Applied Electroplating

21 Juli 2009

UNIT 1 DASAR-DASAR PROSES ELEKTROPLATING

Dasar-dasar Proses Elektroplating

Page 1 of 20

I.

PENDAHULUAN Jika suatu logam dipajang (expose) kelingkungannya maka akan terjadi

interaksi antara logam dengan lingkungan. Berdasarkan teori, mekanisme interaksi akan melibatkan pertukaran ion antara permukaan logam dengan lingkunyannya. Karakteristik pertukaran ion sangat dipacu antara lain oleh adanya perbedaan potensial diantara keduanya. Hasil dari adanya pertukaran ion terhadap logam yang dipajang adalah timbulnya kerusakan pada logam serta terbentuknya produk korosi. Jadi konsep yang sangat mendasar dalam rangka melindungi logam adalah mengupayakan agar tidak terjadi pertukaran ion antara logam dengan lingkungannya. Kalaupun tidak bisa memutus sama sekali pertukaran ion tersebut, diupayakan agar pertukaran ion berlangsung dengan laju yang relatif rendah. Berdasarkan kriteria ini maka muncullah pengertian pengendalian, artinya pertukaran ion yang terjadi dikendalikan lajunya agar tidak berlangsung terlalu cepat. Upaya pengendalian yang lazim diterapkan dalam rangka perlindungan terhadap logam yang digunakan adalah sebagai berikut :       Pemilihan material/logam yang tepat Perancangan/design konstruksi yang memadai (appropriate) Penambahan Inhibitor Penerapan Pelapisan (Coating) Penerapan system Proteksi Katodik dan Anodik Pengkondisian lingkungan

Metoda perlindungan logam yang banyak digunakan dan paling mudah dilakukan serta dari aspek biaya lebih murah adalah penerapan pelapisan. Perlindungan terhadap logam dengan cara menerapkan pelapisan pada hakekatnya adalah melindungi logam dari lingkungan sehingga pertukaran ion antara permukaan logam dengan sekeliling lingkungan dapat dikendalikan. Sistem perlindungan yang memisahkan kontak antara logam dan lingkungan sangat banyak dijumpai. Lapisan pemisah ini dapat digolonbgkan sebagai berikut : Lapisan hasil reaksi kimia atau elektrokimia pada permukaan logam . Lapisan anorganik : cat, resin, plastik, karet dan lain sebaginya. Lapisan organik : enamel, semen dan lain sebagainya. Lapisan logam : logam murni, logam paduan. Page 2 of 20

Dasar-dasar Proses Elektroplating

II.Kelemahan :  Adanya keterbatasan dalam usuran lapisan dan desain dari benda kerja yang dilapangan. Untuk itu diperlukan/digunakan arus listrik searah (direct current) dan tegangan yang konstan/tetap.  Hanya bisa dilakukan dibengkel ( harus ada listrik).  Terbatas dengan bahan yang bersifat konduktor. kelemahan-kelemahan diatas dapat diatasi yaitu dengan cara lapis listrik selektif dan proses electroless.Proses pelapisan logam sendiri dapat diklasifikasikan sebagai berikut : Secara Pelelehan ( celup panas/hot dip) Secara Endap Vakum Secara Sherardizing Secara Rich Coating Secara Listrik (Electroplating) Bila dibandingkan dengan proses-proses pelapisan logam dengan cara lain. proses lapis listrik mempunyai beberapa keuntungan dan kelemahan : . PENGERTIAN PROSES LAPIS LISTRIK (ELECTROPLATING) Lapis listrik (electroplating) adalah suatu proses pengendapan zat (ion-ion logam) pada elektroda (katoda) dengan cara elektrolisa.Keuntungan :  Suhu/temperatur operasi rendah yaitu berkisar 60 – 700C  Ketebalan lapisan mudah dikendalikan  Permukaan halus dan mengkilap  Hemat dalam pemakaian logam pelapis . Terjadinya sutau endapan pada proses ini adalah karena adanya ion-ion bermuatan listrik berpindah dari suatu elektroda melelui elektrolit yang mana hasil dari elektrolisa tersebut akan mengendap pada elektroda lain (katoda). Selama proses pengendapan/deposit berlangsung terjadi reaksi kimia pada elektroda dan elektrolit baik reaksi reduksi maupun reaksi oksidasi dan diharapkan berlangsung terus menerus menuju arah tertentu secara tetap. Dengan adanya kemajuan teknologi lapis listrik. Endapan yang terjadi bersifat adhesive terhadap logam dasar. tidak bisa dilakukan . Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 3 of 20 akan dilapis.

1 F = 96. Bila diatas dijelaskan bahwa tegangan/arus dalam proses lapis listrik diinginkan dalam kondisi yang konstan. Pernyataan tersebut diatas dapat ditulis dengan rumus sebagai berikut : B Keterangan : I t e F B = Berat zat yang terbentuk (gram) I t = Jumlah arus yang mengalir (Ampere) = Waktu (detik) valensi unsur tersebut) F = Jumlah arus yang diperlukan untuk membebaskan sejumlah gram ekivalen suatu zat. Jumlah zat-zat (unsur-unsur) yang dihasilkan oleh arus listrik yang sama selama elektrolisa adalah sebanding dengan berat ekivalen masing-masing zat tersebut. e = Berat ekivalen zat yang dibebaskan (berat atom suatu unsur dibagi I V R Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 4 of 20 .Prinsip dasar dari proses lapis listrik adalah berpedoman atau berdasarkan HUKUM FARADAY yang menyatakan : Jumlah zat-zat (unsur-unsur) yang terbentuk dan terbebas pada elektroda selama elektrolisa sebanding dengan jumlah arus listrik yang mengalir dalam larutan elektrolit. Hukum Faraday sangat erat kaitannya dengan efisiensi arus yang terjadi pada proses pelapisan secara listrik. maksud dari pernyataan tersebut adalah tegangan tidak akan berubah/terpengaruh oleh besar kecilnya Ampere. Effisiensi arus adalah perbandingan berat endapan yang terjadi dengan berat endapan secara teoritis dan dinyatakan dalam persen (%).500 Coloumb yaitu jumlah arus listrik yang diperlukan untuk membebaskan 1 grek suatu zat.

maka yang divariabelkan hanyalah tahanannya saja.Keterangan : I = Banyaknya arus (Ampere) V = Tegangan (Volt) R = Tahanan Sehingga untuk memvariabelkan ampere. dalam pelapisan secara listrik (electroplating) banyak istilah-istilah yang digunakan dan perlu diketahui. .Elektrolit Zat-zat yang molekul-molekulnya dapat larut dalam air dan terurai menjadi zat-zat (atom-atom) yang bermuatan negatif dan negatif. .Ion Zat-zat yang terurai yang mana atom atau molekul-molekulnya bermuatan listrik negatif dan negatif. sedangakan voltagenya tetap.Electroda Suatu terminal dalam larutan elektrolit yang mana aliran listriknya mengalir ke dan darinya. . Istilah-istilah dalam lapis listrik antara lain : . .Anoda (Anode) Elektroda negatif yang padanya terjadi pelepasan ion negatif dan membentuk ion negatif (reaksi oksidasi).Lumpur anoda Sisa zat yang tidak larut dihasilkan dianoda dan mengotorinya. sehingga dalam pnerapannya/prakteknya tidak akan menemui kesulitan. . .Lepuh (blister) Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 5 of 20 . Zat yang bermatan negatif disebut anion (ion negatif) dan yang bermuatan Negatif disebut kation (ion negatif).Katoda ( cathhode) Elektorda negatif yang padanya terjadi pelepasan ion Negatif dan membentuk ion negatif (reaksi reduksi). karena jelas perbedaan satu sama lainnya. III. ISTILAH-ISTILAH DALAM PROSES LAPIS LISTRIK Seperti pada proses-proses metal finishing lainnya.

. minyak atau zat organik lainnya dengan larutan alkalin.Kerapuhan hidrogen (Hydrogen Embritlement) Suatu kegetasan pada benda kerja akibat penyerapan gas hidrogen pada proses pencucian dan pelapisan.Bahan pengkilat (Brightener) Zat tambahan yang bersifat membentuk lapisan agar lebih mengkilap atau yang memperbaiki kecemerlangan diatas endapan/lapisan.Polarisasi anodic (Anodic Polarization) Penggeseran potensial elektroda katodik akibat adanya aliran listrik. .Rapat arus (Current Density) Jumlah arus yang mengalir perluas unit elektroda.pH Derajat keasaman suatu asam dalam larutan yang merupakan logaritma dari konsentrasi asam dengan tanda negatif. pada permukaan logam agar menjadi lebih aktif.Cuci asam (Pickling) Suatu cara menghilangkan karat (korosi) pada benda kerja dengan larutan asam.Cuci lemak (Degreasing) Pembersihan permukaan logam dari lemak. .Efisiensi arus (Current Efficiency) Perbandingan antara jumlah teoritis arus listrik yang akan terpakai dengan jumlah arus listrik yang sebenarnya terpakai.Polarisasi katodik (Cathodic Polarization) Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 6 of 20 . . . .Inhibitor Bahan yang dapat mengurangi pemakanan atau pengrusakan oleh asam pada benda kerja.Stop of material Suatu bahan yang berfungsi menutupi hasil pelapisan.Pengaktifan (Activation) Pembersihan dari keadaan pasif. . .Pembengkakan pada bagian tertentu dari hasilpelapisan karena daya lekat (adhesif) lapisan yang kurang baik. . . . .

.Pembilasan (Rinsing) Suatu busaha pencucian atau penetralan permukaan benda kerja dari asam atau alkali dengan air bersih.Micro throwing power Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan endapan/lapisan yang sama tebalnya pada setiap titik permukaan benda kerja. . . . .Penggeseran potensial elektroda kearah anodic akibat adanya aliran listrik. .Free cyanide Banyak cyanide yang melebihi daripada cyanide kompleks. .Throwing power Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan lapisan yang sama tebalnya pada benda kerja yang rumit atau biasa. Covering power tergantung pada proses persiapan permukaan dan kondisi dari proses lapis listriknya sendiri. bertujuan untu merubah bahan menjadi konduktif. .Macro throwing power Kemampuan elektrolit untuk menghasilkan endapan yang kurang lebih sama tebalnya pada benda kerja yang tidak beraturan bentuknya. efisiensi arus dan konduktivtas. kondisi operasi.Covering power Kemampuan suatu elektrolit untuk mengendapkan logam keseluruh permukaan katoda yang bagimanapun bentuknya.Proses elektroles (Electroless Plating) Pengendapan lapisan logam secara reaksi reduksi tanpa listrik. kebutuhan diperlukan untuk mengubah larutan pelapis menjadi seperti logam yang termasuk garam Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 7 of 20 .Zat aktif permukaan (Surface active agent/Surfactant) Zat kimia yang dimasukkan kedalam larutan sebagai zat pengaktip permukaan. Faktor yang mempengaruhi macro throwing power adalah distribusi arus. Difusi ion logam merupakan hal yang terpenting bagi micro throwing power.

lemak dengan menggunakan bahan organik (pelarut organik). maka muatan ion negatif ditarik oleh elektoda katoda. Ion-ion tersebut dinetralisir oleh kedua elektroda dan larutan elektrolit yang hasilnya diendapkan pada elektroda katoda. larutan elektrolit dan katoda (benda kerja). Katoda dihubungkan pada kutub negatif dari sumber listrik.Chromat process (Chromating) Teknik pengerjaan lapis lindung yang dilakuka secra kimia dengan mencelupkan benda kerja yang sudah dilapisi seng kedalam larutan encer yang terdiri dari chromat atau bichromat sebagai bahan utama. Sementara ion bermuatan negatif berpindah kearah elektroda bermuatan negatif.. Keempat gugusan ini disusun sedemikian rupa. Anoda dan Katoda direndamkan dalam larutan elektrolit. Hasil yang terbentuk/terjadi adalah lapisan logam dan gas hidrogen. sehingga membentuk suatu sistim lapis listrik dengan rangkaian sebagai berikut : Anoda dihubungkan dengan kutub positip dari sumber listrik. Untuk lebih jelasnya rangkaian dan prinsip kerja proses lapis listrik dapa dilihat pada gambar 1 dan 2 berikut ini: Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 8 of 20 . . Bila arus listrik (potensial) searah dialirkan antara kedua elektroda anoda dan katoda dalam larutan elektrolit.Levelling Kemampuan untuk menghasilkan lapisan yang lebih tebal pada lekukan dari pada permukaan yang rata. IV.Solvent cleaning Suatu cara pembersihan gemuk. PRINSIP KERJA LAPIS LISTRIK Pada prinsipnya pelapisan logam dengan cara lapis listrik adalah merupakan rangkaian dari : arus listrik. . anoda.

Gambar 1. ion-ion tembaga (Cu2+) akan terbawa kemudian mengendap pada permukaan katoda (pelat baja) dan berubah menjadi atomatom tembaga. Gambar 2. Larutan yang digunakan adalah garam cupper sulfat (CuSO4). Oleh karena pada anoda dan katoda terjadi perbedaan potensial setelah dialiri listrik. Melalui larutan elektrolit. Rangkaian proses lapis listrik Sebagai contoh misalkan pelat baja yang akan dilapis dengan tembaga/cupper (Cu). maka logam tembaga akan terurai didalam larutan elektrolit yang juga mengandung ion-ion tembaga. Prinsip kerja proses lapis listrik Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 9 of 20 .

Larutan elektrolit dapat dibuat dari larutan asam. basa dan garam logam yang dapat membentuk muatan ion-ion negatif dan ion-on negatif. V.Di sini terjadi reaksi reduksi ion tembaga menjadi logam tembaga sebagai berikut : CuSO4 ↔ Cu 2+ + SO42H2O ↔ H+ Cu2+ + + OH2 e ↔ Cu↓ terjadinya reaksi tersebut sewaktu proses pelapisan Fenomena berlangsung dan dapat dilihat pada gambar 3 berikut ini: Katoda (-) CuSO4 Anoda (+) Cu++ Cu H + ++ Cu++ Cu++ Cu + SO4 SO4 Cu H+ H 2O H + OH- Cu++ H2 (Gas) H + + OH - O2 (Gas) Gambar 3. larutan elektrolitnya berbeda-bea Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 10 of 20 . LARUTAN ELEKTROLIT Telah diuraikan diatas bahwa suatu proses lapis listrik memerlukan larutan elektrolit sebagai media proses berlangsung. Tiap jenis pelapisan. Reaksi yang terjadi sewaktu pelapisan.

throwing power dan levelling ” yang baik. karena cyanid komplek terekomposisi oleh asam. tetapi anionnya tidak mudah tereduksi. larutn yang dipAkai dibuat dari garam logam cupper sulfat (CuSO4) dan H2O yang akan terurai seperti berikut : CuSO4 ↔ Cu 2+ + SO42H2O ↔ H+ + OH- Oleh karena larutan elektrolit selalu mengandung garam dari logam yang akan dilapis. tapi jika menempel pada permukaan katoda akan menimbulkan gangguan bagi terbentuknya microstructur lapisan. Menaikkan koefisien difusi dari ion logamnya atau menaikkan batas rapat arus (limiting current density). Garam-garam tersebut sebaiknya dipilih yang mudah larut. Beberapa bahan/zat kimia sengaja dimasukkan/ditambahkan kedalam larutan elektrolit bertujuan untuk mendapatkan sifat-sifat lapisan tertentu. Sebagai contoh pelapisan tembaga. akan terjadi endapan/lapisan yang terbakar pada rapat arus yang relatip rendah. Bila konsentrasi logamnya tidak mencukupi untuk diendapkan. larutan elektrolit harus mempunyai sifat-sifat seperti ”Covering power. Adanya ion klorida dalam larutan yang bersifat asam berfungsi : Mempercepat terkorosi/terkikisnya anoda atau mencegah pasipasi anoda. Kemampuan/aktivitas dariion logam ditentukan oleh konsentrasi dri garam logamnya. Walau anion tidak ikut langsung dalam proses terbentuknya lapisan. Fungsi natrium hydroksida dan kalsium hydroksida pada larutan yang brsifat basa adalah untu memperbaiki konduktivitas dan mencegah leberasi dari asam hydrocyanat oleh karbon dioksida (CO2) yang masuk kedalam larutan dari udara. SifatDasar-dasar Proses Elektroplating Page 11 of 20 . Sedangkan larutan yang bersifat basa (alkali) yang banyak digunakan pada proses lapis listrik adalah garam komplek cyanida.tergantung pada sifat-sifat elektrolit yang diinginkan. Selain itu. derajat disosiasi dan konsentrasi unsur-unsur lain yang ada didalam larutan.

sifat tersebut antara lain tampak rupa (appearance). karbon. menurunkan biaya bahan kimia yang dipakai. Anoda ini diutamakan selain sebagai penghantar yang baik juga tidak mudah terkikis oleh larutan dengan atau tanpa aliran listrik. paduan timbal-tin. maka pada anoda akan terjadi pelepasan ion logam dan oksigen (reduksi). Anoda tidak larut adalah paduan dari bahan-bahan baja nickel. peranan anoda sangat penting dalam menghasilkan kualitas lapisan. platina-titanium dan lain sebaginya. maka ditambah/dimasukkan unsur yang berfungsi sebagai penyangga (buffer/pengatur pH). tetapi bila anoda tersebut hanya dipakai sebagai penghantar arus saja (conductor of current). selanjutnya diendapkan pada katoda. kekerasan (hardness) dan struktur mikro lapisan yang terjadi (microstructur). Adanya arus listrik yang mengalir melalui larutan elektrolit diantara kedua elektroda. Pengaruh kemurnian/kebersihan anoda terhadap elektrolit dan penentuan optimalisasi ukuran serta bentuk anoda perlu dipikirkan/diperhatikan. Tujuan dipakainya anoda tidak larut adalah untuk: Mencegah terbentuknya logam yang berlebihan dalam larutan Page 12 of 20 Dasar-dasar Proses Elektroplating . Dengan perhitungan/pertimbangan yang cermat dalam menentukan anoda pada proses pelapisan dapat memberikan keuntungan yaitu meningkatkan distribusi endapan. keuletan (ductility). kegetasan lapisan (brittlness). ANODA Pada proses pelapisan secara listrik. misalnya pada larutan nickel digunakan asam borat dan sodium hydroksida pada larutan yang bersifat basa. Ion logam direduksi kembali secara kontinyu dalam atom logam. mengurangi kontaminasi laruitan. Dari anoda terlarut akan terbentuk ion logam sewaktu atom logam dioksidasi dan melepaskan elektron-elektron yang sebanding dengan elektronelektron dari katoda. anoda ini disebut anoda tak larut (unsoluble anoda). meningkatkan efisiensi produksi dan mengurangi timbulnya masalah-masalah dalam proses pelapisan. Untuk mengatur pH. Peristiwa ini dikenal sebagai proses pelapisan dengan anoda terlarut (soluble anoda). VI. selanjutnya ion logam tersebut dan gas hydrogen diendapkan pada elerktroda katoda.

Hal ini dikarenakan harga anoda terlarut 2-4 kali lebih murah dibandingkan harga jumlah logam equivalen yang diserap/diambil dari larutan garam logam. maka usahakan penggunaan anoda yang semurni mungkin. sehingga perlu diperhitungkan besarnya rapat arus terhadap luas permukaan anoda. Kemurnian anoda terlarut dapat meningkatkan effisiensi anoda. Oleh karena itu anoda jenis ini tidak bisa digunakan dfalam larutan yang mengandung bahan-bahan organik (organic agent) atau cyanid.- Mengurangi nilai investasi peralatan Menghindari dari kehilangan Kerugian penggunaan anoda tidak larut adalah cenderung teroksidasinya unsur-unsur tertentu dari anoda tersebut kedalam larutan. Garam logam sering ditambahkan dalam larutan bertujuan untuk menjaga kestabilan komposisi larutan dari pengaruh unsur-unsur yang larut dari anoda tidak larut. Pengotor dalam anoda juga dapat menyebabkan terjadi pasivasi dan mengurangi effisiensi anoda secara drastis. mereka lebih menyukai memakai anoda terlarut. Bagi industri pelapisan. karena kontaminasi anoda adalah penyebab/sumber utama pengotor. tetapi rapat arus yang tinggi pada saat pelapisan berlangsung akan menyebabkan pasivasi pada anoda. Beberapa kriteria yang perlu diperhatikan dalam memilih anoda terlarut antara lain adalah: Effisiensi anoda yang akan dipakai Jenis larutan elektrolit Kemurnian bahan anoda Bentuk anoda Rapat dan kapasitas arus yang disuplay Cara pembuatan anoda Effisiensi anoda akan turun/berkurang akibat adanya logam pengotor (metallic impurities) dan kekasaran butiran yang terdapat dalam larutan. anoda tidak larut kurang bagitu disenangi. Spesifikasi kemurnian anoda yang disarankan dapat dilihat pada tabel berikut ini: Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 13 of 20 . Pada proses lapis listrik yang umum dipakai perbandingan anida dengan katoda adalah 2 : 1.

Fe.98 Unsur-Unsur Pengotor Ag. Cd Ag. Sn. Anoda Cadmium Copper Lead Alloy Nickel Tin Tin – Lead Silver Zinc Kemurnian (%) 99.92 99. Sb. Pb. Rapat arus anoda usahakan dalam range yang dikehendaki agar mudah di kendalikan.95 99.bulat. Zn Bi. 8. Fe. Sb Ag. Cd.Sn. 7. Cu. Fe. Cd. S. Gambar 4. Si. ada yang berbentuk balok. As. Cu.95 99. Pb. Zn Ag. Bentuk-bentuk anoda. Bi. 2. Anoda dan gantunganya dapat menyupley arus dengan sempurna tanpa menimbulkan panas yang berlebihan. Ti dan Zn Ag. S. Pb.Tabel 1 Spesifikasi anoda terlarut No. Jarak dan luas permukaan anoda di atur sedemikian rupa. Cd. Cd.92 99. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 14 of 20 . Zn Ag.93 99. Fe. Cu. 3. As. Sn Sedapat mungkin menggunakan anoda sesuai bentuk yang akan di lapis. Zn Cu. sehingga dapat mengasilkan lapisan yang seragam dan rata. Fe. As. 1. Pb. Fe.97 99. Sb. Untuk bentuk bulat. Cu. Bi. kubus dan palet biasanya digunakan dengan memakai keranjang yang berfungsi sebagai tempat penampung anoda.98 99. 6. Cu. S. 5. Bentuk-bentuk anoda terdiri dari beberapa macam. Pb.palet lempengan dan kubus. sedangkan ukiuran sesuai dengan bentuk anoda tersebut.Bentuk=bentuk anoda dapat dilihat pada gambar 4. 4.

Air ledeng/kota yang masih mengandung anion dan kation. Karena akan menaikan arus listrik (throwing power). siler cyanid dan senyawa-senyawa lainya. warna yang suram (iridensceat) atau Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 15 of 20 . karena mudah bereaksi dengan cadnium cyanid. Air ledeng/kota di pakai untuk proses pembilasan. analisa larutan dan pembuatan larutan penambah . Pada proses pelapisan air yang digunakan harus berkualitas baik. Biasanya penggunaan air pada proses lapis listrik di kelompokan dalam empat macam yaitu : air untuk pembuatan larutan elektrolit air untuk menambah larutan elektrolit yang menguap air untuk pembilasan dan air untuk proses pendingin Dari fungsi air tersebut dapat ditentukan kualitas air yang dibutuhkan untuk suatu proses. jika tercampur dengan ion-ion dalam larutan akan menyebabkan turunya efisiensi endapan/lapisan. Adanya logam-logam berat seperti besi dan mangan sebagai pengotor menimbulkan cacat-cacat antara lainkekasaran ( roughness). Unsur-unsur yang tidak diinginkan dalam larutan adalah unsur kalsium dan magnesium. Unsur-unsur garam lokal alkali (sodium/potasium) tidak begitu mempengaruhi konsentrasi larutan sewaktu operasi pelapisan berlangsung. cupper cyanid. Sedangkan air bebas mineral (aquadest DM) di pakai khusus ubtuk pembuatan larutan. sulfat. Umumnya unsur-unsur yang terdapat dalam air adalah kandungan dari garam-garam seperti bicarbonat. noda-noda hitam (staining). bisa di pakai pengganti aqua DM.VII. gores (streakness). AIR Pada industri pelapisan secara listrik. porous. Air suling (aquadest) dengan ukuran spesifikasi konduktifitasnya tidak melebihi dari 50 microhos. chlorid dan nitrat. proses etsa (etching) dan pendingin. sehingga akan mempercepat kejenuhan larutan. pencucian. Tetapi akan menghasilkan lapisan lapisan yang getas (brittle). air merupakan salah satu unsur pokok yang selalu harus tersedia. Kecuali pada larutan lapis nikel.

sedangkan untuk menghaluskan permukaannya dilakukan dengan proses buffing. laken dan sebagainya. VIII PROSES LAPIS LISTRIK Secara garis besarnya proses lapis listrik dapat di kelompokan dalam tiga tahap pengerjaan yaitu: 8. Untuk mendapatkan kondisi seperti tersebut perlu di lakukan pengerjaan pendahuluan dengan tujuan: Menghilangkan semua pengotor yang ada di permukaan benda kerja seperti pengotor organik. Teknik pengerjaan pendahuluan ini tergantung dari pengotoran. Untuk itu maka diperlukan air murni (reagent water) untuk membuat larutan dan menggantikan larutan yang menguap. Hal ini mutlak agar bisa di dapat hasil lapisan dengan cara listrik yang baik. kulit. Pembersihan secara mekanik: Pekerjaan benda kerja. Prinsipnya sama seperti proses gerindra. bebas dari bermacam-macam pengotor. kadang-kadang diperlukan proses lain misalnya brushing. Biasanya untuk menghilangkan goresan-goresan dan geram-geram tersebut dilakukan dengan mesin gerindra. tetapi roda/wheel polesnya yang berbeda yaitu terbuat dari bahan katun. tetapi secara umum dapat diklasifikasikan sebagai berikut: 8. modular dan keropos. brigthening dan lain sebagainya. anorganik / oksida dan lain-lainya. Selain dari pengerjaan seperti tersebut diatas. Proses pengerjaan persiapan/tahap pendahuluan (pre treatment) Sebelum lapis listrik dilakukan.mengkristal.2. ini betujuan untuk menghaluskan permukaan dan menghilangkan goresan-goresan serta geram-geram yang masih melekat pada Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 16 of 20 . Mendapatkan kondisi fisik permukaan yang lebih baik dan lebih aktif.1. permukaan benda kerja yang akan di lapis harus dalam kondisi benar-benar bersih.

8. Pencucian dengan alkalin digolongkan dalam dua cara yaitu dengan cara biasa (alkalin degreasing) dan dengan cara electro (electrolitic degreasing). Prinsipnya benda kerja diuapkan dengan pelarut tersebut dalam keadaan panas. Pembersihan ini perlu sekali. Pembersihan/pencucian dengan pelarut (solvent): Proses ini bertujuan untuk membersihkan lemak. Pembersihan secara biasa hádala meredamkan benda kerja dalam larutan alkalin dalam keadaan panas selama 5-10 menit. Pembersihan dilakukan dengan cara:  Vapour degreasing yaitu proses pembersihan dengan pelarut yang tidak mudah terbakar. Seandainya lemak atau minyak yang menempel lebih banyak.8. Lamanya perendaman harus disesuaikan dengan kondisi permukaan benda kerja. Pembersihan secara electro bertujuan selain akan didapatkan hasil pembersihan yang lebih bersih juga meningkatkan kecepatan pencucian. minyak. garam dan kotoran-kotoran lainnya dengan pelarut organik. Prinsip kerjanya dengan menggunakan arus listrik dan katoda dipakai dengan lempengan carbon. begitu pula sebaliknya. karena mengurangi kontak antara lapisan dengan logam dasar/benda kerja. Pembersihan/pencucian dengan alkalin (Degreasing): Pekerjaan ini bertujuan untuk membersihkan benda kerja dari lemak atau minyak-minyak yang menempel. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 17 of 20 . tetapi dilakukan pada temperatur kamar dengan cara diusap/dipoles.3. kemudian kotoran akan mengembun/menguap karena adanya reaksi dari bahan pelarut.4. Bila benda kerja yang akan dibersihkan ditempatkan pada arus listrik negatif. karena lemak maupun minyak tersebut akan mengganggu pada proses pelapisan.  Proses pembersihan pada temperatur kamar yaitu dengan menggunakan pelarut organik. maka dianjurkan lamanya perendaman ditambah hinga permukaan bersih dari noda-noda tersebut. maka prosesnya disebut anoda cleaning/degreasing.

Adapun keuntungan menggunakan larutan asam chlorid adalah : Menghasilkan keseragaman permukaan benda kerja Mudah dibilas Terjadinya over pickling lebih kecil Operasinya lebih mudah Ongkos lebih rendah Pencemar bau rendah/kecil Keuntungan menggunakan asam sulfat yaitu: Untuk barang/benda kerja dari besi/baja cor yang maíz mengandung sisasisa pasir dapat digunakan larutan campuran dari asam sulfat dan asam fluorid. asfaltum. Ada dua jenis bahan inhibitor yang dikenal yaitu: Bahan organik alam (natural organic) yaitu glatine. lumpur minyak. sulfonate. Bahan organik sintetis (synthetic organic) yaitu thio aldehyd. sebab larutan tersebut dapat berfungsi selain untuk menghilangkan oksida/serpih juga dapat membersihkan sisa-sisa pasir yang menempel pada benda kerja. Larutan asam ini terbuat dari pencampuran air bersih dengan asam antara lain: Asam chlorid (HCl) Asam sulfat (H2SO4) Asam sulfat dan asam fluorid ( HF) Reaksi proses pickling sebetulnya adalah proses electro kimia dalam sel galvanis antara logam dasar (anoda) dan oksida (katoda). Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 18 of 20 . Gas H2 yang timbul dapat mereduksi ferri oksida yang mudah larut. Woodtar dan sebagainya. aldehyde dan sebagainya.8. coaltar.5. pyridine. Pencucian dengan asam (pickling): Pencucian dengan asam bertujuan untuk membersihkan permukaan benda kerja dari oksida atau karat dan sejenisnya secara kimia melalui perendaman. Dalam reaksi ini biasanya diberikan inhibitor agar reaksi tidak terlalu cepat dan menghasilkan pembersihan yang merata. quinidine.

Karena kondisi tersebut menentukan berhasil atau tidaknya proses pelapisan serta mutu pelapisan yang dihasilkan. maka benda kerja tersebut sudah siap untuk dilapis. Rapat arus (current density): Rapat arus adalah bilangan yang menyatakan jumlah arus listrik yang mengalir perluas unit elektroda. kondisi operasi perlu/penting sekali untuk diperhatikan.1. Rangkaian sistem pelapisan dapat dilihat seperti yang digambarkan pada gambar 5. Gambar 5.Terbagi dalam 2 macam yaitu rapat arus yang di perhitungkan ialah rapat arus katoda yaitu banyakna arus listrik yang di perlukan untuk mendapatkan atom-atom logam pada tiap satuan luas benda yang akan di lapis. Dalam operasi pelapisan. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 19 of 20 .IX. Skematis rangkaian proses pelapisan. Proses lapis listrik Setelah benda kerja betul-betul bebas dari pengotor. Kondisi operasi yang perlu di perhatikan tersebut antara lain: 9.

pH Larutan: pH di pakai untuk menentukan derajat keasaman suatu larutan elektrolit dan dalam operasi lapis listrik. makin tinggi raat arus.3. pH larutan dapat diatur /diukur dengan alat ukur pH meter atau colorimeter. Maksudnya adalah bila Luas Permukaan benda kerja bervariasi. Temperatur/Suhu larutan: Temperatur larutan dapat mempengaruhi hasil lapisan. rapat arus ditentukan 3. sehingga endapan ion logam pada katoda akan lebih cepat sirkulasinya. voltage 6 volt. makin meningkat kecepatan pelapisan dan dapat memperkecil ukuran/bentuk kristal.Tetapi bila rapat arus terlalu tinggi akan mengekibatkan lapisan kasar. Umumnya untuk larutan yang Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 20 of 20 . 9. Hal ini dikarenakan lapisan terbakar. Sebagai contoh pada pelapisan tembaga.4. tetapi tegangan tetap 6 volt.6 A/dm2. Satuan arus dinyatakan dalam Amp/dm2 atau Amp/ft2 atau Amp/in2.Biasanya tegangan yang digunakan pada operasi lapis listrik adalah 6-12 volt. 9. Pada temperatur yang tingi. daya larut bertambah besar dan terjadi: penguraian garam loga yang menjadikan tingginya konduktifitas serta menambah mobilitas ion logam. 9.Rapat arus dapat di atur . Tegangan arus (Voltage): Seperti di jelaskan sebelumnya bahwa pada proses lapis listrik. Sebagai contoh dari pengaruh temperatur terhadap lapisan dapat dijelaskan sebagai berikut. tegangan yang digunakan harus konstan sehingga yang di variablekan hanyalah ampere saja. bersisik dan akan terbakar/hitam.2. Kenaikan temperatur larutan menyebabkan bertambahnya ukuran kristal.Tujuan menentukan derajat keasaman ini adalah untuk melihat atau mengecek kemampuan dari larutan dalam menghasilkan lapisan yang lebih baik. tetapi viscositas jadi berkurang. Bila temperatur larutan pada pelapisan chromium decorative lebih rendah dari 45 C rapat arus sama (20 A/Dm2). sedangkan luas benda yang akan dilapisi 10 dm2 maka rapat arus adalah 36 A/dm2.sedangkan voltagenya tetap. tetapi hasil lapisan tampak suram juga. maka rapat aruslah yang di variasikan sesuai dengan ketentuan. pH berarti juga pOH-.

pH-nya berkisar 4.5-5. Untuk mengatur nilai pH sesuai dengan yang diinginkan.derajat keasaman (pH) nya berkisar antara 11-14. Dasar-dasar Proses Elektroplating Page 21 of 20 . tetapi untuk apis lindung dengan lacquar biasa secara electro dan dipping.5.6. Proses pengerjaan akhir ( Post Treatment) Benda kerja yang telah dilakukan proses lapis listrik biasanya di bilas dan di keringkan.bersifat basa/alkali. digunakan sodium atau potassium hydroksida dan atau asam sulfat untuk larutan yang bersifat asam. Tetapi kadang-kadang perlu juga dilakukan pengerjaan lanjut seperti misalnya dipasipkan atau di beri lapis pelindung chromat (chromatting) atau lapis lindung transparan yaitu dengan Iaquar. sedangkan untuk larutan asam. Proses ini dilakukan dengan cara dipping biasa. 9.

UNIT 2 PERALATAN PROSES ELEKTROPLATING Peralatan Proses Elektroplating Page 1 of 9 .

putus dan lain sebagainya).1 Peralatan Utama Peralatan utama yang diperlukan pada proses lapis listrik (elektroplating) yaitu: 2.2. 12 volt dan jumlah arus (ampere) relatif rendah yaitu sampai 3000 ampere. tetapi oleh adanya panas yang berlebihan. Untuk mengurangi panas yang berlebihan.1. peralatan ini berfungsi sebagai sumber arus searah (DC). maka rectifier perlu dilengkapi dengan pendingin berupa: Konveksi udara biasa Konveksi udara dengan menggunakan tenaga blower Menggunakan sirkulasi oli Menggunakan sirkulasi air Menggunakan air dan udara Rectifier dapat dioperasikan terus menerus pada kapasitas yang maksimal bila panas yang terjadi tidak berlebihan. Faktor yang dapat merusakkan rectifier antara lain korosi dan macetnya komponen listriknya (korsluiting.1 Rectifier Merupakan salah satu peralatan utama dalam proses elektroplating.1 Rectifier untuk proses elektroplating. karena rusaknya rectifier ini bukan disebabkan oleh arus listrik yang terjadi. 9. Dalam hal operasi dan pemeliharaannya perlu diperhatikan antara lain: Gambar 2. Peralatan Proses Elektroplating Page 2 of 9 . Output tegangan yang keluar: 6.

Jenis bahan bak dan pelapisnya untuk setiap jenis larutan yang akan ditampung dapat dilihat pada tabel 2. Dudukan bak diperlukan agar bak terdukung lebih kuat dan tidak adanya kontak langsung dengan lantai. Tidak mencemari larutan yang ditampungnya. Tahan terhadap suhu/temperatur larutan. sehingga kemungkinan kerusakkan sebagai akibat basahnya lantai dapat dikurangi.2 Bak Larutan Bak larutan merupakan salah satu peralatan utama yang berfungsi untuk menampung larutan elektrolit. Untuk memenuhi persyaratan tersebut diatas. Setelah ditentukan jenis bahan bak dan pelapis serta bentuk dan ukurannya. penguat dan dasar bak.1.1.2. maka hal lain yang juga diperhatikan adalah dudukan bak.2. Peralatan Proses Elektroplating Page 3 of 9 . perlu diperhatikan konsrtuksi bak yang dikaitkan dengan bentuk dan ukuran benda kerja yang akan dilapis. Bahan bak tergantung dari jenis dan kondisi larutan yang ditampungnya dengan persyaratan sebagai berikut: Tahan terhadap korosi yang ditimbulkan oleh larutan. maka dalam merancang suatu bak (Gambar 2. terkadang bak tersebut harus dilapis. Selain memperhatikan bahan bak. Bak Larutan. dan air pembilas. Gambar 2. bibir bak. larutan pencuci.2).

Jenis Larutan Kuningan Kadmium (asam) Kadmium (alkalin) Chromium Tembaga (asam) Tembaga (alkalin) Emas (asam) Emas (alkalin) Timbal (asam) Nikel Perak Timah (asam) Timah (alkalin) Seng (asam) Seng (alkalin) Anodizing (asam chromium) Anodizing (asam sulfat) Pelat Baja Stainless S TD TD TD TD TD TD S TD TD TD TD TD TD TD TD TD Pelat Baja B TD B TD TD B TD TD TD TD TD TD B TD B B TD Pelat Baja Lapis Karet S B TD TD B TD TD TD B B B B TD B S TD S Pelat Baja Lapis Plastik B B B B B S B B B B B B TD B B TD S Pelat Baja Lapis Timbal TD TD TD B S TD TD TD TD TD TD TD TD TD TD TD B Pelat Baja Lapis Bata Tahan Asam TD S TD S S TD TD TD S TD TD S TD S TD S S Bahan Plastik B B B S B S B B S B B B TD B S TD S Plastik Fiber Glass S S S S B B S S S S S S TD S TD TD S Bahan Keramik S S TD TD S TD S S TD TD S S TD S TD TD S Peralatan Proses Elektroplating Page 4 of 9 .Tabel 2.1 Jenis bahan dan pelapis bak larutan.

arus terdistribusi dengan baik dan dapat mencegah penumpukkan udara/gas. pembilasan dan proses pelapisannya. hal ini akan menurunan kualitas lapisan. penguat bak biasanya dipasang pada bagian pinggang bak dengan bibir bak. Rak (Gambar 2. bentuk dan ukuran serta jenis bahan rak perlu diketahui/dirancang sedemikia rupa. karena apabila terlalu besar. Pada bagian yang terendah biasanya dibuat lubang pipa yang dilengkapi denga kran untuk jalan keluar larutan.2. sehingga memudahkan pengerjaan proses pembersihan atau pengeringan larutan.5 cm dari sisi bak dan harus terendam sekurang-kurangnya 58 cm dari permukaan atas larutan.Bibir bak diperlukan untuk menguatkan bak sehingga bagian sisi bak akan lebih kaku dan sebagai tempat dudukan batang penggantu anoda dan katoda (rak atau benda kerja). 2.1 Rak Benda kerja . Ukuran dan jumlah titik kontak antara barang dan rak diusahakan sekecil mungkin. sehingga tidak menimbulkan panas yang berlebihan. Setelah bahan rak. Untuk menentukan rapat arus yang akan dialirkan. 12. setiap sebelum dan setelah selesainya operasi: pembersihan. Benda kerja pada rak. diusahakan agar tidak menimbulkan gas sekitar bagian yang terbuka. Dasar bak sebaiknya direncanakan sedemikian rupa. Seabagai contoh Peralatan Proses Elektroplating Page 5 of 9 2. pelindung rak hal lain yang perlu diperhatikan adalah sistem kaitan gantungan rak pada batang gantungan katoda dan anoda. sehingga cukup kuat untuk menahan berat benda kerja serta tidak menimbulkan panas yang berlebihan baik pada benda kerja maupun pada rak itu sendiri. biasanya dasar bak direncanakan miring atau bercelah.2 Peralatan Tambahan Rak benda kerja merupakan salah satu peralatan tambahan yang berfungsi sebagai tempat mengantungkan barang (benda kerja) yang akan dilapis dan sebagai penghantar arus listrik yang diperlukan oleh barang yang akan dilapis.3) harus mudah diangkat dari dan ke dalam bak. Bentuk kaitan tersebut perlu didesain sedemikian rupa agar kontak listrik sebaik mungkin. Penguat diperlukan untuk menjaga agar bak tidak bengkak (swelling) akibat tekanan larutan. Panjang rak setelah ditempati benda kerja tidak melebihi 15 cm dari dasar bak. maka pada barang akan tampak bekas gantungan.

Gambar 2.4 Bentuk rak keranjang (basket).3 diperlihatkan bentuk kaitan dan hubungan antara rak dan bendakerja serta pada gambar 2.3 Beberapa jenis rak untuk gantungan benda kerja. Peralatan Proses Elektroplating Page 6 of 9 .4 ditunjukkan rak jenis keranjang. Gambar 2.pada gambar 2.

Dinding yang berlubang dan dilengkapi dengan pintu dan anoda berada pada bagian dalam silinder barrel. juga sebagai agitasi larutan dalam usaha menghindari penumpukkan logam pelapis. yaitu sebagian dari barrel atau seluruhnya direndamkan dalam bak yang berisi larutan.2 Barrel Barrel berfungsi selain sebagai tempat menampung barang akan dilapis. dan lain-lain. Gambar 2. sehingga dapat mencegah terjadinya penimbunan udara pada daerah benda kerja.2. Bentuk dan ukuran barrel telah mempunyaistandar tertentu sesuai kapasitas dan ukuran produk (benda kerja) yang akan dilapis. baut. dan anoda terletak diluar barrel tersebut b.5 Jenis dan bentuk barrel untuk proses pelapisan. biasanya digunakan untuk proses pelapisan dari barang atau produk-produk yang berukuran kecil misalnya mur. Horizontal Barrel. Barrel dapat diklasifikasikan sebagai berikut: 1.5. Barrel seperti yang ditunjukkan pada gambar 2. Putaran barrel menyebabkan sirkulasi larutan berjalan dengan sempurna. timbul sebagai akibat adanya kontak antara benda kerja dengan poros barrel yang fleksibel dan antar benda kerja itu sendiri. Dinding silinder yang berlubang dan mempunyai pintu yang dapat dilepaskan.2. Kontak arus listrik didalam barrel. Peralatan Proses Elektroplating Page 7 of 9 . dengan ketentuan: a.

Sistem pemanasan dan pendinginan dapat dilakukan dengan dua cara yaitu dari dalam bak atau dari luar bak. sedangkan media pendingin yang biasa digunakan adalah gas atau air. larutan dan anodanya berada dibagian luar barrel. Media yang biasa digunakan untuk mengalirkan pemanas. Pemanasan atau pendinginan dari dalam bak (gambar 2.3 Pemanas (Heater) Dalam proses lapis listrik atau elektroplating. b. sedangkan anodanya berada pada bagian luar barrel. 2. untuk mencapai hasil lapisan yang diinginkan. tergantung pada volume dan jenis larutan. Bagian oblique barrel terendam dalam bak dan mempunyai dinding yang berlubang-lubang dengan diameter: 3-5 mm.2. pemanasan atau pendinginan larutan elektrolit adalah berfungsi untuk mencapai kondisi operasi yang dipersyaratkan. sedangkan sistim pemanasan dan pendiginan dari luar bak dapat dilakukan dan tidak tergantung pada luas permukaan bak. Oblique barrel yang berbentuk tabung silinder dengan posisi 45o. Oblique Barrel a.6 Pemanas listrik (heater). Peralatan Proses Elektroplating Page 8 of 9 . air panas dan listrik. Jumlah pemanasan atau pendingan yang dibutuhkan.6) dapat dilakukan dengan pemanas celup (immersion heater) dan akan efektif bila luas permukaan heater ± 4 cm2. yaitu uap air.2. Gambar 2.

2. 2.5 Saringan (Filter) Penyaringan adalah suatu proses pemisahan pengotor padat dalam larutan dengan cara memasukkan bahan kimia melalui suatu media yang dapat menahan lajunya pengotor padat tersebut. Pengisian kembali ion-ion logam yang berkurang didekat katoda atau bendakerja. Peralatan Proses Elektroplating Page 9 of 9 . pengotor kimia atau logam serta dari udara agitasi. 2. larutan sekitar katoda menjadi kurang pekat (encer).7) atau dengan cara menggunakan bak penyaring atau bak pembantu. 2.4 Agitator Selama proses pelapisan berlangsung. Sumber utama terjadinya kontaminasi dalam larutan adalah berasal dari anoda.2. Oleh karena itu untuk mendapatkan hasil lapisan yang tebal dan merata. Mencegah terjadinya gelembung udara pada permukaan benda kerja. debu. Sistim agitasi dapat dilakukan dengan cara disemprot udara atau dengan cara sirkulasi larutan dengan menggunakan pompa ataupun secara mekanik dengan menggunakan propeller. Kejadian ini disebut konveksi natural dan akan menyebabkan ketebalan lapisan menjadi berkurang dan rapat arus menjadi bertambah. udara kotor. karena sebagian ion logam terendapkan pada benda kerja sehingga menyebabkan arus listrik akan bergerak ke bagian atas larutan. 3. Jenis dan jumlah tingkat kontaminasi yang hendak dibersihkan. Menghindari penumpukkan ion-ion logam dalam larutan. menggunakan alat penyaring (gambar 2. Laju aatau kecepatan penggantian larutan akibat kantaminan. Kriteria yang diperlukan untuk menentukan sistim penyeringan adalah sebagai berikut: 1.perlu dilakukan sistim agitasi dengan tujuan sebagai berikut: 1. Teknik penyaringan ini dapat dilakukan dengan cara langsung. Frekwensi penyaringan yang diperlukan dalam menjaga kondisi larutan.2. 3.

7 Peralatan penyaring (filter). Peralatan Proses Elektroplating Page 10 of 9 .Gambar 2.

Ni-Cr dan Zn Page 1 of 26 . Ni-Cr DAN Zn Proses Elektroplating Cu.UNIT 3 PROSES ELEKTROPLATING: Cu.

Ni-Cr dan Zn Page 2 of 26 .1 Elektroplating Tembaga (Cu) Manfaat Lapisan Cu: • Sebagai lapisan antara. • Sebagai stop-offs dalam proses perlakuan panas. • Sebagai lapisan dekoratif. • Sebagai cetakan dalam proses electroforming. • Sebagai lapisan tahan korosi. Jenis elektrolit pelapisan tembaga: • Larutan Sianida • Larutan non Sianida • Larutan Alkalin Pyrophosphat • Larutan Sulfat • Larutan Fluoborat Komposisi & kondisi operasi proses elektroplating Cu dalam larutan Sianida Proses Elektroplating Cu. • Sebagai pencegah thermal shock. • Sebagai lapisan penghantar listrik (sirkuit elektronik).3. • Sebagai pelindung terhadap pengaruh electromagnetic.

Ni-Cr dan Zn Page 3 of 26 . rendahnya konsentrasi sianida dapat menyebabkan hasil lapisan menjadi kasar dan tipis tetapi peningkatan konsentrasi sianida akan berpengaruh pula terhadap: laju korosi anoda yang semakin tinggi dan menurunkan efisiensi katoda. • Larutan Sianida Rochelle konsentasi tinggi digunakan untuk menghasilkan ketebalan diatas 8 mikron. konstruksi dan bak larutan. benda kerja harus dilakukan pelapisan Cu-strike terlebih dahulu dengan ketebalan sekitar 1.• Larutan Sianida Rochelle umumnya digunakan untuk menghasilkan lapisan Custrike (ketebalan: 1.3 mikron dengan jenis larutan Sianida. • Untuk benda kerja baja penambahan NaOH atau KOH akan meningkatkan konduktivitas larutan dan mencegah korosi pada wadah (baja) anoda. • Jenis larutan Sianida Rochelle dapat digunakan untuk jenis proses barrel plating.0 to 3.8 g/L • Untuk benda kerja paduan aluminium.3 to 3.5 A/dm2 dan voltase bak normalnya antara 4 dan 6 V • Pengadukan larutan akan menghasilkan komposisi elektrolit yang seragam. • Untuk benda kerja seng hasil die castings. • Proses Cu-plating dengan larutan jenis efisiensi tinggi. konsentrasi hidroksida harus dipertahankan antara1. pH larutan harus diturunkan sekitar 9. • Pada jenis larutan Sianida. • Pada Cu-plating dengan menggunakan larutan jenis efisiensi tinggi akan menghasilkan kecepatan proses pelapisan Cu yang 3-5 kali lebih tinggi dibandingkan jenis Sianida Rochelle.5 • Jenis larutan Sianida dapat dioperasikan pada temperatur kamar tatapi umumnya antara 32 and 49 °C untuk meningkatkan laju pelapisan dan meningkatkan pelarutan anoda • Jenis larutan Sianida umumnya dioperasikan pada rapat arus katoda dari 1-1.710 dengan penambahan sodium bicarbonate dan selalu ditambahkan tartaric acid atau sodium bicarbonate pada larutan untuk mempertahankan pH antara10-10.0 mikron). korosi apada anoda yang lebih seragam dan meningkatkan rapat arus sehingga lapisan Cu yang terbentuk akan lebih mengkilap Proses Elektroplating Cu.

Proses Elektroplating Cu. Tingginya konsentrasi karbonat akan menurunkan efisiensi anoda serta menghasilkan lapisan yang kasar dan berpori. reducing agents (hexavalent chromium) dan wetting agents (surfactants) • Pada jenis larutan Sianida Rochelle.3. Ni-Cr dan Zn Page 4 of 26 .6 dan 12. elektrolitnya paling baik dioperasikan pada temperatur 60-71 °C dan pH antara 11. hal ini dapat meningkatkan pemakaian rapat arus yang tinggi sampai 6 A/dm2. • pH Larutan Sianida Rochelle sebaiknya dipertahankan antara 12.0.• Rapat arus yang lebih dari 5 A/dm2 dapat diterapkan dengan jenis pengadukan udara dan agitasi pada benda kerja • Penambahan additive dapat dilakukan untuk meningkatkan efisiensi larutan (menurunkan efek pengotor dalam larutan) dengan penambahan complexing agents (tartrate salts). dapat dioperasikan pada temperatur yang lebih tinggi sampai diatas 77 °C (170 °F). • Untuk proses Cu-plating material paduan seng die castings. akan meningkatkan efisiensi anoda dan katoda • Peningkatan pengadukan larutan. potassium salts dapat diganti dengan sodium salts pada konsentrasi logam Cu tinggi sampai 38 g/L.2 dan 13.akan meningkatkan efisiensi anoda tetapi akan meningkatkan pembentukan karbonat (karena oksidasi sianida dan juga penyerapan CO2 bereaksi dengan larutan alkali dalam larutan). Karbonat dapat diambil dengan cara pendinginan larutan. • Peningkatan temperatur pada larutan Sianida Rochelle. • Jenis larutan Sianida Rochelle umumnya dioperasikan pada temperatur antara 54 and 71 °C yang dapat menghasilkan efisiensi terbaik yang dpat menghasilkan laju pelpisan yang lebih tinggi • Pada larutan Sianida jenis efisiensi tinggi.

Proses Elektroplating Cu.Kurva pengaturan pH larutan elektrolit Rochelle • Konduktivitas larutan Sianida Rochelle dapat ditingkatkan dengan penambahan sodium hidroksida 2-15 g/L ( to 2 oz/gal). Sodium hidroksida sebaiknya diturunkan jika larutan tersebut dioperasikan untuk proses pelapisan: zinc-base die castings. Untuk mencegahnya perlu ditambahkan wetting agents. aluminum. • Perlu pengontrolan larutan dan penyaringan larutan secara periodik dengan pemberian karbon aktif.3 A/dm2 yang menghasilkan lapisan warna kuningan. Ni-Cr dan Zn Page 5 of 26 . atau magnesium (larutan dapat terkontaminasi oleh seng dan dapat diambil secara elektrolisis larutan pada temperatur kamar dengan rapat arus 0. • Kontaminasi dari besi. tidak dapat diambil dari larutan dan menyebabkan penurunan efisiensi arus.2-0.

Kurva hubungan antara waktu proses elektroplating Cu dengan efisiensi siklus pelapisan Kurva hubungan antara efisiensi siklus pelapisan dengan ketebalan lapisan hasil elektroplating Cu Proses Elektroplating Cu. Ni-Cr dan Zn Page 6 of 26 .

•Pada operasi dengan rapat arus antara 0.5-13. sehingga dapat digunakan untuk Cu-plating strike ataupun akhir •Tidak ada pengaturan awalterhadap pelapisan benda kerja sengc die cast dan zincated aluminum •Pada operasi dengan pH dibawah 9.5 A/dm2.5 g/L. •Kurangnya pengadukan larutan dapat menghasilkan lapisan yang buram dan terbakar pada arus antara1.Batasan konsentrasi & kondisi operasi pada elektroplating Cu dalam larutan alkaline non cyanide •Jenis larutan non sianida dioperasikan dengan konsentrasi logam Cu yang relatif lebih rendah yaitu antara 7. Ni-Cr dan Zn Page 7 of 26 . efisiensi katoda mendekati 100%.5-3. •Kelebihan jenis larutan ini adalah tidak menghasilkan gas sianid (beracun).0 A/dm2 •pH larutan jenis non sianida adalah antara 9-10. akan menghasilkan lapisan yang lebih mengkilap tetapi daya lekatnya relatif lebih rendah.5 to 2. dan hasil lapisan lebih stabil (karena tidak ada dekomposisi sianid yang menghasilkan karbonat). pengolahan limbah lebih murah. dan pada pH diatas 10 dapat menyebabkan lapisan buram •Kontaminan pada jenis larutan non sianida lebih rendah. Perlakuan terhadap kotoran pada larutan dilakukan dengan menggunakan hidrogen peroksida dan karbon aktif Proses Elektroplating Cu.

•Pada jenis larutan pyrophosphate. •Menghasilkan lapisan yang halus. •Karakteristik larutan jenis ini adalah diantara larutan sianid dan jenis asam (lebih mendekati larutan sianid jenis efisiensi tinggi). •Larutan jenis ini mudah dioperasikan dan dikontrol. •Lapisan yang dihasilkan semi mengkilat. •Larutan jenis asam sulfat menghasilkan efisiensi katoda antara 95-100%. •Efisiensi katoda hampir 100%. mengkilat rata dan lebih ulet. •Larutan ini dapat dioperasikan pada pH netral.5 A/dm2 •Pengontrolan dan penyaringan larutan terhadap kontaminan dilakukan dengan menggunakan karbon aktif. rapat arus anoda dipertahankan antara 2-4 A/dm2. dan pada lapisan stopoff. Ni-Cr dan Zn Page 8 of 26 . maka rapat arus tidak boleh lebih dari 4. •Jika pengadukan larutan atau agitasi benda kerja rendah. Proses Elektroplating Cu.Batasan konsentrasi & kondisi operasi pada eletroplating Cu dalam larutan copper pyrophosphate •Jenis larutan alkalin pyrophosphate digunakan untuk aplikasi dlapisan dekoratif termasuk pelapisan pada plastik papan sirkuit elektronik.

Spesifikasi dan standar untuk elektroplating Cu Perkiraan waktu elektroplating Cu (valensi 1) untuk menghasilkan ketebalan tertentu pada efisiensi 100% Proses Elektroplating Cu. Ni-Cr dan Zn Page 9 of 26 .

•Perlu penambahan waktu hasil koreksi sebagai akibat adanya kehilangan dari efisiensi katoda yaitu sebesar nilai perbedaan antara efisiensi aktual dengan efisiensi 100%. Proses Elektroplating Cu. dan besi yang mengendap pada larutan dan material organik dapat menyebabkan pitting pada lapisan. Calcium. •Untuk larutan yang mengandung Cu valensi-2 (non Sianida. maka ditambahkan 30%nya dari perkiraan waktu yang terdapat pada tabel tersebut. Ni-Cr dan Zn Page 10 of 26 .         Menyebabkan kasarnya lapisan Cu yang dihasilkan. antara lain dari: benda kerja selesai proses cleaner sehingga membentuk silikat pada larutan anoda yang terkorosi pengotor sulfida dari bendakerja yang larut material organik yang terbawa dan tidak larut dalam air karbonat yang terbawa dan tidak larut dalam air oli partikel halus ataupun debu Faktor lain yang mempengaruhi kualitas lapisan Cu:     Kemurnian air yang digunakan. Contoh untuk efisiensi katoda sebesar 70%. maa waktu proses elektroplatingnya manjadi 2 kalinya dari watu pada tabel tersebut. magnesium. Klorida diatas 0. dan fluoborate). pyrophosphate.5 (besi tidak dapat mengendap). Sulfat. Pengotor. Besi yang terlarut dalam air dapat menyebabkan lapisan menjadi kasar pada diatas 3.•Jenis larutan Sianida mengandung Cu valensi-1.44 g/L (0.05 oz/gal) dapat menyebabkan pembentukan lapisan yang tidak rata (globular).

Ni-Cr dan Zn Page 11 of 26 .2 PELAPISAN NIKEL Jenis pelapisan ini selain ada yang bertujuan untuk dekoratif seperti lapisan nikel mengkilap. Jika konsentrasi garam nikel rendah maka permukaan lapisan akan “terbakar“ jika rapat arus yang digunakan tinggi dan efesiensi katoda menjadi rendah. Tabel dibawah ini memperlihatkan komposisi dan kondisi operasi dari beberapa jenis eletrolit Nikel. ada juga yang bertujuan teknik yaitu untuk meningkatkan kekerasan permukaan komponen misalnya lapis nikel keras (hard nickel).Jenis pengadukan pada elektroplating Cu Grafik ketebalan dan berat lapisan tembaga terhadap luas yang dilapis 3. Sumber logam pada pelapisan nikel berasal dari garam nikel. Proses Elektroplating Cu. lapisan nikel suram dan lapisan nikel hitam. Bila konsentrasi garam nikel tinggi maka rapat arus semakin tinggi dan kecepatan pelapisan semakin meningkat.

konsentrasi logam nikel dan derajat agitasi. Ni-Cr dan Zn Page 12 of 26 . maka perlu dilakukan pengadukan (agitasi) baik dengan cara mekanik. Proses Elektroplating Cu. sirkulasi larutan. Efesiensi katoda menjadi rendah jika: • Konsentrasi garam Nikel terlalu rendah • Rapat arus terlalu rendah • Rapat arus terlalu tinggi jika dibandingkan dengan temperatur larutan. Penambahan asam borat bertujuan untuk penyangga (buffer) sehingga mudah dalam pengontrolan pH larutan. Untuk mencegah stratifikasi larutan elektrolit dan menjaga agar temperatur dalam larutan seragam. udara.Nickel electroplating solutions Penambahan Nikel klorida dimaksudkan untuk mempercepat pengkorosian pada anoda dan meningkatkan konduktivitas larutan sehingga struktur kristal lapisan lebih halus dan kekerasan lapian meningkat. maupun penggoyangan pada katoda. Beberapa masalah yang mungkin timbul dalam pelapisan Nikel adalah sebagai berikut : 1.

• Temperatur larutan terlalu rendah • Jumlah hydrogen peroksida atau bahan anti pitting terlalu tinggi • pH larutan terlalu rendah 2. Ni-Cr dan Zn Page 13 of 26 . Lapisan Tidak sempurna / tidak menempel • Larutan bersifat alkalin (biasanya terlihat dari tampilan larutan yang keruh dan hasil pelapisan yang suram) • Larutan terlalu asam (pada katoda timbul gelembung gas/evolusi hydrogen yang berlebihan sehingga lapisan keras dan mengkilap) • Adanya lemak pada permukaan benda kerja Jenis pelapisan nikel yang banyak dijumpai di lapangan sebenarnya jenis pelapisan nikel mengkilap (lihat komposisi pada tabel sebelumnya). Rendahnya kecepatan pelapisan jika: • Sumber logam pelapis sedikit • Temperatur larutan terlalu rendah • Konsentrasi hydrogen peroksida terlalu tinggi • Rapat arus terlalu rendah 4. sehingga biaya produksi menjadi meningkat. tetapi hal ini sangat tidak ekonomis. Sebenarnya lapisan yang mengkilap dapat dihasilkan dari lapisan nikel biasa (suram) yang digosok-gosok. biasanya dilakukan penambahan bahan pemengkilap (brightener) ke dalam larutan elektrolit. sedangkan brightener kelas II dimaksudkan untuk memperoleh permukaan Proses Elektroplating Cu. Brightener kelas I digunakan untuk mendapatkan lapisan putih mengkilap. Untuk menghasilkan lapisan yang mengkilap. Dijumpai adanya pitting jika: • Kurangnya bahan tambahan anti pitting • Jumlah asam borat terlalu rendah • Sumber logam pelapis terlalu sedikit • Keasaman terlalu tinggi • Pengadukan tidak sesuai • Adanya pengotor dalam elektrolit 3.

selama proses pelapisan. anoda akan mengeluarkan kotoran (berupa endapan). Brightener kelas I biasanya berupa napthalena disulfonic acid atau alkyl napthalena disulfonic acid. maka akan timbul tegangan sisa yang cukup tinggi dan kerapuhan pada lapisan. Untuk menjaga agar kualitas lapisan tetap mengkilap maka selain pengadukan (agitasi). Oleh karena itu perlu dilakukan pembungkusan anoda dengan bahan polypropilene. Selain itu. penyaringan larutan juga harus dilakukan secara kontinyu. Kedua brightener tersebut harus bersama-sama digunakan dalam elektrolit sebab jika hanya brightener kelas I saja yang digunakan. sedangkan brightener kelas II biasanya mengandung garam logam atau senyawa organik tak jenuh.kilapan seperti cermin. Nickel electrodeposition data Proses Elektroplating Cu. Ni-Cr dan Zn Page 14 of 26 .

Decorative nickel-plus-chromium coatings on steel Standards and Recommended Thicknesses. Ni-Cr dan Zn Page 15 of 26 . ASTM B 456 Other nickel plating solutions and some properties of the deposits Proses Elektroplating Cu.

atau fasilitas proses pelapisan kontinyu. dibagi menjadi empat klasifikasi yang berbasis pada sianida.5 mil) setara dengan ketebalan lapisan nikel atau lapisan katodik lainnya. yaitu: • larutan sianida • larutan alkalin non sianida • dan larutan asamklorid.3. • Jika dibandingkan dengan logam lain adalah pelapisan seng relatif murah dan dapat diterapkan di/dalam barrel. walaupun lebih tidak tahan lama dibandingkan lapisan nikel. tetapi cukup memberikan suatu perlindungan terhadap karat (korosi) dan biaya proses yang jauh lebih murah. Ni-Cr dan Zn Page 16 of 26 . Jenis Larutan: Pelapisan seng komersial. oleh karena itu dapat menjadi lapisan protektif dengan ketebalan antara 7 to 15 mikron (0. yaitu: • Larutan seng sianida reguler • Larutan midcyanide atau larutan dengan konsentrasi sianida. medium • Larutan sianida-rendah • dan latutan seng Microcyanide Tabel 1 menunjukkan komposisi umum dan syarat-syarat operasi untuk sistem ini. • Proses pelapisan seng dilakukan dengan menggunakan listrik. • Lapisan seng. Larutan Seng Sianida Larutan seng sianida.3 PELAPISAN ZN Karakteristik: • Seng bersifat anodik terhadap besi & baja. maka sesudah proses pelapisan (plating) diberikan suatu lapisan konversi (kromatasi) atau pernis bening (atau keduanya). dan terlihat abuabu setelah pelapisan.3 to 0. Untuk menghasilkan lapisan seng yang terang sebagai lapisan dekoratif. Proses Elektroplating Cu. dapat menggunakan sistem larutan yang cukup berbeda. tangki/tank.

Tabel 1. Komposisi dan prameter operasi dari larutan seng sianida

Proses Elektroplating Cu, Ni-Cr dan Zn

Page 17 of 26

Standar Larutan Seng Sianida • Perlu pembersihan permukaan yang lebih baik dari pada sistem lain. • Larutan seng Sianida adalah benar-benar fleksibel, dan berbagai macam komposisi larutan dapat memenuhi persyaratan pelapisan seng. Sistem larutan seng sianida tidak bersifat merusak ke/pada peralatan, sehingga tangki/tank dan keranjang anoda yang terbuat dari baja dapat digunakan untuk sistim larutan ini, pada hakekatnya dapat mengurangi investasi awal pabrik. • Sistem sianida juga mempunyai sejumlah kerugian, mencakup tingkat keracunan. (dengan kekecualian larutan perak atau cadmium sianida), larutan seng sianida standar yang berisi 90 g/L (12 oz/gal) dari total sodium sianida merupakan larutan yang berpotensi paling beracun dalam industri pelapisan. Bahaya terhadap kesehatan dari larutan sianida konsentrasi tinggi ini memerlukan biaya tambahan dalam memperlakukan limbah sianida, sehingga alasan primer inilah untuk menggunakan larutan sianida dengan konsentrasi lebih rendah atau diganti dengan menggunakan larutan non sianida atau asam, walaupun teknologi untuk penanganan limbah larutan sianida sangat telah berkembang, tetapi memerlukan biaya untuk awal penanganan pabrik mungkin saja lebih besar dari biaya instalasi proses pelapisannya. • Kerugian Lain adalah konduktivitas larutan yang relatif lebih rendah. Konduktivitas larutan sianida pada hakekatnya lebih rendah dari larutan asam. • Efisiensi proses pelapisan dari sistem sianida, sangat bervariasi tergantung pada beberapa faktor-faktor seperti temperatur larutan, konsentrasi sianida, dan kerapatan arus. Di/dalam instalasi proses sistim barrel, kerapatan arusnya sampai dengan 2.5 A/dm2 (25 A/ft2 ) dengan efisiensi dapat mencapai 75 sampai 90%. Di/dalam instalasi proses sistim rak, efisiensinya di bawah 50% pada kerapatan arus di atas 6 A/dm2 (60 A/ft2 ). Larutan Seng Midcyanide Larutan sianida standar menghasilkan throwing and covering power yang baik sekali. Kemampuan larutan melapisi bahan pada kerapatan arus yang sangat rendah adalah lebih baik dari sistim larutan seng lainnya. Kemampuan ini tergantung pada komposisi larutan, temperatur, logam dasar (jenis bahan), dan penggunaan aditip. Konsentrasi jenis larutan ini ditunjukkan pada tabel 1.

Proses Elektroplating Cu, Ni-Cr dan Zn

Page 18 of 26

Karakteristik penyepuhan dari larutan midcyanide dan larutan sianida reguler, pada kenyataannya adalah sama. Kelemahan Satusatunya dari larutan midcyanide ini dibandingkan dengan larutan standar, adalah toleransi terhadap pengotor yang sangat rendah dan preparasi permukaan yang harus sangat baik. Kelemahan ini adalah jarang ditemui dalam praktek di pabrik. Lebih besar proses pembilasan, pada hakekatnya adalah lebih sedikit dragout, dan menghemat persiapan larutan, biaya pemeliharaan, dan biaya proses sehingga menjadi keunggulan dari jenis larutan ini. Larutan Seng Low-cyanide • Dioperasikan pada kira-kira 6 sampai 12 g/L (0.68 sampai 1.36 oz/gal) sianida sodium dan logam seng. Larutan ini karakteristiknya berbeda dengan jenis midcyanide dan sianida standar. Aditip, secara normal digunakan di/dalam larutan reguler dan sianida midstrength, tetapi tidak berfungsi dengan baik pada larutan sianida rendah, sehingga brighteners untuk larutan Sianidarendah menggunakan brightener khusus. • Larutan seng sianida rendah, lebih sensitif temperatur dibandingkan larutan reguler atau midcyanide. Efisiensi larutan jenis ini adalah sama dengan larutan sianida reguler pada awalnya, tetapi itu cenderung menyebabkan pengelupasan (terutama pada/di kerapatan arus yang lebih tinggi). Jenis larutan ini memiliki throwing power and covering power yang sedikit lebih rendah dibandingkan dengan larutan midcyanide standar. Larutan lowcyanide lebih tidak sensitif terhadap pengotor dibandingkan larutan standar atau midcyanide. Pengotor dari logam lebih banyak tidak larut pada larutan dengan konsentrasi sianida yang lebih rendah. Larutan jenis ini banyak digunakan secara ekstensif untuk proses pelapisan seng sistim rak barang-barang kawat. Tidak seperti sistem sianida lain, larutan sianidarendah tidak sensitif terhadap penambahan sulfida untuk mengurangi pengotor bahkan dapat mengurangi kecerahan lapisan dan kecepatan proses pelapisan. Larutan Seng Microcyanide secara esensial merupakan larutan seng alkalin noncyanide. Proses pelapisan seng dengan lmenggunakan larutan alkalin ini relatif cukup sulit, Proses Elektroplating Cu, Ni-Cr dan Zn Page 19 of 26

itu bertujuan untuk dapat meniadakan atau sepenuhnya mengeliminasi sianida.3 oz/gal) akan menghasilkan lapisan berwarna abu-abu dop dan tidak rata.26 oz/gal). Larutan ini menggunakan logam seng: 7. 2.5 sampai 12 g/L (1. Ni-Cr dan Zn Page 20 of 26 . Meningkatnya konsentrasi logam hingga di atas 17 g/L (2.sehingga ditambahkan sedikit sianida minimal 1. sebagai suatu aditip yang dapat meningkat kecerahan hasil lapisan. Table 2 Komposisi & parameter proses dari larutan seng alkaline noncyanide Larutan alkalin noncyanide relatif murah proses & pemeliharaannya. Jika. penambahan aditip perlu dilakukan untuk menyelesaikan masalah ini.0 sampai 1. seperti yang diperlihatkan pada Gambar. maka efisiensi turun sampai dibawah 60% pada kerapatan arus ini.0 g/L (0. seperti diperlihatkan pada Gambar. Noncyanide Alkalin seng adalah satu larutan yangrelatif praktis.6 oz/gal) digunakan pada3 A/dm2 (30 A/ft2 ) yang dapat menghasilkan suatu lapisan seng yang terang/cerah dengan efisiensi kira-kira 80%. Proses Elektroplating Cu. rapat arus menurun. sehingga. Bagaimanapun. Jika konsentrasi logam turun hingga 2 g/L (0. Meningkatkan konsentrasi hidroksida sodium akan meningkatkan efisiensi. konsentrasi yang terlalu tinggi maka akan menyebabkan penumpukkan lapisan pada daerah sudut atau sisi.13oz/gal). 1.

5 g/L (1 oz/gal). 150 g/L (20 oz/gal) NaOH. Segitiga Kosong. Segi Empat 11 g/L (1.0 oz/gal) Zn.0 oz/gal) Zn.Gambar. Na2 CO3 .5 oz/gal) Zn.11 g/L (1. 1 Effisiensi arus pada katoda katoda sebagai fungsi dari konsenrasi logam seng dari larutan seng alkalin noncyanide.5 g/L (1. 15 g/L (2 oz/gal) Gambar. 150 g/L (20 oz/gal) NaOH.5 oz/gal) Zn. 75 g/L (10 oz/gal) NaOH. 150 g/L (20 oz/gal) NaOH.15 g/L (2. Temperature: 26 °C (77 °F). •: 7. 110 g/L (15 oz/gal) NaOH. NaOH. Segitiga Pejal. 80 g/L (11oz/gal). : Lingk-7.Zn. Ni-Cr dan Zn Page 21 of 26 . 2 Pengaruh konsentrasi logam seng & sodium hidroksida terhadap efisiensi katoda dari larutan noncyanide. Proses Elektroplating Cu.

dan berbagai kesulitan pemeliharaan larutan.Temperatur Larutan seng Sianida dapat dioperasikan pada temperatur 12 sampai 55 °C (54 sampai 130 °F). Umumnya. Temperatur larutan sangat berpengaruh dalam sistem seng sianida. hal ini dapat menyebabkan rendahnya throwing power dari larutan. Mengoperasikan larutan pada temperatur yang relatif tinggi. terutama di atas 3 A/dm2 (30 A/ft2 ). permukaan akhir yang diinginkan dan karakteristik larutannya. sehingga temperatur optimum perlu ditentukan. effisiensi kira-kira 90% pada 2. biaya operasional lebih tinggi. 3. Proses Elektroplating Cu. Pada sistim rak efisiensi arusnya akan sangat bervariasi pada kerapatan arus yang relatif tinggi. Pengaruh adari konsentrasi logam seng.5 /dm2 (25 A/ft2 ) 50% pada 5 A/dm2 (50 A/ft2 ). Temperatur operasi ini diberikan tergantung pada jenis benda kerja. Ni-Cr dan Zn Page 22 of 26 . Pengaruh meningkatnya temperatur Larutan:          Meningkatkan efisiensi katode Meningkatkan konduktivitas larutan Meningkatkan karat (korosi) pada anoda Menghasilkanlapisan yang buram Mengurangi daya liput (covering power) Mengurangi throwing power Meningkatkan penguraian sianida dan agen penambahan Menurunkan temperatur larutan akan mempunyai efek kebalikan. akan memberikan konduktivitas dan efisiensi pelapisan yang optimum. Peningkatan efisiensi dapat diperoleh dengan menggunakan Larutan dengan konsentrasi sianida yang lebih tinggi. tergantung pada temperatur dan kerapatan arus. Effisiensi Arus Pada proses pelapisan dengan larutan seng sianida sistim barrel. hidroksida sodium. effisiensi arusnya bervariasi antara 75 dan 93%. tetapi. konsumsi brightener lebih tinggi. pemakaian umum adalah antara 23 sampai 32 °C (73 sampai 90 °F). dan perbandingan cyanideseng terhadap efisiensi adalah diperlihatkan pada Gambar.

5 g/L (5.2 g/L (10 oz/gal) NaOH.75-sampai-1 Rasio dari NaCN terhadap seng.6 g/L (5. dan 90.2 g/L (10 oz/gal) NaOH. (c) Pengaruh dari konsentrasi NaOH.5 sampai 43. 5. Ni-Cr dan Zn Page 23 of 26 .7 g/L (2.2 g/L (20 and 10 oz/gal) NaOH. seperti diperlihatkan pada Gambar. secara normal jauh lebih tinggi dibandingkan larutan sianida atau proses alkalin. 2. keuntungan dari jenis larutan ini adalah: Merupakan satu-satunya larutan seng yang memiliki kemampuan untuk menghasilkan lapisan dengan tingkat kecerahan cukup baik dan paling brilian. 75.1. dan 8. 75.82.2. 3 Pengaruh komposisi larutan & rapat arus terhadap effisiensi dari larutan plating seng sianida. 75.75-sampai-1 rasio dari NaCN terhadap seng.1 g/L (8 oz/gal) Zn(CN). Komposisi dan parameter proses dari larutan seng Asam ditunjukkan pada tabel 5.4 dan 75. yang akan cukup sulit atau mustahil dilakukan dengan menggunakan larutan alkalin. Rasio 2.2 g/L (8. sehingga lebih effisien. 7.27. dan komponen yang di-carbonitrided. 43. Efisiensi larutan mencapai 95 sampai 98%. Temperatur: 30 °C (86 F).75-sampai-1 rasio dari NaCN terhadap seng. terutama pada kerapatan arus yang lebih tinggi. dan 12 oz/gal) Zn (CN). 54. (b) Pengaruh konsentrasi logam seng. 2. (a) Pengaruh dari rasio NaCN/Zn. Temperatur: 30 °C (86 °F) Larutan Asam Larutan seng asam berbasis pada seng klorid yang saat ini 40 sampai 50% dipergunakan di seluruh dunia. 60 g/L (8 oz/gal) Zn (CN). Proses Elektroplating Cu. Dapat diterapkan pada jenis bahan besi cor. 60. besi malleable. 10. dan 65. Temperatur: 30 °C (86 °F).   Mempunyai konduktivitas yang jauh lebih tinggi dibandingkan larutan alkalin.6.82 oz/gal) NaCN. 150.0-sampai-1 sampai 2. 17.8 oz/gal) NaCN.33 sampai 5.72 oz/gal) NaCN. 43.Gambar. 60.7.

harus dilapisi dengan bahan anti-karat. Semua peralatan yang berhubungan dengan larutan.  Penggetasan hidrogen lebih rendah dibandingkan dengan jenis larutan seng lainnya. Pengaruh negatif dari larutani asam chloride adalah larutan asam klorid adalah bersifat korosif. hanya terutama pada netralisasi pada pH 8. dan pegendapan logam seng jika diperlukan. seperti tangki/tank dan lainnya. Ni-Cr dan Zn Page 24 of 26 . Prosedur-prosedur penanganan limbahnya lebih rendah.5 sampai 9. Tabel 5 Komposisi & parameter operasi dari larutan seng asam chloride Proses Elektroplating Cu. karena efisiensi arusnya relatif tinggi.

Ni-Cr dan Zn Page 25 of 26 .Gambar. 5 Perbandingan effisiensi arus dari larutan plating seng Proses Elektroplating Cu.

maka aditip perlu segera dalam larutan untuk menghindari perubahan larutan seperti susu atau berawan yang menyebabkan ketidakseimbangan larutan. direkomendasikan dalam proses pelapisan sistim barrel. Pengontrolan Temperatur dalam larutan asam cukup diperlukan dibandingkan dalam larutan seng sianida. Pengadukkan ini dapat dilakukan melalui tiupan udara. Ketika larutan asam mencapai temperatur yang cukup panas. Ni-Cr dan Zn Page 26 of 26 . biasanya di bawah 21 °C (70 °F). sirkulasi larutan biasanya terpenuhi oleh adanya filter. Tabel 6 memperlihatkan komposisi dan kondisi operasi dari beberapa larutan seng fluoborate dan sulfate.Tabel 6 Komposisi dan parameter operasi dari larutan Seng Fluoborate dan sulfate Sejumlah larutan seng berbasis seng sulfate dan seng fluoborate banyak digunakan terutama untuk proses pelapisan seng produksi tinggi. Pada sistim rak. Mengoperasikan larutan asam klorid di atas temperatur yang direkomendasikan dapat menyebabkan kecerahan lapisannya menjadi rendah. pelapisan kontinyu dari kawat dan batang. menyebabkan larutan Proses Elektroplating Cu. Sirkulasi larutan. temperatur rendah. Parameter : Pengadukkan (agitasi). sehingga pendinginan harus disediakan untuk mempertahankan temperatur larutannya tetap sesuai dengan rekomendasi. direkomendasikan dalam pemakaian larutan asam klorid untuk mencapai kerapatan arus operasi yang praktis. yaitu biasanya 35 °C (95 °F). Sebaliknya.

Metoda Elektrometris adalah dengan menggunakan kertas pengujian. efisiensi arus katode rata-rata untuk larutan ini adalah kira-kira 95 sampai 98%. Endapan besi hidroksida disaring dengan menggunaka filter 15 mikron (0. Kalium permanganat dapat digunakan sebagai pengganti peroksida. pH ditingkatkan dengan penambahan kalium atau ammonium hidroksida.34 fl oz) .meng-kristal dan menyebabkan aditip organik memisahkan diri ke luar dari larutan. Ni-Cr dan Zn Page 27 of 26 . di/dalam sistim barrel akan tampak sebagai bintik hitam pada lapisan. 5. Dalam sistim barrel.6 mil) atau filter yang lebih kecil lagi. biasanya kira-kira 10 mL (0. Larutan seng asam klorid menghasilkan efisiensi arus katode yang tinggi seperti diperlihatkan pada Gambar. Pencemaran oleh besi biasanya tampak sebagai endapan gelap pada lapisan dengan kerapatan arus tinggi.) dari larutan. Penghilangan pengotor besi dalam larutan asam klorid dilakukan dengan cara mengoksidasi besi dengan menambahkan hidrogen peroksida pada larutan. Pencemaran larutan oleh unsur besi adalah suatu masalah umum pada larutan seng asam klorid. Effisiensi Arus Katoda.4 gal. Pengontrolan pH pada larutan seng asam biasanya dimonitor sehari-hari. Penurunan konsentrasi peroksida adalah dengan penambahan 4 sampai 5 air. 30% peroksida hidrogen harus digunakan untuk setiap 100 L (26. pH diturunkan dengan penambahan larutan asam hidroklorik. Tidak ada larutan seng lainnya yang benar-benar berefisiensi tinggi pada kerapatan arus tinggi yang dapat meningkatkan produktivitas 15 sampai 50%. ketika memerlukan. beban arus bisa berlipat ganda. Proses Elektroplating Cu. di atas itu dapat diperoleh dengan larutan sianida.

Ni-Cr dan Zn Page 28 of 26 .5 mil) Proses Elektroplating Cu.Tabel 8 Perkiraan umur pakai komponen yang dilapis seng pada berbagai kondisi lingkungan Tabel 9 Applikasi dari plating seng pada ketebalan 7 sampai 13 mikron (0.3 sampai 0.

UNIT 4 ANODIZING DAN PEWARNAAN ALUMINIUM Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 1 of 10 .

2 Maksud dan Tujuan. Meningkatkan ketahanan abrasi. Untuk keperluan dekoratif maka Aluminium yang telah diproses anodizing dilakukan proses pewarnaan (Colouring). Gambar 4. Dengan semakin majunya teknologi serta bahan-bahan teknik sehingga penggunaan bahan yang mempunyai kekuatan dan keuletan yang tinggi semakin banyak digunakan sekarang ini.4. Bersifat dielektrik. 4. Selain mempunyai kekuatan dan keuletan juga harus mempunyai berat jenis yang rendah dengan kata lain sifatnya ringan. Tujuan dari pada proses anodizing ini agar pada Aluminium dapat: Meningkatkan ketahanan korosi. Sebagai dekoratif. Maksud dari pada proses ini adalah untuk mengetahui sampai sejauh mana pengaruh dari parameter yang ada pada Aluminium setelah diproses dengan cara anodizing. Banyaknya pemakaian tersebut maka untuk penggunaan-penggunaan khusus Aluminium tersebut diproses kembali misalnya untuk diperlukan tahan oksidasi maka Aluminium tersebut direaksikan dengan bahan kimia yang sering disebut proses Anodizing.1 Latar Belakang. misalnya yang paling banyak digunakan adalah Aluminium (Al). Oleh karena itu penggunaan bahan-bahan yang ringan banyak sekali. Dari mulai alat-alat rumah tangga sampai pada bagian-bagian pesawat terbang.1 Warna daripada Aluminium Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 2 of 10 . Bertitik tolak dari hal tersebut maka penulis menyajikan karya tulis tentang teknologi proses anodizing pada Aluminium berdasarkan pada studi pustaka (teori dasar) dan nara sumber yang telah melakukan proses anodizing secara lengkap dan baik.

Proses lanjutan dari anodizing adalah proses pewarnaan secara elektrolitik.3 Teknologi Proses Anodizing. Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 3 of 10 . makin lama proses pencelupan warna yang diperoleh akan semakin gelap atau hitam. lapisan anodis yang dihasilkan oleh proses anodizing bersifat dielektrik. Warna yang dihasilkan dari proses ini berbeda tergantung pada waktu. Lapisan oksida Aluminium ini berfungsi sebagai pelindung dan akan tahan terhadap beberapa faktor antara lain: Tahan korosi. Dilain pihak anodizing adalah suatu proses elektrolisis untuk menebalkan dan menstabilkan lapisan oksida pada logam dasar. Anodizing merupakan suatu proses untuk menghasilkan lapisan pelindung dan untuk keperluan dekoratif.2 Skema Prisip Kerja Proses Anodizing. Isolasi listrik. Dari proses anodizing ini akan dihasilkan lapisan anodis yang merupakan lapisan tipis oksida Aluminium pada permukaan Aluminium. Dengan warna yang berbeda maka akan mempengaruhi ketebalan dari lapisan tersebut. Larutan elektrolit yang digunakan yaitu asam sulfat (H2SO4) dan menggunakan listrik arus searah (Direct Current/DC).4. Dan sebagai dekoratif. Tahan abrasi. V Sumber Listrik A (+) (-) Aluminium Pb Elektrolit Gambar 4. Proses anodizing merupakan proses elektrolisa didalam suatu larutan elektrolit.

dimana: V A : Voltmeter : Ampermeter Proses anodizing ini membentuk suatu lapisan oksida Aluminium pada permukaan batang-batang profil Aluminium dan lapisan ini dapat melindungi terhadap reaksi oksidasi.1. Pengaruh Temperatur dan Waktu Anodizing pada Warna 35 0C 30 60 90 120 180 43 0C 30 60 90 120 52 0C 30 60 Warna yang dihasilkan Abu-abu mengkilap Abu-abu Tua Kehitam-hitaman Hitam Hitam Pekat Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 4 of 10 . Hard Anodizing Conventional anodizing 7075 2014 2024 Gambar 4. Dalam proses anodizing pengaruh waktu sangat menentukan terhadap tebal tipisnya lapisan yang dihasilkan seperti yang terlihat pada gambar 4.3.3 Pengaruh Waktu Terhadap Lapisan Anodis yang dihasilkan Tabel 4.

Anodic film wt 50 0F (10 0C) 70 0F (21 0C) 122 0F (50 0C) Anodizing time Gambar 4. garpu dan klem Semua terbuat dari Aluminium dan digunakan untuk mengikat batang-batang profil Aluminium pada rak penggantung. Rak penggantung (hanger) Rak penggantung ini terbuat dari Aluminium dan digunakan sebagai tempat dari batang-batang profil Aluminium.4. c. Hubungan Antara Ketebalan Anodik dengan Waktu Terhadap Temperatur 4. Kawat. Unracking Peralatan pembantu untuk mengerjakan proses anodizing ini terdiri dari: a.4 Proses Produksi. Dalam mengerjakan proses anodizing ini ada 3 macam bagian operasi yang dilakukan. Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 5 of 10 . Anodizing 3.Variasi antara ketebalan anodik dan waktu anodizing dapat berhubungan pula dengan temperatur larutan yang dipakai seperti pada gambar 4. yaitu: 1. Over Head Crane Over head crane ini digunakan untuk mengangkat rak penggantung dari satu tangki proses ke tangki proses lainnya. b. Racking 2.4.

2.Anodizing Tank .Colouring Tank .Sealing Tank : 1 buah : 1 buah : 3 buah : 1 buah : 3 buah Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 6 of 10 . Prinsip kerja dari proses ini adalah batangbatang profil yang akan dianodizing diikatkan pada bagian sebelah kiri dan kanan rak penggantung dengan menggunakan kawat aluminium. Anodizing.Etching Tank .Degreasing Tank : 1 buah .Penjelasan masing-masing operasi : 1.Desmuting Tank .Water Rinse Tank : 12 buah . Racking. Pada proses ini jenis dan jumlah bak (tangki) yang digunakan adalah sebagai berikut : . Racking adalah proses pemasangan batang-batang profil Aluminium pada rak penggantung (hangaer).

oli dan lemak yang melekat pada batang profil Aluminium. Proses pengikisan kotoran pada batang profil Aluminium ini diakibatkan desakan uap panas sehingga Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 7 of 10 .5 Skema Proses Anodizing Urutan proses anodizing secara umum adalah sebagai berikut: a. Degreasing. Dengan menggunakan larutan alkaline clean yang dipanaskan sehingga uap panas yang dialirkan melalui pipa yang berada didasar tangki. seperti minyak. Degresing adalah proses penghilangan kotoran.Degreasing Pencucian Coastic Etch Pencucian Desmuting Pencucian Anodizing Pencucian Colouring Pencucian Sealing Produk Gambar 4.

menggerakkan larutan alkaline clean mengikis kotoran yang ada pada batang-batang profil Aluminium tersebut. Penghilangan goresan-goresan ini. Untuk menghilangkan goresan tersebut digunakan larutan soda api (NaOH) dengan temperatur pada tangki proses yaitu 55 0C. bahan pencuci yang digunakan adalah air bersih. Larutan yang digunakan untuk proses anodizing ini adalah Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 8 of 10 . Pencucian. Etching Fungsi dan proses ini adalah menghilangkan bagian-bagian yang kasar dan goresan-goresan yang ada pada permukaan batang profil tersebut. Untuk menghilangkan oksida-oksida logam berat tersebut digunakan larutan asam nitrat (HNO3) dengan konsentrasi 50 % atau asam sulfat (H2SO4) yang mempunyai konsentrasi 15 %. c. Air yang digunakan adalah air bersih. e. Proses anodizing ini membentuk suatu lapisan oksida Aluminium pada permukaan batang-batang profil Aluminium dan lapisan ini dapat melindungi terhadap reaksi oksidasi. Tujuan pencucian adalah untuk menghilangkan larutan yang tertinggal pada permukaan. Bahan pencuci yang digunakan adalah air bersih. Tujuan pencucian adalah untuk menghilangkan larutan NaOH yang masih ada pada permukaan. Pencucian. d. Anodizing Anodizing adalah proses elektrolisa didalam larutan elektrolit. b. Pencucian. Lapisan tersebut terdiri dari partikel antar logam berat atau oksida yang larut dalam alkaline. Sebagai kutub positif pada proses adalah batang-batang profil Aluminium dan katodanya terbuat dari logam Aluminium atau timah hitam. dimaksudkan agar batang-batang profil Aluminium ini mudah dialiri arus listrik pada waktu proses anodizing berlangsung. f. g. Desmuting Desmuting merupakan proses untuk menghilangkan lapisan smut yang diakibatkan oleh proses sebelumnya. Tujuan proses ini untuk menghilangkan zat pembersih yang tertinggal pada permukaan. Perbandingan dengan kedua larutan tersebut 1 : 5.

Tegangan . Larutan yang digunakan dalam proses ini adalah Cobalt. Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 9 of 10 . i. karena selama proses elektrolisa berlanngsung. H2SO4.Daya : 130 Ohm : 30 Volt : 3 Watt : 20 0C . Pencucian.asam sulfat (H2SO4) dengan konsentrasi 20 % ditambah aditive. Colouring merupakan proses pewarnaan secaara elektrolitik.Temperatur proses Reaksi kimia pada proses ini berlangsung sebagai berikut : H2SO4 Katoda : Anoda : 2H+ + 2e SO422SO4 4 Al + 3O2 2H+ + SO42H2 SO4 + 2e 2SO3 + O2 2Al2O3 Pelapisan Aluminium denngan oksidanya berlangsung terus menerus selama proses elektrolisa dijalankan sebab Al2O3 yang terbentuk tidak menghalangi reaksi dengan oksida aktif.Hambatan . Pewarna (Colouring). Warna yang dihasilkan dariproses ini tergantung pada waktu. Tin Sulfat dan additive dengan temperatur proses 20 0C. Tujuan dari pewarnaan ini adalah untuk memperindah batang-batang profil Aluminium. semakin lama proses pewarnaan berlangsung maka menghasilkan warna yang semakin gelap atau hitam. Bahan pencuci yang digunakan adalah air bersih. Proses ini dilakukanuntuk menghilangkan larutan H2SO4 yang masih ada pada permukaan batang-batang profil Alluminium. Pada proses elekrolisa ini digunakan: . Pencucian. j. oksigen yang terikat pada senyawa Aluminium Al2O3 akan berpindah kebatang profil Aluminium yang sebelah dalam untuk membentuk Al2O3 yang baru. h.

Sebelum di-sealing Sesudah di-sealing Gambar 4. H2O Temperatur pemanasan pada tangki proses digunakan 98 0C. Bahan pencuci yang digunakan adalah air bersih. Bagian terakhir dari proses anodize adalah sealing. Sealing. Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 10 of 10 .Tujuan proses ini adalah untuk menghilangkan kotoran-kotoran yang masih ada pada permukaan. Reaksi kimia dari proses sealing dapat dilihat sebagai berikut : Al2O3 + H2O Al2O3 . Prinsip dari proses sealing ini adalah proses antara oksida Aluminium dengan air yang membentuk oksida Aluminium mono hidrat. Unracking adalah proses melepaskan batang-batang profil Aluminium yang telah dianodizing dari rak penggantung. k.6 Mekanisme Penyempitan Akibat dari Proses Sealing 3. Karena hidrasi yang terjadi pada proses ini akan merubah oksida Aluminium anhidrat menjadi oksida Aluminium hidrat. Proses sealing ini dimaksudkan untuk menstabilkan lapisan anodize (Al2O3). Unracking. Lamanya proses sealing ini tergantung tebalnya batang aluminium yang dianodize. Sealing adalah proses penyempitan pori-pori dari logam Aluminium yang telah dianodize.

Siapkan larutan asam sulfate 20% dari larutan yang akan di buat. Siapkan additive (Asam Oksalat) 14 – 18 gr/lt. Masukkan air sesuai dengan larutan yang akan kita buat Tambahkan larutan asam sulfate sesuai dg komposisi yg telah ditentukan Tambahkan additive 14 – 18gr Pasangkan katoda dengan menggunakan logam inert Anodizing dan Pewarnaan Aluminium Page 11 of 10 .CARA MELARUTKAN LARUTAN ANODISASI Siapkan gelas ukur sesuai dengan ukuran larutan yang akan kita buat.