadukan larutan atau agitasi benda kerja rendah. rapat arus anoda dipertahankan antara 2-4 A/dm2. Ni-Cr dan Zn Page 8 of 26 . •Lapisan yang dihasilkan semi mengkilat. •Pada jenis larutan pyrophosphate. Proses Elektroplating Cu. maka rapat arus tidak boleh lebih dari 4. •Karakteristik larutan jenis ini adalah diantara larutan sianid dan jenis asam (lebih mendekati larutan sianid jenis efisiensi tinggi).

Spesifikasi dan standar untuk elektroplating Cu Perkiraan waktu elektroplating Cu (valensi 1) untuk menghasilkan ketebalan tertentu pada efisiensi 100% Proses Elektroplating Cu. Ni-Cr dan Zn Page 9 of 26 .

Proses Elektroplating Cu. Contoh untuk efisiensi katoda sebesar 70%. maka ditambahkan 30%nya dari perkiraan waktu yang terdapat pada tabel tersebut. maa waktu proses elektroplatingnya manjadi 2 kalinya dari watu pada tabel tersebut. magnesium. dan besi yang mengendap pada larutan dan material organik dapat menyebabkan pitting pada lapisan. Ni-Cr dan Zn Page 10 of 26 .         Menyebabkan kasarnya lapisan Cu yang dihasilkan. antara lain dari: benda kerja selesai proses cleaner sehingga membentuk silikat pada larutan anoda yang terkorosi pengotor sulfida dari bendakerja yang larut material organik yang terbawa dan tidak larut dalam air karbonat yang terbawa dan tidak larut dalam air oli partikel halus ataupun debu Faktor lain yang mempengaruhi kualitas lapisan Cu:     Kemurnian air yang digunakan. Pengotor. Klorida diatas 0. dan fluoborate). •Perlu penambahan waktu hasil koreksi sebagai akibat adanya kehilangan dari efisiensi katoda yaitu sebesar nilai perbedaan antara efisiensi aktual dengan efisiensi 100%. Besi yang terlarut dalam air dapat menyebabkan lapisan menjadi kasar pada diatas 3.5 (besi tidak dapat mengendap). pyrophosphate. Sulfat.•Jenis larutan Sianida mengandung Cu valensi-1. •Untuk larutan yang mengandung Cu valensi-2 (non Sianida.05 oz/gal) dapat menyebabkan pembentukan lapisan yang tidak rata (globular).44 g/L (0. Calcium.

2 PELAPISAN NIKEL Jenis pelapisan ini selain ada yang bertujuan untuk dekoratif seperti lapisan nikel mengkilap. Jika konsentrasi garam nikel rendah maka permukaan lapisan akan “terbakar“ jika rapat arus yang digunakan tinggi dan efesiensi katoda menjadi rendah. Tabel dibawah ini memperlihatkan komposisi dan kondisi operasi dari beberapa jenis eletrolit Nikel.Jenis pengadukan pada elektroplating Cu Grafik ketebalan dan berat lapisan tembaga terhadap luas yang dilapis 3. Ni-Cr dan Zn Page 11 of 26 . lapisan nikel suram dan lapisan nikel hitam. Sumber logam pada pelapisan nikel berasal dari garam nikel. Bila konsentrasi garam nikel tinggi maka rapat arus semakin tinggi dan kecepatan pelapisan semakin meningkat. Proses Elektroplating Cu. ada juga yang bertujuan teknik yaitu untuk meningkatkan kekerasan permukaan komponen misalnya lapis nikel keras (hard nickel).

sirkulasi larutan. Proses Elektroplating Cu. Beberapa masalah yang mungkin timbul dalam pelapisan Nikel adalah sebagai berikut : 1.Nickel electroplating solutions Penambahan Nikel klorida dimaksudkan untuk mempercepat pengkorosian pada anoda dan meningkatkan konduktivitas larutan sehingga struktur kristal lapisan lebih halus dan kekerasan lapian meningkat. Ni-Cr dan Zn Page 12 of 26 . Penambahan asam borat bertujuan untuk penyangga (buffer) sehingga mudah dalam pengontrolan pH larutan. maupun penggoyangan pada katoda. Efesiensi katoda menjadi rendah jika: • Konsentrasi garam Nikel terlalu rendah • Rapat arus terlalu rendah • Rapat arus terlalu tinggi jika dibandingkan dengan temperatur larutan. Untuk mencegah stratifikasi larutan elektrolit dan menjaga agar temperatur dalam larutan seragam. maka perlu dilakukan pengadukan (agitasi) baik dengan cara mekanik. udara. konsentrasi logam nikel dan derajat agitasi.

Lapisan Tidak sempurna / tidak menempel • Larutan bersifat alkalin (biasanya terlihat dari tampilan larutan yang keruh dan hasil pelapisan yang suram) • Larutan terlalu asam (pada katoda timbul gelembung gas/evolusi hydrogen yang berlebihan sehingga lapisan keras dan mengkilap) • Adanya lemak pada permukaan benda kerja Jenis pelapisan nikel yang banyak dijumpai di lapangan sebenarnya jenis pelapisan nikel mengkilap (lihat komposisi pada tabel sebelumnya). Brightener kelas I digunakan untuk mendapatkan lapisan putih mengkilap. Rendahnya kecepatan pelapisan jika: • Sumber logam pelapis sedikit • Temperatur larutan terlalu rendah • Konsentrasi hydrogen peroksida terlalu tinggi • Rapat arus terlalu rendah 4. Dijumpai adanya pitting jika: • Kurangnya bahan tambahan anti pitting • Jumlah asam borat terlalu rendah • Sumber logam pelapis terlalu sedikit • Keasaman terlalu tinggi • Pengadukan tidak sesuai • Adanya pengotor dalam elektrolit 3. sehingga biaya produksi menjadi meningkat. tetapi hal ini sangat tidak ekonomis.• Temperatur larutan terlalu rendah • Jumlah hydrogen peroksida atau bahan anti pitting terlalu tinggi • pH larutan terlalu rendah 2. Sebenarnya lapisan yang mengkilap dapat dihasilkan dari lapisan nikel biasa (suram) yang digosok-gosok. Untuk menghasilkan lapisan yang mengkilap. sedangkan brightener kelas II dimaksudkan untuk memperoleh permukaan Proses Elektroplating Cu. biasanya dilakukan penambahan bahan pemengkilap (brightener) ke dalam larutan elektrolit. Ni-Cr dan Zn Page 13 of 26 .

anoda akan mengeluarkan kotoran (berupa endapan). maka akan timbul tegangan sisa yang cukup tinggi dan kerapuhan pada lapisan. Kedua brightener tersebut harus bersama-sama digunakan dalam elektrolit sebab jika hanya brightener kelas I saja yang digunakan. Nickel electrodeposition data Proses Elektroplating Cu. Ni-Cr dan Zn Page 14 of 26 . sedangkan brightener kelas II biasanya mengandung garam logam atau senyawa organik tak jenuh. Selain itu. Oleh karena itu perlu dilakukan pembungkusan anoda dengan bahan polypropilene. penyaringan larutan juga harus dilakukan secara kontinyu. Brightener kelas I biasanya berupa napthalena disulfonic acid atau alkyl napthalena disulfonic acid.kilapan seperti cermin. selama proses pelapisan. Untuk menjaga agar kualitas lapisan tetap mengkilap maka selain pengadukan (agitasi).

Ni-Cr dan Zn Page 15 of 26 . ASTM B 456 Other nickel plating solutions and some properties of the deposits Proses Elektroplating Cu.Decorative nickel-plus-chromium coatings on steel Standards and Recommended Thicknesses.

Ni-Cr dan Zn Page 16 of 26 . tetapi cukup memberikan suatu perlindungan terhadap karat (korosi) dan biaya proses yang jauh lebih murah. walaupun lebih tidak tahan lama dibandingkan lapisan nikel.3.3 to 0. atau fasilitas proses pelapisan kontinyu. • Proses pelapisan seng dilakukan dengan menggunakan listrik. dibagi menjadi empat klasifikasi yang berbasis pada sianida. Untuk menghasilkan lapisan seng yang terang sebagai lapisan dekoratif. Larutan Seng Sianida Larutan seng sianida. tangki/tank.3 PELAPISAN ZN Karakteristik: • Seng bersifat anodik terhadap besi & baja. • Lapisan seng. medium • Larutan sianida-rendah • dan latutan seng Microcyanide Tabel 1 menunjukkan komposisi umum dan syarat-syarat operasi untuk sistem ini. dapat menggunakan sistem larutan yang cukup berbeda. dan terlihat abuabu setelah pelapisan. oleh karena itu dapat menjadi lapisan protektif dengan ketebalan antara 7 to 15 mikron (0. yaitu: • larutan sianida • larutan alkalin non sianida • dan larutan asamklorid.5 mil) setara dengan ketebalan lapisan nikel atau lapisan katodik lainnya. Jenis Larutan: Pelapisan seng komersial. • Jika dibandingkan dengan logam lain adalah pelapisan seng relatif murah dan dapat diterapkan di/dalam barrel. Proses Elektroplating Cu. maka sesudah proses pelapisan (plating) diberikan suatu lapisan konversi (kromatasi) atau pernis bening (atau keduanya). yaitu: • Larutan seng sianida reguler • Larutan midcyanide atau larutan dengan konsentrasi sianida.

Tabel 1. Komposisi dan prameter operasi dari larutan seng sianida

Proses Elektroplating Cu, Ni-Cr dan Zn

Page 17 of 26

Standar Larutan Seng Sianida • Perlu pembersihan permukaan yang lebih baik dari pada sistem lain. • Larutan seng Sianida adalah benar-benar fleksibel, dan berbagai macam komposisi larutan dapat memenuhi persyaratan pelapisan seng. Sistem larutan seng sianida tidak bersifat merusak ke/pada peralatan, sehingga tangki/tank dan keranjang anoda yang terbuat dari baja dapat digunakan untuk sistim larutan ini, pada hakekatnya dapat mengurangi investasi awal pabrik. • Sistem sianida juga mempunyai sejumlah kerugian, mencakup tingkat keracunan. (dengan kekecualian larutan perak atau cadmium sianida), larutan seng sianida standar yang berisi 90 g/L (12 oz/gal) dari total sodium sianida merupakan larutan yang berpotensi paling beracun dalam industri pelapisan. Bahaya terhadap kesehatan dari larutan sianida konsentrasi tinggi ini memerlukan biaya tambahan dalam memperlakukan limbah sianida, sehingga alasan primer inilah untuk menggunakan larutan sianida dengan konsentrasi lebih rendah atau diganti dengan menggunakan larutan non sianida atau asam, walaupun teknologi untuk penanganan limbah larutan sianida sangat telah berkembang, tetapi memerlukan biaya untuk awal penanganan pabrik mungkin saja lebih besar dari biaya instalasi proses pelapisannya. • Kerugian Lain adalah konduktivitas larutan yang relatif lebih rendah. Konduktivitas larutan sianida pada hakekatnya lebih rendah dari larutan asam. • Efisiensi proses pelapisan dari sistem sianida, sangat bervariasi tergantung pada beberapa faktor-faktor seperti temperatur larutan, konsentrasi sianida, dan kerapatan arus. Di/dalam instalasi proses sistim barrel, kerapatan arusnya sampai dengan 2.5 A/dm2 (25 A/ft2 ) dengan efisiensi dapat mencapai 75 sampai 90%. Di/dalam instalasi proses sistim rak, efisiensinya di bawah 50% pada kerapatan arus di atas 6 A/dm2 (60 A/ft2 ). Larutan Seng Midcyanide Larutan sianida standar menghasilkan throwing and covering power yang baik sekali. Kemampuan larutan melapisi bahan pada kerapatan arus yang sangat rendah adalah lebih baik dari sistim larutan seng lainnya. Kemampuan ini tergantung pada komposisi larutan, temperatur, logam dasar (jenis bahan), dan penggunaan aditip. Konsentrasi jenis larutan ini ditunjukkan pada tabel 1.

Proses Elektroplating Cu, Ni-Cr dan Zn

Page 18 of 26

Karakteristik penyepuhan dari larutan midcyanide dan larutan sianida reguler, pada kenyataannya adalah sama. Kelemahan Satusatunya dari larutan midcyanide ini dibandingkan dengan larutan standar, adalah toleransi terhadap pengotor yang sangat rendah dan preparasi permukaan yang harus sangat baik. Kelemahan ini adalah jarang ditemui dalam praktek di pabrik. Lebih besar proses pembilasan, pada hakekatnya adalah lebih sedikit dragout, dan menghemat persiapan larutan, biaya pemeliharaan, dan biaya proses sehingga menjadi keunggulan dari jenis larutan ini. Larutan Seng Low-cyanide • Dioperasikan pada kira-kira 6 sampai 12 g/L (0.68 sampai 1.36 oz/gal) sianida sodium dan logam seng. Larutan ini karakteristiknya berbeda dengan jenis midcyanide dan sianida standar. Aditip, secara normal digunakan di/dalam larutan reguler dan sianida midstrength, tetapi tidak berfungsi dengan baik pada larutan sianida rendah, sehingga brighteners untuk larutan Sianidarendah menggunakan brightener khusus. • Larutan seng sianida rendah, lebih sensitif temperatur dibandingkan larutan reguler atau midcyanide. Efisiensi larutan jenis ini adalah sama dengan larutan sianida reguler pada awalnya, tetapi itu cenderung menyebabkan pengelupasan (terutama pada/di kerapatan arus yang lebih tinggi). Jenis larutan ini memiliki throwing power and covering power yang sedikit lebih rendah dibandingkan dengan larutan midcyanide standar. Larutan lowcyanide lebih tidak sensitif terhadap pengotor dibandingkan larutan standar atau midcyanide. Pengotor dari logam lebih banyak tidak larut pada larutan dengan konsentrasi sianida yang lebih rendah. Larutan jenis ini banyak digunakan secara ekstensif untuk proses pelapisan seng sistim rak barang-barang kawat. Tidak seperti sistem sianida lain, larutan sianidarendah tidak sensitif terhadap penambahan sulfida untuk mengurangi pengotor bahkan dapat mengurangi kecerahan lapisan dan kecepatan proses pelapisan. Larutan Seng Microcyanide secara esensial merupakan larutan seng alkalin noncyanide. Proses pelapisan seng dengan lmenggunakan larutan alkalin ini relatif cukup sulit, Proses Elektroplating Cu, Ni-Cr dan Zn Page 19 of 26

Meningkatnya konsentrasi logam hingga di atas 17 g/L (2. Jika konsentrasi logam turun hingga 2 g/L (0. konsentrasi yang terlalu tinggi maka akan menyebabkan penumpukkan lapisan pada daerah sudut atau sisi. sebagai suatu aditip yang dapat meningkat kecerahan hasil lapisan.26 oz/gal). Bagaimanapun. penambahan aditip perlu dilakukan untuk menyelesaikan masalah ini. itu bertujuan untuk dapat meniadakan atau sepenuhnya mengeliminasi sianida.5 sampai 12 g/L (1. seperti yang diperlihatkan pada Gambar. Table 2 Komposisi & parameter proses dari larutan seng alkaline noncyanide Larutan alkalin noncyanide relatif murah proses & pemeliharaannya. 1. Noncyanide Alkalin seng adalah satu larutan yangrelatif praktis. Meningkatkan konsentrasi hidroksida sodium akan meningkatkan efisiensi. rapat arus menurun. seperti diperlihatkan pada Gambar.0 g/L (0.sehingga ditambahkan sedikit sianida minimal 1. sehingga. maka efisiensi turun sampai dibawah 60% pada kerapatan arus ini. Jika. 2. Ni-Cr dan Zn Page 20 of 26 . Larutan ini menggunakan logam seng: 7.3 oz/gal) akan menghasilkan lapisan berwarna abu-abu dop dan tidak rata.13oz/gal). Proses Elektroplating Cu.0 sampai 1.6 oz/gal) digunakan pada3 A/dm2 (30 A/ft2 ) yang dapat menghasilkan suatu lapisan seng yang terang/cerah dengan efisiensi kira-kira 80%.

0 oz/gal) Zn. Temperature: 26 °C (77 °F). Na2 CO3 .5 g/L (1. Segitiga Pejal. : Lingk-7. 150 g/L (20 oz/gal) NaOH.Zn.Gambar. 2 Pengaruh konsentrasi logam seng & sodium hidroksida terhadap efisiensi katoda dari larutan noncyanide.15 g/L (2.0 oz/gal) Zn. 15 g/L (2 oz/gal) Gambar. Proses Elektroplating Cu. Segitiga Kosong. 110 g/L (15 oz/gal) NaOH. NaOH. 1 Effisiensi arus pada katoda katoda sebagai fungsi dari konsenrasi logam seng dari larutan seng alkalin noncyanide. 150 g/L (20 oz/gal) NaOH. 80 g/L (11oz/gal).5 oz/gal) Zn.11 g/L (1. 150 g/L (20 oz/gal) NaOH. Ni-Cr dan Zn Page 21 of 26 .5 oz/gal) Zn.5 g/L (1 oz/gal). •: 7. 75 g/L (10 oz/gal) NaOH. Segi Empat 11 g/L (1.

konsumsi brightener lebih tinggi.5 /dm2 (25 A/ft2 ) 50% pada 5 A/dm2 (50 A/ft2 ). Mengoperasikan larutan pada temperatur yang relatif tinggi. sehingga temperatur optimum perlu ditentukan. effisiensi kira-kira 90% pada 2. dan berbagai kesulitan pemeliharaan larutan. biaya operasional lebih tinggi. effisiensi arusnya bervariasi antara 75 dan 93%.Temperatur Larutan seng Sianida dapat dioperasikan pada temperatur 12 sampai 55 °C (54 sampai 130 °F). permukaan akhir yang diinginkan dan karakteristik larutannya. Peningkatan efisiensi dapat diperoleh dengan menggunakan Larutan dengan konsentrasi sianida yang lebih tinggi. tetapi. Effisiensi Arus Pada proses pelapisan dengan larutan seng sianida sistim barrel. hal ini dapat menyebabkan rendahnya throwing power dari larutan. Umumnya. Ni-Cr dan Zn Page 22 of 26 . Temperatur operasi ini diberikan tergantung pada jenis benda kerja. pemakaian umum adalah antara 23 sampai 32 °C (73 sampai 90 °F). Pengaruh meningkatnya temperatur Larutan:          Meningkatkan efisiensi katode Meningkatkan konduktivitas larutan Meningkatkan karat (korosi) pada anoda Menghasilkanlapisan yang buram Mengurangi daya liput (covering power) Mengurangi throwing power Meningkatkan penguraian sianida dan agen penambahan Menurunkan temperatur larutan akan mempunyai efek kebalikan. 3. Temperatur larutan sangat berpengaruh dalam sistem seng sianida. terutama di atas 3 A/dm2 (30 A/ft2 ). Pada sistim rak efisiensi arusnya akan sangat bervariasi pada kerapatan arus yang relatif tinggi. Pengaruh adari konsentrasi logam seng. akan memberikan konduktivitas dan efisiensi pelapisan yang optimum. dan perbandingan cyanideseng terhadap efisiensi adalah diperlihatkan pada Gambar. tergantung pada temperatur dan kerapatan arus. Proses Elektroplating Cu. hidroksida sodium.

Proses Elektroplating Cu. dan 65.2 g/L (8. 43. 5.4 dan 75.2. 2. dan 12 oz/gal) Zn (CN). 2. Ni-Cr dan Zn Page 23 of 26 .2 g/L (20 and 10 oz/gal) NaOH. 17.72 oz/gal) NaCN. 60. Komposisi dan parameter proses dari larutan seng Asam ditunjukkan pada tabel 5.Gambar.75-sampai-1 Rasio dari NaCN terhadap seng.   Mempunyai konduktivitas yang jauh lebih tinggi dibandingkan larutan alkalin. keuntungan dari jenis larutan ini adalah: Merupakan satu-satunya larutan seng yang memiliki kemampuan untuk menghasilkan lapisan dengan tingkat kecerahan cukup baik dan paling brilian.82.33 sampai 5.5 g/L (5. Rasio 2. Temperatur: 30 °C (86 F).1 g/L (8 oz/gal) Zn(CN).1. 75. 60. 75. Temperatur: 30 °C (86 °F). Dapat diterapkan pada jenis bahan besi cor.75-sampai-1 rasio dari NaCN terhadap seng.5 sampai 43. 60 g/L (8 oz/gal) Zn (CN).6. dan 8. (b) Pengaruh konsentrasi logam seng. Efisiensi larutan mencapai 95 sampai 98%. 7. 3 Pengaruh komposisi larutan & rapat arus terhadap effisiensi dari larutan plating seng sianida. 150. (a) Pengaruh dari rasio NaCN/Zn. 54. 10. 75.7.82 oz/gal) NaCN.27. 43.75-sampai-1 rasio dari NaCN terhadap seng.2 g/L (10 oz/gal) NaOH. terutama pada kerapatan arus yang lebih tinggi. secara normal jauh lebih tinggi dibandingkan larutan sianida atau proses alkalin.6 g/L (5. yang akan cukup sulit atau mustahil dilakukan dengan menggunakan larutan alkalin.8 oz/gal) NaCN. Temperatur: 30 °C (86 °F) Larutan Asam Larutan seng asam berbasis pada seng klorid yang saat ini 40 sampai 50% dipergunakan di seluruh dunia.0-sampai-1 sampai 2.7 g/L (2. dan 90. sehingga lebih effisien. besi malleable.2 g/L (10 oz/gal) NaOH. seperti diperlihatkan pada Gambar. (c) Pengaruh dari konsentrasi NaOH. dan komponen yang di-carbonitrided.

Pengaruh negatif dari larutani asam chloride adalah larutan asam klorid adalah bersifat korosif.  Penggetasan hidrogen lebih rendah dibandingkan dengan jenis larutan seng lainnya. Tabel 5 Komposisi & parameter operasi dari larutan seng asam chloride Proses Elektroplating Cu. Prosedur-prosedur penanganan limbahnya lebih rendah. seperti tangki/tank dan lainnya. karena efisiensi arusnya relatif tinggi. harus dilapisi dengan bahan anti-karat.5 sampai 9. dan pegendapan logam seng jika diperlukan. hanya terutama pada netralisasi pada pH 8. Semua peralatan yang berhubungan dengan larutan. Ni-Cr dan Zn Page 24 of 26 .

Gambar. 5 Perbandingan effisiensi arus dari larutan plating seng Proses Elektroplating Cu. Ni-Cr dan Zn Page 25 of 26 .

direkomendasikan dalam pemakaian larutan asam klorid untuk mencapai kerapatan arus operasi yang praktis. Sirkulasi larutan. Pengadukkan ini dapat dilakukan melalui tiupan udara. Pengontrolan Temperatur dalam larutan asam cukup diperlukan dibandingkan dalam larutan seng sianida. biasanya di bawah 21 °C (70 °F). Ketika larutan asam mencapai temperatur yang cukup panas. temperatur rendah. sehingga pendinginan harus disediakan untuk mempertahankan temperatur larutannya tetap sesuai dengan rekomendasi. direkomendasikan dalam proses pelapisan sistim barrel. sirkulasi larutan biasanya terpenuhi oleh adanya filter. menyebabkan larutan Proses Elektroplating Cu. yaitu biasanya 35 °C (95 °F).Tabel 6 Komposisi dan parameter operasi dari larutan Seng Fluoborate dan sulfate Sejumlah larutan seng berbasis seng sulfate dan seng fluoborate banyak digunakan terutama untuk proses pelapisan seng produksi tinggi. Mengoperasikan larutan asam klorid di atas temperatur yang direkomendasikan dapat menyebabkan kecerahan lapisannya menjadi rendah. maka aditip perlu segera dalam larutan untuk menghindari perubahan larutan seperti susu atau berawan yang menyebabkan ketidakseimbangan larutan. Ni-Cr dan Zn Page 26 of 26 . pelapisan kontinyu dari kawat dan batang. Tabel 6 memperlihatkan komposisi dan kondisi operasi dari beberapa larutan seng fluoborate dan sulfate. Pada sistim rak. Parameter : Pengadukkan (agitasi). Sebaliknya.

di/dalam sistim barrel akan tampak sebagai bintik hitam pada lapisan. Metoda Elektrometris adalah dengan menggunakan kertas pengujian. di atas itu dapat diperoleh dengan larutan sianida. Larutan seng asam klorid menghasilkan efisiensi arus katode yang tinggi seperti diperlihatkan pada Gambar. 5. efisiensi arus katode rata-rata untuk larutan ini adalah kira-kira 95 sampai 98%. Pencemaran larutan oleh unsur besi adalah suatu masalah umum pada larutan seng asam klorid.6 mil) atau filter yang lebih kecil lagi. Tidak ada larutan seng lainnya yang benar-benar berefisiensi tinggi pada kerapatan arus tinggi yang dapat meningkatkan produktivitas 15 sampai 50%. biasanya kira-kira 10 mL (0. 30% peroksida hidrogen harus digunakan untuk setiap 100 L (26. Pencemaran oleh besi biasanya tampak sebagai endapan gelap pada lapisan dengan kerapatan arus tinggi.34 fl oz) . ketika memerlukan. Ni-Cr dan Zn Page 27 of 26 . Kalium permanganat dapat digunakan sebagai pengganti peroksida. beban arus bisa berlipat ganda.meng-kristal dan menyebabkan aditip organik memisahkan diri ke luar dari larutan. Pengontrolan pH pada larutan seng asam biasanya dimonitor sehari-hari. Penurunan konsentrasi peroksida adalah dengan penambahan 4 sampai 5 air.4 gal. Endapan besi hidroksida disaring dengan menggunaka filter 15 mikron (0. pH diturunkan dengan penambahan larutan asam hidroklorik. Dalam sistim barrel. Penghilangan pengotor besi dalam larutan asam klorid dilakukan dengan cara mengoksidasi besi dengan menambahkan hidrogen peroksida pada larutan.) dari larutan. pH ditingkatkan dengan penambahan kalium atau ammonium hidroksida. Proses Elektroplating Cu. Effisiensi Arus Katoda.

Tabel 8 Perkiraan umur pakai komponen yang dilapis seng pada berbagai kondisi lingkungan Tabel 9 Applikasi dari plating seng pada ketebalan 7 sampai 13 mikron (0.5 mil) Proses Elektroplating Cu. Ni-Cr dan Zn Page 28 of 26 .3 sampai 0.

UNIT 4 ANODIZING DAN PEWARNAAN ALUMINIUM Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 1 of 10 .

2 Maksud dan Tujuan. Tujuan dari pada proses anodizing ini agar pada Aluminium dapat: Meningkatkan ketahanan korosi. Untuk keperluan dekoratif maka Aluminium yang telah diproses anodizing dilakukan proses pewarnaan (Colouring). Bertitik tolak dari hal tersebut maka penulis menyajikan karya tulis tentang teknologi proses anodizing pada Aluminium berdasarkan pada studi pustaka (teori dasar) dan nara sumber yang telah melakukan proses anodizing secara lengkap dan baik. Meningkatkan ketahanan abrasi.1 Warna daripada Aluminium Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 2 of 10 . misalnya yang paling banyak digunakan adalah Aluminium (Al). Maksud dari pada proses ini adalah untuk mengetahui sampai sejauh mana pengaruh dari parameter yang ada pada Aluminium setelah diproses dengan cara anodizing. Selain mempunyai kekuatan dan keuletan juga harus mempunyai berat jenis yang rendah dengan kata lain sifatnya ringan. Gambar 4. Dengan semakin majunya teknologi serta bahan-bahan teknik sehingga penggunaan bahan yang mempunyai kekuatan dan keuletan yang tinggi semakin banyak digunakan sekarang ini. Sebagai dekoratif.4.1 Latar Belakang. Banyaknya pemakaian tersebut maka untuk penggunaan-penggunaan khusus Aluminium tersebut diproses kembali misalnya untuk diperlukan tahan oksidasi maka Aluminium tersebut direaksikan dengan bahan kimia yang sering disebut proses Anodizing. Bersifat dielektrik. Oleh karena itu penggunaan bahan-bahan yang ringan banyak sekali. Dari mulai alat-alat rumah tangga sampai pada bagian-bagian pesawat terbang. 4.

Dari proses anodizing ini akan dihasilkan lapisan anodis yang merupakan lapisan tipis oksida Aluminium pada permukaan Aluminium. Dengan warna yang berbeda maka akan mempengaruhi ketebalan dari lapisan tersebut. makin lama proses pencelupan warna yang diperoleh akan semakin gelap atau hitam.3 Teknologi Proses Anodizing. Lapisan oksida Aluminium ini berfungsi sebagai pelindung dan akan tahan terhadap beberapa faktor antara lain: Tahan korosi. Isolasi listrik. Dilain pihak anodizing adalah suatu proses elektrolisis untuk menebalkan dan menstabilkan lapisan oksida pada logam dasar. Proses lanjutan dari anodizing adalah proses pewarnaan secara elektrolitik. Tahan abrasi. Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 3 of 10 . Larutan elektrolit yang digunakan yaitu asam sulfat (H2SO4) dan menggunakan listrik arus searah (Direct Current/DC).4. Warna yang dihasilkan dari proses ini berbeda tergantung pada waktu. V Sumber Listrik A (+) (-) Aluminium Pb Elektrolit Gambar 4. lapisan anodis yang dihasilkan oleh proses anodizing bersifat dielektrik. Dan sebagai dekoratif.2 Skema Prisip Kerja Proses Anodizing. Anodizing merupakan suatu proses untuk menghasilkan lapisan pelindung dan untuk keperluan dekoratif. Proses anodizing merupakan proses elektrolisa didalam suatu larutan elektrolit.

Hard Anodizing Conventional anodizing 7075 2014 2024 Gambar 4.1.dimana: V A : Voltmeter : Ampermeter Proses anodizing ini membentuk suatu lapisan oksida Aluminium pada permukaan batang-batang profil Aluminium dan lapisan ini dapat melindungi terhadap reaksi oksidasi.3 Pengaruh Waktu Terhadap Lapisan Anodis yang dihasilkan Tabel 4.3. Dalam proses anodizing pengaruh waktu sangat menentukan terhadap tebal tipisnya lapisan yang dihasilkan seperti yang terlihat pada gambar 4. Pengaruh Temperatur dan Waktu Anodizing pada Warna 35 0C 30 60 90 120 180 43 0C 30 60 90 120 52 0C 30 60 Warna yang dihasilkan Abu-abu mengkilap Abu-abu Tua Kehitam-hitaman Hitam Hitam Pekat Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 4 of 10 .

Anodizing 3. Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 5 of 10 . Rak penggantung (hanger) Rak penggantung ini terbuat dari Aluminium dan digunakan sebagai tempat dari batang-batang profil Aluminium. Unracking Peralatan pembantu untuk mengerjakan proses anodizing ini terdiri dari: a. Dalam mengerjakan proses anodizing ini ada 3 macam bagian operasi yang dilakukan. yaitu: 1. b.4. c.4. Over Head Crane Over head crane ini digunakan untuk mengangkat rak penggantung dari satu tangki proses ke tangki proses lainnya. Anodic film wt 50 0F (10 0C) 70 0F (21 0C) 122 0F (50 0C) Anodizing time Gambar 4.Variasi antara ketebalan anodik dan waktu anodizing dapat berhubungan pula dengan temperatur larutan yang dipakai seperti pada gambar 4. Hubungan Antara Ketebalan Anodik dengan Waktu Terhadap Temperatur 4. Kawat. garpu dan klem Semua terbuat dari Aluminium dan digunakan untuk mengikat batang-batang profil Aluminium pada rak penggantung.4 Proses Produksi. Racking 2.

Anodizing. 2.Water Rinse Tank : 12 buah .Desmuting Tank .Degreasing Tank : 1 buah . Prinsip kerja dari proses ini adalah batangbatang profil yang akan dianodizing diikatkan pada bagian sebelah kiri dan kanan rak penggantung dengan menggunakan kawat aluminium.Penjelasan masing-masing operasi : 1.Colouring Tank .Sealing Tank : 1 buah : 1 buah : 3 buah : 1 buah : 3 buah Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 6 of 10 .Etching Tank . Pada proses ini jenis dan jumlah bak (tangki) yang digunakan adalah sebagai berikut : . Racking. Racking adalah proses pemasangan batang-batang profil Aluminium pada rak penggantung (hangaer).Anodizing Tank .

oli dan lemak yang melekat pada batang profil Aluminium.5 Skema Proses Anodizing Urutan proses anodizing secara umum adalah sebagai berikut: a. seperti minyak. Dengan menggunakan larutan alkaline clean yang dipanaskan sehingga uap panas yang dialirkan melalui pipa yang berada didasar tangki. Degreasing. Proses pengikisan kotoran pada batang profil Aluminium ini diakibatkan desakan uap panas sehingga Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 7 of 10 . Degresing adalah proses penghilangan kotoran.Degreasing Pencucian Coastic Etch Pencucian Desmuting Pencucian Anodizing Pencucian Colouring Pencucian Sealing Produk Gambar 4.

Pencucian. Desmuting Desmuting merupakan proses untuk menghilangkan lapisan smut yang diakibatkan oleh proses sebelumnya. Anodizing Anodizing adalah proses elektrolisa didalam larutan elektrolit. Air yang digunakan adalah air bersih. f. Untuk menghilangkan oksida-oksida logam berat tersebut digunakan larutan asam nitrat (HNO3) dengan konsentrasi 50 % atau asam sulfat (H2SO4) yang mempunyai konsentrasi 15 %. Tujuan pencucian adalah untuk menghilangkan larutan yang tertinggal pada permukaan. Untuk menghilangkan goresan tersebut digunakan larutan soda api (NaOH) dengan temperatur pada tangki proses yaitu 55 0C. Tujuan proses ini untuk menghilangkan zat pembersih yang tertinggal pada permukaan. dimaksudkan agar batang-batang profil Aluminium ini mudah dialiri arus listrik pada waktu proses anodizing berlangsung. Lapisan tersebut terdiri dari partikel antar logam berat atau oksida yang larut dalam alkaline. Pencucian. Larutan yang digunakan untuk proses anodizing ini adalah Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 8 of 10 . Pencucian. Sebagai kutub positif pada proses adalah batang-batang profil Aluminium dan katodanya terbuat dari logam Aluminium atau timah hitam. g.menggerakkan larutan alkaline clean mengikis kotoran yang ada pada batang-batang profil Aluminium tersebut. Proses anodizing ini membentuk suatu lapisan oksida Aluminium pada permukaan batang-batang profil Aluminium dan lapisan ini dapat melindungi terhadap reaksi oksidasi. c. b. d. Etching Fungsi dan proses ini adalah menghilangkan bagian-bagian yang kasar dan goresan-goresan yang ada pada permukaan batang profil tersebut. Bahan pencuci yang digunakan adalah air bersih. Penghilangan goresan-goresan ini. Perbandingan dengan kedua larutan tersebut 1 : 5. bahan pencuci yang digunakan adalah air bersih. e. Tujuan pencucian adalah untuk menghilangkan larutan NaOH yang masih ada pada permukaan.

Pada proses elekrolisa ini digunakan: .Daya : 130 Ohm : 30 Volt : 3 Watt : 20 0C .Temperatur proses Reaksi kimia pada proses ini berlangsung sebagai berikut : H2SO4 Katoda : Anoda : 2H+ + 2e SO422SO4 4 Al + 3O2 2H+ + SO42H2 SO4 + 2e 2SO3 + O2 2Al2O3 Pelapisan Aluminium denngan oksidanya berlangsung terus menerus selama proses elektrolisa dijalankan sebab Al2O3 yang terbentuk tidak menghalangi reaksi dengan oksida aktif. Pewarna (Colouring). Tujuan dari pewarnaan ini adalah untuk memperindah batang-batang profil Aluminium. Larutan yang digunakan dalam proses ini adalah Cobalt. oksigen yang terikat pada senyawa Aluminium Al2O3 akan berpindah kebatang profil Aluminium yang sebelah dalam untuk membentuk Al2O3 yang baru. j. Pencucian. semakin lama proses pewarnaan berlangsung maka menghasilkan warna yang semakin gelap atau hitam. Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 9 of 10 . Proses ini dilakukanuntuk menghilangkan larutan H2SO4 yang masih ada pada permukaan batang-batang profil Alluminium. Warna yang dihasilkan dariproses ini tergantung pada waktu.Hambatan . Pencucian. h. H2SO4.asam sulfat (H2SO4) dengan konsentrasi 20 % ditambah aditive.Tegangan . karena selama proses elektrolisa berlanngsung. Colouring merupakan proses pewarnaan secaara elektrolitik. Tin Sulfat dan additive dengan temperatur proses 20 0C. Bahan pencuci yang digunakan adalah air bersih. i.

Tujuan proses ini adalah untuk menghilangkan kotoran-kotoran yang masih ada pada permukaan. Sebelum di-sealing Sesudah di-sealing Gambar 4. Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 10 of 10 . Sealing. Bahan pencuci yang digunakan adalah air bersih. k. Karena hidrasi yang terjadi pada proses ini akan merubah oksida Aluminium anhidrat menjadi oksida Aluminium hidrat. Reaksi kimia dari proses sealing dapat dilihat sebagai berikut : Al2O3 + H2O Al2O3 . Proses sealing ini dimaksudkan untuk menstabilkan lapisan anodize (Al2O3). Unracking adalah proses melepaskan batang-batang profil Aluminium yang telah dianodizing dari rak penggantung. Unracking. Bagian terakhir dari proses anodize adalah sealing. H2O Temperatur pemanasan pada tangki proses digunakan 98 0C.6 Mekanisme Penyempitan Akibat dari Proses Sealing 3. Sealing adalah proses penyempitan pori-pori dari logam Aluminium yang telah dianodize. Prinsip dari proses sealing ini adalah proses antara oksida Aluminium dengan air yang membentuk oksida Aluminium mono hidrat. Lamanya proses sealing ini tergantung tebalnya batang aluminium yang dianodize.

Siapkan additive (Asam Oksalat) 14 – 18 gr/lt. Masukkan air sesuai dengan larutan yang akan kita buat Tambahkan larutan asam sulfate sesuai dg komposisi yg telah ditentukan Tambahkan additive 14 – 18gr Pasangkan katoda dengan menggunakan logam inert Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 11 of 10 . Siapkan larutan asam sulfate 20% dari larutan yang akan di buat.CARA MELARUTKAN LARUTAN ANODISASI Siapkan gelas ukur sesuai dengan ukuran larutan yang akan kita buat.

You're Reading a Free Preview

Download
scribd
/*********** DO NOT ALTER ANYTHING BELOW THIS LINE ! ************/ var s_code=s.t();if(s_code)document.write(s_code)//-->